4-(2-hydroxy-2-propyl)styrene | 3049-88-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-(2-hydroxy-2-propyl)styrene
• 英文别名: 2-(4-Vinylphenyl)propan-2-ol；2-(4-ethenylphenyl)propan-2-ol
• CAS: 3049-88-5
• 化学式: C₁₁H₁₄O
• 分子量: 162.232
• InChiKey: VXYFKTCNSCJZKY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.27
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(2-hydroxy-2-propyl)styrene 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 苯 为溶剂， 反应 3.0h， 以50%的产率得到4-isopropenylstyrene
  参考文献：
  名称：

  4-（α-烷基乙烯基）苯乙烯衍生物的活性阴离子聚合

  摘要：

  四种具有α-烷基乙烯基的双官能化苯乙烯衍生物的阴离子聚合反应已在 THF中 于-78°C下用由低聚（α-甲基苯乙烯基）锂和 叔 丁醇钾制备的引发剂进行 。本文使用的四种单体是4-异丙烯 基苯乙烯（ 4 ），3-异丙烯 基苯乙烯（ 5 ），2-异丙烯 基苯乙烯（ 6 ）和4-（α-异丙基乙烯基）苯乙烯（ 7 ）。发现在这种聚合条件下， 4 和 7 的乙烯基 选择性地聚合，并且异丙烯基和α-异丙基乙烯基保持完全完整，以提供稳定的活性阴离子聚合物。如所预期的，所得聚合物具有精确控制的链长和窄的分子量分布。更重要的是，它们在每个单体单元中还具有侧基异丙烯基和α-异丙基乙烯基，可以进一步修饰。另一方面， 5 或 6 的阴离子聚合 或多或少地进行，伴随着不希望的副反应，导致链支化，然后交联。讨论了异丙烯基对聚合反应的位置影响和可能发生副反应的原因。

  DOI：

  10.1007/s00706-006-0493-1
• 作为产物：
  描述：

  4-氯苯乙烯 在 magnesium 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 18.0h， 生成 4-(2-hydroxy-2-propyl)styrene
  参考文献：
  名称：

  4-（α-烷基乙烯基）苯乙烯衍生物的活性阴离子聚合

  摘要：

  四种具有α-烷基乙烯基的双官能化苯乙烯衍生物的阴离子聚合反应已在 THF中 于-78°C下用由低聚（α-甲基苯乙烯基）锂和 叔 丁醇钾制备的引发剂进行 。本文使用的四种单体是4-异丙烯 基苯乙烯（ 4 ），3-异丙烯 基苯乙烯（ 5 ），2-异丙烯 基苯乙烯（ 6 ）和4-（α-异丙基乙烯基）苯乙烯（ 7 ）。发现在这种聚合条件下， 4 和 7 的乙烯基 选择性地聚合，并且异丙烯基和α-异丙基乙烯基保持完全完整，以提供稳定的活性阴离子聚合物。如所预期的，所得聚合物具有精确控制的链长和窄的分子量分布。更重要的是，它们在每个单体单元中还具有侧基异丙烯基和α-异丙基乙烯基，可以进一步修饰。另一方面， 5 或 6 的阴离子聚合 或多或少地进行，伴随着不希望的副反应，导致链支化，然后交联。讨论了异丙烯基对聚合反应的位置影响和可能发生副反应的原因。

  DOI：

  10.1007/s00706-006-0493-1

文献信息

• Isoxazolines as Therapeutic Agents
  申请人：Calderwood David J.

  公开号：US20130023526A1

  公开（公告）日：2013-01-24

  The present invention provides compound of Formula (I) biologically active metabolites, pro-drugs, isomers, stereoisomers, solvates, hydrates and pharmaceutically acceptable salts thereof wherein the variables are defined herein. The compounds of the invention are useful for treating immunological conditions.

  本发明提供了化合物Formula（I）的生物活性代谢产物、前药、异构体、立体异构体、溶剂合物、水合物和其药学上可接受的盐，其中变量在此处定义。本发明的化合物对治疗免疫状况有用。
• Negative resist composition and resist pattern forming process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US10120279B2

  公开（公告）日：2018-11-06

  A negative resist composition comprising (A) a sulfonium compound of betaine type and (B) a polymer is provided. The resist composition is effective for controlling acid diffusion during the exposure step, exhibits a very high resolution during pattern formation, and forms a pattern with minimal LER.

  提供一种负性抗蚀组合物，包括（A）一种甜菜碱型的砜化合物和（B）一种聚合物。该抗蚀组合物在曝光步骤期间有效控制酸扩散，在图案形成期间具有非常高的分辨率，并形成具有最小LER的图案。
• CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20180180998A1

  公开（公告）日：2018-06-28

  A negative resist composition comprising a sulfonium compound having formula (A) and a base polymer is provided. The resist composition exhibits a high resolution during pattern formation and forms a pattern with minimal LER.

  提供一种负型光刻胶组合物，包括具有公式(A)的磺化物化合物和基础聚合物。该光刻胶组合物在图案形成期间表现出高分辨率，并形成具有最小LER的图案。
• RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20190010119A1

  公开（公告）日：2019-01-10

  The present invention provides a resist composition, including: (A) a sulfonium salt containing an anion and a cation, the cation including a partial structure shown by the following general formula (A1); and (B) a polymer compound containing a repeating unit shown by the following general formula (B1). The present invention provides a resist composition that causes few defects and is excellent in lithography performance, having regulated acid diffusion, in photolithography using a high energy beam as a light source, and a resist patterning process using this resist composition.

  本发明提供了一种抗蚀剂组合物，包括：（A）含有阴离子和阳离子的磺酸盐，其中阳离子包括以下通式（A1）所示的部分结构；以及（B）含有以下通式（B1）所示的重复单元的聚合物化合物。本发明提供了一种抗蚀剂组合物，其在使用高能量光束作为光源的光刻技术中，具有调节酸扩散的能力，能够引起较少的缺陷，并且在使用该抗蚀剂组合物进行抗蚀图案化过程中具有出色的光刻性能。
• Styrenic polymer containing polyisobutylene side-chains
  申请人：University of Ottawa

  公开号：US05210148A1

  公开（公告）日：1993-05-11

  Novel styrene derivatives are disclosed of the formula: ##STR1## wherein R.sub.1 and R.sub.2 are the same or different and each represents a saturated aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, and R.sub.3 is --OH, Cl, or a group of the formula --OR.sub.4 or ##STR2## wherein R.sub.4 represents a saturated aliphatic hydrocarbon group or a n aromatic hydrocarbon group. The functionalized styrene monomers I as well as polymers and copolymers incorporating such monomer units are useful as initiators, or precursors thereof, for the polymerization of isobutylene under cationic conditions to give graft copolymers containing both styrenic and isobutylenic units. These copolymers have commercial applications such as rubbers, coatings, and lubricants.

  揭示了一种新型苯乙烯衍生物，其化学式为：##STR1## 其中，R.sub.1和R.sub.2相同或不同，分别代表饱和脂肪烃基或芳香烃基，R.sub.3为--OH，Cl或--OR.sub.4的基团，或者为##STR2## 其中，R.sub.4代表饱和脂肪烃基或芳香烃基。这些官能化苯乙烯单体I以及包含这种单体单元的聚合物和共聚物可用作引发剂或其前体，用于阳离子条件下聚合异丁烯，从而得到含有苯乙烯和异丁烯单元的嫁接共聚物。这些共聚物具有橡胶、涂料和润滑剂等商业应用。