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8-methoxycoumarin | 21524-16-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
8-methoxycoumarin
英文别名
8-Hydroxy-cumarin-acetat;8-acetoxy-coumarin;8-Acetoxy-cumarin;(2-Oxochromen-8-yl) acetate;(2-oxochromen-8-yl) acetate
8-methoxycoumarin化学式
CAS
21524-16-3
化学式
C11H8O4
mdl
——
分子量
204.182
InChiKey
CKIPBRUCWQZKKD-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.7
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.09
  • 拓扑面积:
    52.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    8-methoxycoumarin 以 solid 为溶剂, 以50%的产率得到Acetic acid (6aR,6bR,12aS,12bS)-10-acetoxy-6,12-dioxo-6a,12,12a,12b-tetrahydro-6H,6bH-5,11-dioxa-dibenzo[a,b]biphenylen-4-yl ester
    参考文献:
    名称:
    Topochemical photodimerization of 7-acetoxycoumarin: the acetoxy group as a steering agent
    摘要:
    在研究的各种取代香豆素中,只有7-乙酰氧基香豆素在晶体状态下被观察到光二聚反应,这一观察在"晶体工程"的背景下可能具有重要意义。
    DOI:
    10.1139/v82-308
  • 作为产物:
    描述:
    8-甲氧基香豆素 在 aluminum tri-bromide 、 作用下, 生成 8-methoxycoumarin
    参考文献:
    名称:
    Boehme, Chemische Berichte, 1939, vol. 72, p. 2130,2133
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Photoresist underlayer film-forming composition and pattern forming process
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP2813891A2
    公开(公告)日:2014-12-17
    In lithography, a composition comprising a novolak resin comprising recurring units of hydroxycoumarin is used to form a photoresist underlayer film. The underlayer film is strippable in alkaline water, without causing damage to ion-implanted Si substrates or SiO2 substrates.
    在光刻技术中,一种由包含羟基香豆素递归单元的酚醛树脂组成的组合物可用于形成光刻胶底层膜。该底层膜可在碱水中剥离,而不会对离子注入硅基底或二氧化硅基底造成损坏。
  • UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20140363956A1
    公开(公告)日:2014-12-11
    In lithography, a composition comprising a novolak resin comprising recurring units of hydroxycoumarin is used to form a photoresist underlayer film. The underlayer film is strippable in alkaline water, without causing damage to ion-implanted Si substrates or SiO 2 substrates.
  • US9620363B2
    申请人:——
    公开号:US9620363B2
    公开(公告)日:2017-04-11
  • Boehme, Chemische Berichte, 1939, vol. 72, p. 2130,2133
    作者:Boehme
    DOI:——
    日期:——
  • Topochemical photodimerization of 7-acetoxycoumarin: the acetoxy group as a steering agent
    作者:N. Ramasubbu、K. Gnanaguru、K. Venkatesan、V. Ramamurthy
    DOI:10.1139/v82-308
    日期:1982.8.15

    Among the various substituted coumarins investigated only 7-acetoxycoumarin is observed to photodimerize topochemically in the crystalline state and this observation may be of importance in the context of "crystal engineering".

    在研究的各种取代香豆素中,只有7-乙酰氧基香豆素在晶体状态下被观察到光二聚反应,这一观察在"晶体工程"的背景下可能具有重要意义。
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