2,4-二乙基苯甲酸 | 104175-23-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 2,4-二乙基苯甲酸
• 英文名称: 2,4-diethylbenzoic acid
• 英文别名: 3,5-Diethyl-benzoesaeure；2,4-Diaethyl-benzoesaeure
• CAS: 104175-23-7
• 化学式: C₁₁H₁₄O₂
• 分子量: 178.231
• InChiKey: SQGIOBQKNXOJTC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,3-二乙基苯 在 三氯化铝 、 sodium hypobromide 作用下， 生成 2,4-二乙基苯甲酸
  参考文献：
  名称：

  The Beckman Rearrangement. VIII. The Influence of Alkyl Groups on the Rates of Rearrangement of Acetophenone Oximes¹

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01512a027

文献信息

• Preparation of aromatic and heteroaromatic carboxylic acids by catalytic ozonolysis
  申请人：——

  公开号：US20030216577A1

  公开（公告）日：2003-11-20

  A process for catalytically oxidizing alkylaromatic compounds of the formula (I) Ar—CH 2 —R where Ar is an optionally substituted, aromatic or heteroaromatic 5-membered or 6-membered ring or a ring system having up to 20 carbon atoms where Ar may optionally be fused to a C 1 -C 6 -alkyl group in which up to 2 carbon atoms may be replaced by a heteroatom, and R is hydrogen, phenyl, benzyl or heteroaryl, where the phenyl, benzyl or heteroaryl radicals may also be joined to Ar by a bridge, or R together with Ar forms an optionally substituted ring system which may contain one or more optionally substituted heteroatoms, to the corresponding aromatic or heteroaromatic carboxylic acids in a solvent with ozone in the presence of a transition metal catalyst and optionally in the presence of an acid at a temperature between −70° C. and 110° C. to the corresponding carboxylic acid.

  将式(I)中的烷基芳香化合物催化氧化为相应的芳香或杂芳羧酸的过程是在溶剂中，在存在过渡金属催化剂和可选地存在酸的情况下，利用臭氧将式(I)中的化合物氧化为相应的芳香或杂芳羧酸的过程。其中，式(I)中Ar为可选地取代的芳香或杂芳5-或6-成员环或具有多达20个碳原子的环系统，其中Ar可选地与一个C1-C6-烷基基团融合，其中最多有2个碳原子可被杂原子取代；R为氢、苯基、苄基或杂芳基，其中苯基、苄基或杂芳基基团也可以通过桥连接到Ar，或R与Ar一起形成一个可选地取代的环系统，该环系统可以含有一个或多个可选地取代的杂原子，反应温度在-70°C至110°C之间。
• INCLUSION COMPLEX CONTAINING EPOXY RESIN COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR ENCAPSULATION
  申请人：Ono Kazuo

  公开号：US20100179250A1

  公开（公告）日：2010-07-15

  It is to improve the storage stability of a sealant, to retain the flowability of the sealant when sealing, and to achieve an effective curing rate of the sealant by heating to be applicable as a sealant for delicate semiconductors. It is an epoxy resin composition for sealing a semiconductor, comprising the following component (A) and component (B). (A) an epoxy resin, (B) a clathrate complex comprising (b1) an aromatic carboxylic acid compound, and (b2) at least one imidazole compound represented by formula (II) (wherein R 2 represents a hydrogen atom, etc.; R 3 to R 5 represent a hydrogen atom, etc.).

  这是为了改善密封剂的储存稳定性，保持密封时密封剂的流动性，并通过加热实现密封剂的有效固化速率，以适用于精细半导体的密封剂。它是一种用于密封半导体的环氧树脂组合物，包括以下组分（A）和组分（B）。（A）环氧树脂，（B）包括（b1）芳香羧酸化合物和（b2）至少一种由式（II）表示的咪唑化合物的笼形复合物（其中R2表示氢原子等；R3至R5表示氢原子等）。
• CHROMAN DERIVATIVES AS TRPM8 INHIBITORS
  申请人：AMGEN INC.

  公开号：US20150031668A1

  公开（公告）日：2015-01-29

  Chroman compounds and derivatives of Formula I are useful inhibitors of TRPM8. Such compounds are useful in treating a number of TRPM8 mediated disorders and conditions and may be used to prepare medicaments and pharmaceutical compositions useful for treating such disorders and conditions. Examples of such disorders include, but are not limited to, migraines and neuropathic pain. Compounds of Formula I have the following structure: where the definitions of the variables are provided herein.

  公式I的铬化合物和衍生物是TRPM8的有用抑制剂。这些化合物可用于治疗许多TRPM8介导的疾病和情况，并可用于制备用于治疗这些疾病和情况的药物和制剂。这些疾病的例子包括但不限于偏头痛和神经病性疼痛。公式I的化合物具有以下结构：其中变量的定义在此提供。
• Photosensitive resin composition and photosensitive element using the resin composition
  申请人：Nichigo Morton Co Ltd

  公开号：EP0919870A1

  公开（公告）日：1999-06-02

  A photosensitive resin composition and a photosensitive element using the resin composition with excellent sensitivity and adhesion as well as high resolution and plating resistance. A photosensitive resin composition comprises (A) a polymer carrying carboxyl groups, (B) a compound carrying at least one ethylene-based unsaturated group in the molecule, and (C) a photopolymerization initiator. Component (B) contains at least 60 wt.% of methacrylate (B1), carrying at least one ethylene-based unsaturated group, with respect to the total amount of component (B). The amount of component (C) is in the range of 0.01-20 weight parts per 100 weight parts of components (A) (B), and components (C) contains 2-5 weight parts of lophine dimer (C1) and 0.1-2.0 weight parts of triphenylphosphine (C2) per 100 weight parts of components (A) (B).

  一种光敏树脂组合物和使用该树脂组合物的光敏元件，具有优异的灵敏度和附着力以及高分辨率和耐电镀性。光敏树脂组合物包括：(A) 含有羧基的聚合物；(B) 分子中含有至少一个乙烯基不饱和基团的化合物；(C) 光聚合引发剂。相对于组分（B）的总量，组分（B）含有至少 60 重量百分比的甲基丙烯酸酯（B1），其中至少含有一个乙烯基不饱和基团。组分(C)的用量为每 100 重量份组分(A)(B)0.01-20 重量份，组分(C)含有每 100 重量份组分(A)(B)2-5 重量份的洛芬二聚体(C1)和 0.1-2.0 重量份的三苯基膦(C2)。
• Verfahren zur Herrstellung von aromatischen und heteroaromatischen Carbonsäuren durch katalytische Ozonolyse
  申请人：DSM Fine Chemicals Austria Nfg GmbH & Co KG

  公开号：EP1362840A1

  公开（公告）日：2003-11-19

  Verfahren zur katalytischen Oxidation von alkylaromatischen Verbindungen der Formel (I)         Ar-CH3 in der Ar einen gegebenenfalls substituierten, aromatischen oder heteroaromatischen 5er- oder 6er-Ring oder ein Ringsystem mit bis zu 20 C-Atomen bedeutet, wobei Ar gegebenenfalls mit einer C1-C6-Alkylgruppe, bei der bis zu 2 C-Atome durch ein Heteroatom ersetzt werden können, anelliert sein kann, zu den korrespondierenden aromatischen oder heteroaromatischen Carbonsäuren, in einem Lösungsmittel mit Ozon in Gegenwart eines Übergangsmetallkatalysators und gegebenenfalls in Gegenwart einer Säure bei einer Temperatur zwischen - 70 °C und +70°C.

  式(I)烷基芳香族化合物的催化氧化工艺 Ar-CH3 其中 Ar 表示任选取代的芳香族或杂芳族 5 或 6 元环或最多有 20 个碳原子的环系，其中 Ar 可任选与 C1-C6 烷基融合，其中最多有 2 个碳原子可被杂原子取代、 在有过渡金属催化剂存在的情况下，也可选择在有酸存在的情况下，在-70°C 至 +70°C的温度下，在有臭氧存在的溶剂中，与相应的芳香族或杂芳香族羧酸反应。