5-Butyryl-acenaphthen | 93433-44-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 5-Butyryl-acenaphthen
• 英文别名: 1-acenaphthen-5-yl-butan-1-one；1-Acenaphthen-5-yl-butan-1-on；1-(1,2-Dihydroacenaphthylen-5-yl)butan-1-one
• CAS: 93433-44-4
• 化学式: C₁₆H₁₆O
• 分子量: 224.302
• InChiKey: RLLAFRUVHLAKOC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.31
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-Butyryl-acenaphthen 在 盐酸 、 sodium tetrahydroborate 、 sodium dichromate dihydrate 、 溶剂黄146 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 4-(1-ethoxybutyl)naphthalic anhydride
  参考文献：
  名称：

  [EN] NOVEL NAPHTHALIMIDE SULFONATE DERIVATIVE, AND PHOTOACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION EACH COMPRISING SAME
  [FR] NOUVEAU DÉRIVÉ DE SULFONATE DE NAPHTHALIMIDE, ET PHOTOGÉNÉRATEUR D'ACIDE ET COMPOSITION DE PHOTORÉSINE LE COMPRENANT
  [KO] 신규한 나프탈이미드의 술폰산 유도체, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물

  摘要：

  본 발명은 나프탈이미드의 술폰산 유도체, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, i-line(365㎚) 파장의 광에 대한 흡광도가 우수하며, 유기 용매에 대한 용해성이 매우 높아 중합성 조성물 제조가 매우 용이하고, 열적 안정성이 좋으며, 양호한 산 발생율을 나타내는 나프탈이미드의 술폰산 유도체 화합물, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.

  公开号：

  WO2022145986A1
• 作为产物：
  描述：

  苊 、 丁酰氯 在 aluminum (III) chloride 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以70.26 %的产率得到5-Butyryl-acenaphthen
  参考文献：
  名称：

  [EN] NOVEL NAPHTHALIMIDE SULFONATE DERIVATIVE, AND PHOTOACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION EACH COMPRISING SAME
  [FR] NOUVEAU DÉRIVÉ DE SULFONATE DE NAPHTHALIMIDE, ET PHOTOGÉNÉRATEUR D'ACIDE ET COMPOSITION DE PHOTORÉSINE LE COMPRENANT
  [KO] 신규한 나프탈이미드의 술폰산 유도체, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물

  摘要：

  본 발명은 나프탈이미드의 술폰산 유도체, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, i-line(365㎚) 파장의 광에 대한 흡광도가 우수하며, 유기 용매에 대한 용해성이 매우 높아 중합성 조성물 제조가 매우 용이하고, 열적 안정성이 좋으며, 양호한 산 발생율을 나타내는 나프탈이미드의 술폰산 유도체 화합물, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.

  公开号：

  WO2022145986A1

文献信息

• Buu-Hoi; Cagniant, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1946, p. 123,130
  作者：Buu-Hoi、Cagniant

  DOI：——

  日期：——
• [EN] NOVEL NAPHTHALIMIDE SULFONATE DERIVATIVE, AND PHOTOACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION EACH COMPRISING SAME<br/>[FR] NOUVEAU DÉRIVÉ DE SULFONATE DE NAPHTHALIMIDE, ET PHOTOGÉNÉRATEUR D'ACIDE ET COMPOSITION DE PHOTORÉSINE LE COMPRENANT<br/>[KO] 신규한 나프탈이미드의 술폰산 유도체, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물
  申请人：[en]SAMYANG CORPORATION;[ko]주식회사 삼양사

  公开号：WO2022145986A1

  公开（公告）日：2022-07-07

  본 발명은 나프탈이미드의 술폰산 유도체, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, i-line(365㎚) 파장의 광에 대한 흡광도가 우수하며, 유기 용매에 대한 용해성이 매우 높아 중합성 조성물 제조가 매우 용이하고, 열적 안정성이 좋으며, 양호한 산 발생율을 나타내는 나프탈이미드의 술폰산 유도체 화합물, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.