2-Dimethylamino-ethanesulfonic acid isopropyl ester | 62872-83-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: 2-Dimethylamino-ethanesulfonic acid isopropyl ester
• 英文别名: Propan-2-yl 2-(dimethylamino)ethane-1-sulfonate；propan-2-yl 2-(dimethylamino)ethanesulfonate
• CAS: 62872-83-7
• 化学式: C₇H₁₇NO₃S
• 分子量: 195.283
• InChiKey: NLXGSURAZUSSPC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  55
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  氟磺酸甲酯 、 2-Dimethylamino-ethanesulfonic acid isopropyl ester 生成
  参考文献：
  名称：

  S N 2'催化和生成硫

  摘要：

  用和叔胺的混合物通过醇Ethenesulphonyl氯化物发生反应小号Ñ胺的2'攻击，以形成带正电的sulphene然后给出ethenesulphonate和2-三烷基ammonioethanesulphonate酯的混合物。

  DOI：

  10.1039/c39760001011
• 作为产物：
  描述：

  isopropyl ethenesulfonate 、 二甲胺 生成 2-Dimethylamino-ethanesulfonic acid isopropyl ester
  参考文献：
  名称：

  S N 2'催化和生成硫

  摘要：

  用和叔胺的混合物通过醇Ethenesulphonyl氯化物发生反应小号Ñ胺的2'攻击，以形成带正电的sulphene然后给出ethenesulphonate和2-三烷基ammonioethanesulphonate酯的混合物。

  DOI：

  10.1039/c39760001011

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND COMPOUND
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20200102270A9

  公开（公告）日：2020-04-02

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer including a first structural unit that includes a first acid-labile group; a radiation-sensitive acid generator; and a compound represented by formula (1). n is 1 or 2. R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms in a case in which n is 1. R 1 represents a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms in a case in which n is 2. R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. E represents a group represented by formula (i). R 2 and E may taken together represent a ring structure having 3 to 20 ring atoms together with the nitrogen atom. X represents a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. R 3 represents a second acid-labile group.