【課題】得られるレジストパターンのCD均一性に優れたレジストパターンを製造することができる化合物、酸発生剤及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される化合物、酸発生剤及びレジスト組成物。[Q1及びQ2は夫々独立にF又はペルフルオロアルキル基;R1及びR2は夫々独立にペルフルオロアルキル基等;zは0〜6の整数;X1は、*−CO−O−、*−O−CO−又は*−O−;A1は2価の炭化水素基;R3は炭化水素基;Xa及びXbは夫々独立にO又はS;X2は2価の飽和炭化水素基;Aは式(I−A)で表される基]【選択図】なし
提供化合物、酸发生剂和光刻胶组合物,能够制备具有优异CD均一性的光刻胶图案。【解决手段】化合物、酸发生剂和光刻胶组合物,由式(I)表示。[Q1和Q2分别独立为F或
全氟烷基;R1和R2分别独立为
全氟烷基等;z为0~6的整数;X1为*−CO−O−、*−O−CO−或*−O−;A1为二价碳氢基;R3为碳氢基;Xa和Xb分别独立为O或S;X2为二价饱和碳氢基;A为由式(I-A)表示的基]【选择图】无