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PhNHCH2CH2CH2CO2tBu | 1182827-51-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
PhNHCH2CH2CH2CO2tBu
英文别名
Tert-butyl 4-(phenylamino)butanoate;tert-butyl 4-anilinobutanoate
PhNHCH2CH2CH2CO2tBu化学式
CAS
1182827-51-5
化学式
C14H21NO2
mdl
——
分子量
235.326
InChiKey
PYPAWTJIERMJEF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.1
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    38.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    3

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    PhNHCH2CH2CH2CO2tBu3-氯-1,2-苯并异噻唑-1,1-二氧化物N,N-二异丙基乙胺 作用下, 以 1,4-二氧六环 为溶剂, 生成 PhNHCH2CH2CH2CO2tBu
    参考文献:
    名称:
    N-{3-[(1,1-dioxido-1,2-benzothiazol-3-yl)(phenyl)amino]propyl}benzamide analogs as potent Kv1.3 inhibitors. Part 1
    摘要:
    We report the synthesis and in vitro activity of a series of novel N-{3-[(1,1-dioxido-1,2-benzothiazol-3-yl)(phenyl)amino]propyl}benzamide analogs. These analogs showed potent inhibitory activity against Kv1.3. Several compounds, including compound 8b, showed similar potency to the known Kv1.3 inhibitor PAP-1 when tested under the IonWorks patch clamp assay conditions. (C) 2010 Published by Elsevier Ltd.
    DOI:
    10.1016/j.bmcl.2010.09.132
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文献信息

  • BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Hatakeyama Jun
    公开号:US20120141938A1
    公开(公告)日:2012-06-07
    A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.
    一种化学放大型光刻胶组合物,包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂,后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物,具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基,这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率,并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
  • Basic compound, chemically amplified resist composition and patterning process
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP2463714A1
    公开(公告)日:2012-06-13
    A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.
    一种化学放大抗蚀剂组合物由碱聚合物、酸发生器和胺淬灭剂组成,其形式为具有酸易变基团取代的羧基的β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或 5-氨基戊酸衍生物,曝光前后的碱性溶解率对比度高,形成的图案轮廓清晰,分辨率高,粗糙度小,焦距宽。
  • US8921026B2
    申请人:——
    公开号:US8921026B2
    公开(公告)日:2014-12-30
  • US9017922B2
    申请人:——
    公开号:US9017922B2
    公开(公告)日:2015-04-28
  • N-{3-[(1,1-dioxido-1,2-benzothiazol-3-yl)(phenyl)amino]propyl}benzamide analogs as potent Kv1.3 inhibitors. Part 1
    作者:Curt D. Haffner、Stephen A. Thomson、Yu Guo、Lee T. Schaller、Sharon Boggs、Scott Dickerson、Jeff Gobel、Dan Gillie、J. Patrick Condreay
    DOI:10.1016/j.bmcl.2010.09.132
    日期:2010.12
    We report the synthesis and in vitro activity of a series of novel N-3-[(1,1-dioxido-1,2-benzothiazol-3-yl)(phenyl)amino]propyl}benzamide analogs. These analogs showed potent inhibitory activity against Kv1.3. Several compounds, including compound 8b, showed similar potency to the known Kv1.3 inhibitor PAP-1 when tested under the IonWorks patch clamp assay conditions. (C) 2010 Published by Elsevier Ltd.
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