4-bromophenyl methacrylate | 36889-09-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: 4-bromophenyl methacrylate
• 英文别名: methacrylic acid-(4-bromo-phenyl ester)；Methacrylsaeure-(4-brom-phenylester)；4-Bromophenyl 2-methylprop-2-enoate；(4-bromophenyl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 36889-09-5
• 化学式: C₁₀H₉BrO₂
• 分子量: 241.084
• InChiKey: VMLATLXXUPZKMJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-bromophenyl methacrylate 在 aluminum (III) chloride 、 lithium aluminium tetrahydride 、 四(三苯基膦)钯 、 正丁基锂 、 sodium ethanolate 、 sodium carbonate 作用下， 以 四氢呋喃 、 1,4-二氧六环 、 乙醇 、 正己烷 、 甲苯 为溶剂， 反应 90.0h， 生成 bis(4-(3,5-di-tert-butylphenyl)-7-methoxy-2-methylindenyl)dimethyl silane
  参考文献：
  名称：

  用于丙烯的异丁二烯和区域特异性聚合的超硬金属茂：寻找完美的聚丙烯螺旋

  摘要：

  完美的聚丙烯：提出了一种通用的合成路线，该路线可生成2、4和7个取代的双茚基茂金属（Zr，Hf），即使在高温下也能提供刚性的，因此高度立体和区域选择性的聚合催化剂。尤其是，f茂能够生产具有极高的熔融转变温度的全同立构聚丙烯，所述熔融转变温度超过170℃，且分子量超过5000000g mol -1。

  DOI：

  10.1002/chem.201103547
• 作为产物：
  描述：

  4-溴苯酚 、 甲基丙烯酰氯 以 吡啶 、 二氯甲烷 为溶剂， 以66%的产率得到4-bromophenyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  用于丙烯的异丁二烯和区域特异性聚合的超硬金属茂：寻找完美的聚丙烯螺旋

  摘要：

  完美的聚丙烯：提出了一种通用的合成路线，该路线可生成2、4和7个取代的双茚基茂金属（Zr，Hf），即使在高温下也能提供刚性的，因此高度立体和区域选择性的聚合催化剂。尤其是，f茂能够生产具有极高的熔融转变温度的全同立构聚丙烯，所述熔融转变温度超过170℃，且分子量超过5000000g mol -1。

  DOI：

  10.1002/chem.201103547

文献信息

• CATALYSTS
  申请人：BOREALIS AG

  公开号：US20150344596A1

  公开（公告）日：2015-12-03

  A catalyst comprising (i) an asymmetric complex of formula (I) wherein M is zirconium or hafnium; each X is a sigma ligand; L is a divalent bridge selected from —R′ 2 C—, —R′ 2 C—CR′ 2 —, —R′ 2 Si—, —R′ 2 Si—SiR′ 2 —, —R′ 2 Ge—, wherein each R′ is independently a hydrogen atom, C1-C20-alkyl, tri(C1-C20-alkyl)silyl, C6-C20-aryl, C7-C20-arylalkyl or C7-C20-alkylaryl; R 2 and R 2′ are each independently linear C 1-10 hydrocarbyl; R 5 and R 5′ are each independently hydrogen or a C1-20 hydrocarbyl group; R 6 and R 6′ are each independently hydrogen or a C1-20 hydrocarbyl group; R 7 is hydrogen or a C1-20 hydrocarbyl group or is ZR 3 ; Z is O or S, preferably O; R 3 is a C1-10 hydrocarbyl group; Ar is an aryl or heteroaryl group having up to 20 carbon atoms optionally substituted by one or more groups R 8 ; Ar′ is an aryl or heteroaryl group having up to 20 carbon atoms optionally substituted by one or more groups R 8′ ; and R 8 and R 8′ are each independently is a C1-20 hydrocarbyl group; with the proviso that at least one of R 6 or R 7 is not H; and (ii) a cocatalyst comprising a compound of a group 13 metal, e.g. boron.

  一种催化剂，包括(i) 公式（I）的不对称配合物，其中 M 是锆或铪；每个 X 是一个sigma 配体；L 是选择自—R′2C—，—R′2C—CR′2—，—R′2Si—，—R′2Si—SiR′2—，—R′2Ge—的二价桥，其中每个 R′ 独立地是氢原子，C1-C20-烷基，三(C1-C20-烷基)硅基，C6-C20-芳基，C7-C20-芳基烷基或 C7-C20-烷基芳基；R2 和 R2′ 各自独立地是线性 C1-10 碳氢基；R5 和 R5′ 各自独立地是氢或 C1-20 碳氢基团；R6 和 R6′ 各自独立地是氢或 C1-20 碳氢基团；R7 是氢或 C1-20 碳氢基团或是 ZR3；Z 是 O 或 S，优选 O；R3 是 C1-10 碳氢基团；Ar 是最多有 20 个碳原子的芳基或杂芳基团，可选地被一个或多个 R8 基团取代；Ar′ 是最多有 20 个碳原子的芳基或杂芳基团，可选地被一个或多个 R8′ 基团取代；而 R8 和 R8′ 各自独立地是 C1-20 碳氢基团；但至少有一个 R6 或 R7 不是 H；以及 (ii) 包括第 13 族金属化合物（例如硼）的协同催化剂。
• Bridged Metallocene Catalysts
  申请人：Borealis AG

  公开号：EP2532687A3

  公开（公告）日：2013-04-10

  A catalyst comprising a complex of formula (I) wherein M is zirconium or hafnium; each X is a sigma ligand; L is a divalent bridge selected from -R'2C-, -R'2C-CR'2-, -R'2Si-, -R'2Si-SiR'2-, -R'2Ge-, wherein each R' is independently a hydrogen atom, C1-C20-hydrocarbyl, tri(C1-C20-alkyl)silyl, C6-C20-aryl, C7-C20-arylalkyl or C7-C20-alkylaryl; each R2 is independently a C1-C20 hydrocarbyl radical optionally containing one or more heteroatoms from groups 14-16; each R5 is independently hydrogen or an aliphatic C1-20 hydrocarbyl group optionally containing one or more heteroatoms from groups 14-16; each R6 is independently hydrogen or an aliphatic C1-20 hydrocarbyl group optionally containing one or more heteroatoms from groups 14-16; or an R5 and R6 group on adjacent carbon atoms can be taken together to form a 5 membered saturated carbon ring which is optionally substituted by a group R4; each R7 is independently an aliphatic C1-20 hydrocarbyl group optionally containing one or more heteroatoms from groups 14-16 with at least 2 non-H atoms; each Ar group is independently an aryl or heteroaryl group having up to 20 carbon atoms optionally substituted by one or more groups R1; each R1 is a C1-20 hydrocarbyl group or two R1 groups on adjacent carbon atoms taken together can form a fused 5 or 6 membered non aromatic ring with the Ar group, said ring being itself optionally substituted with one or more groups R4; each R4 is a C1-20 hydrocarbyl group; and (ii) a cocatalyst comprising a compound of a group 13 metal, e.g. boron.

  一种催化剂，包括符号（I）的配合物，其中M为锆或铪；每个X为σ配体；L为从-R'2C-、-R'2C-CR'2-、-R'2Si-、-R'2Si-SiR'2-、-R'2Ge-中选择的二价桥，其中每个R'独立地为氢原子、C1-C20-烃基、三（C1-C20-烷基）硅基、C6-C20-芳基、C7-C20-芳基烷基或C7-C20-烷基芳基；每个R2独立地为一个C1-C20烃基基团，可选地含有来自第14-16族的一个或多个杂原子；每个R5独立地为氢或一个脂肪族C1-20烃基基团，可选地含有来自第14-16族的一个或多个杂原子；每个R6独立地为氢或一个脂肪族C1-20烃基基团，可选地含有来自第14-16族的一个或多个杂原子；或相邻碳原子上的一个R5和R6基团可以结合形成一个5成员饱和碳环，该碳环可选地由一个R4基团取代；每个R7独立地为一个脂肪族C1-20烃基基团，可选地含有来自第14-16族的一个或多个杂原子，至少有2个非氢原子；每个Ar基团独立地为一个最多含有20个碳原子的芳基或杂芳基基团，可选地由一个或多个R1基团取代；每个R1为一个C1-20烃基基团，或相邻碳原子上的两个R1基团可以结合形成一个融合的非芳香5或6成员环，与Ar基团一起，所述环本身可选地由一个或多个R4基团取代；每个R4为一个C1-20烃基基团；和（ii）包括第13族金属化合物的共催化剂，例如硼。
• 化合物、液晶组合物、液晶显示器
  申请人：石家庄诚志永华显示材料有限公司

  公开号：CN112812011A

  公开（公告）日：2021-05-18

  本发明涉及化合物、液晶组合物及液晶显示器。本发明的化合物在液晶组合物中作为自组装光配向剂(SAPA)，通过光配向具有正或负介电各向异性的液晶组合物能够制造具有沿面配向的液晶(LC)显示器件。本发明的式I所示化合物经聚合能够得到稳定性好的光控取向膜，能够起到配向层的绝缘与对液晶分子水平配向的作用，能够避免配向层制程，使液晶显示元件或液晶显示器的制程得到简化，提高生产效率。
• RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICONE HAVING ONIUM GROUP
  申请人：Shibayama Wataru

  公开号：US20110143149A1

  公开（公告）日：2011-06-16

  There is provided a resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film capable of being used as a hard mask or a bottom anti-reflective coating, or a resist underlayer film causing no intermixing with a resist and having a dry etching rate higher than that of the resist. A film forming composition comprising a silane compound having an onium group, wherein the silane compound having an onium group is a hydrolyzable organosilane having, in a molecule thereof, an onium group, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof. The composition uses as a resist underlayer film forming composition for lithography. A composition comprising a silane compound having an onium group, and a silane compound having no onium group, wherein the silane compound having an onium group exists in the whole silane compound at a ratio of less than 1% by mol, for example 0.01 to 0.95% by mol. The hydrolyzable organosilane may be a compound of Formula: R 1 a R 2 b Si(R 3 ) 4-(a+b) . A resist underlayer film obtained by applying the composition as claimed in any one of claims 1 to 14 onto a semiconductor substrate and by baking the composition.

  提供一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物，用于形成可用作硬掩膜或底部防反射涂层的抗蚀底层膜，或者是不与抗蚀剂混合且具有比抗蚀剂更高的干法刻蚀速率的抗蚀底层膜。该组合物包括具有离子基的硅烷化合物，其中具有离子基的硅烷化合物是一种可水解的有机硅烷，其分子中具有一个离子基、其水解产物或水解缩合产物。该组合物用作光刻的抗蚀底层膜形成组合物。组合物包括具有离子基的硅烷化合物和不具有离子基的硅烷化合物，其中具有离子基的硅烷化合物在整个硅烷化合物中的摩尔比例小于1％，例如为0.01到0.95％。可水解的有机硅烷可以是式的化合物：R1aR2bSi（R3）4-（a+b）。通过将所述组合物按照权利要求1至14中的任一项涂布到半导体基片上并烘烤所得到的抗蚀底层膜。
• Process for synthesis of polymer compositions, polymer compositions obtainable by the process, and use of the same
  申请人：RohMax Additives GmbH

  公开号：US20030060587A1

  公开（公告）日：2003-03-27

  The present invention relates to a process for synthesis of polymer compositions with reduced catalyst content, wherein ethylenically unsaturated monomers containing less than 0.5 wt % of ethylenically unsaturated monomers with at least one carboxylic group, sulfonic acid group and/or at least one phosphonic acid group relative to the total weight of the ethylenically unsaturated monomers are polymerized by means of initiators containing a transferable group of atoms and of one or more catalysts comprising at least one transition metal in the presence of ligands which can form a coordination compound with the metal catalyst or catalysts and, after the polymerization, the catalyst contained in the polymer is at least partly separated. For this purpose, the polymer composition is filtered, after the polymerization, in the presence of at least one filter aid which contains at least 0.5 wt%, relative to the total weight of the filter aid, of repeating units that contain at least one carboxylic acid group, sulfonic acid group and/or at least one phosphonic acid group.

  本发明涉及一种合成聚合物组合物的过程，其具有降低催化剂含量的效果。在该过程中，含有少于0.5重量％的至少含有一个羧基，磺酸基和/或至少一个膦酸基的乙烯基不饱和单体相对于乙烯基不饱和单体的总重量进行聚合，通过含有可转移原子团的引发剂和至少一种过渡金属的催化剂，在与可以形成与金属催化剂或催化剂配合物的配体一起的情况下进行聚合，在聚合之后，聚合物中的催化剂至少部分被分离。为此，在聚合之后，通过至少一种过滤助剂过滤聚合物组合物，该过滤助剂相对于总重量含有至少0.5重量％的重复单元，其中包含至少一个羧酸基，磺酸基和/或至少一个膦酸基。