2-methoxy-1-{[(methoxy)methyl]oxy}-4-(1-methylethenyl)benzene | 854472-79-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-methoxy-1-{[(methoxy)methyl]oxy}-4-(1-methylethenyl)benzene
• 英文别名: 4-isopropenyl-2-methoxy-1-methoxymethoxy-benzene；2-methoxy-1-(methoxymethoxy)-4-prop-1-en-2-ylbenzene
• CAS: 854472-79-0
• 化学式: C₁₂H₁₆O₃
• 分子量: 208.257
• InChiKey: UPGHOOZDFBNEGS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  303.4±32.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.010±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  27.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-methoxy-1-{[(methoxy)methyl]oxy}-4-(1-methylethenyl)benzene 在 palladium on activated charcoal 氢气 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 16.0h， 以94%的产率得到2-methoxy-1-{[(methoxy)methyl]oxy}-4-(1-methylethyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  缺乏硝基基团的酶邻苯二酚O-甲基转移酶（COMT）的有效双底物抑制剂的合成和生物学评估

  摘要：

  抑制儿茶酚O-甲基转移酶（COMT）代表了一种可行的策略，可调节儿茶酚胺神经递质或其前体的分解代谢，并且在帕金森氏病的治疗中引起了极大的兴趣。本文中，我们报道了由硝基取代的配体1（K i  = 28 nM，表1）衍生的新一代有效的COMT双底物抑制剂的开发，尽管邻苯二酚上没有NO 2取代基，该抑制剂仍具有很高的生物活性。部分。它们的合成利用会聚方法的优势，其中制备了一系列功能化的邻苯二酚中间体（方案2–7））并偶联至常见的腺苷衍生的烯丙基胺结构单元（方案8）。通过体外酶促测定和动力学研究确定的新合成抑制剂的生物活性清楚地表明，双底物抑制剂的高抑制能力与邻苯二酚OH基团的p K a不相关。发现通过联芳基型连接与邻苯二酚连接的芳族残基最大程度地受益于与该酶的其他有利疏水相互作用，因此是1中NO 2基团的优选替代物。竞争性动力学抑制机制（图2）相对于所述辅因子结合位点被证实在所有情况下，支撑用于抑制剂双底物抑制模式2

  DOI：

  10.1002/hlca.200690179
• 作为产物：
  描述：

  1-[3-甲氧基-4-(甲氧基甲氧基)苯基]乙酮 在 正丁基锂 、 甲基三苯基溴化膦 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 反应 12.0h， 以86%的产率得到2-methoxy-1-{[(methoxy)methyl]oxy}-4-(1-methylethenyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  New COMT inhibitors for the treatment of depression and impaired cognition

  摘要：

  本发明涉及以下式I的化合物 其中R 1 如规范中定义 以及在生理条件下可水解的酯及其药用可接受的盐。本发明的化合物是COMT的抑制剂，因此对于COMT抑制有益的疾病的治疗是有用的。本发明还涉及治疗、控制或预防抑郁症、精神分裂症、帕金森病以及改善认知的疾病。

  公开号：

  US20050137162A1

文献信息

• COMT inhibitors for the treatment of depression and impaired cognition
  申请人：Hoffmann-La Roche Inc.

  公开号：US07319101B2

  公开（公告）日：2008-01-15

  The present invention relates to compounds of formula I wherein R1 is as defined in the specification and to esters thereof which are hydrolyzable under physiological conditions and to the pharmaceutically acceptable salts thereof. The compounds of the invention are inhibitors of COMT and, thus, are useful for the treatment of diseases for which COMT inhibition is beneficial. The invention further relates to the treatment, control, or prevention of diseases such as depression, schizophrenia, Parkinson's disease, and to improve cognition.

  本发明涉及公式I的化合物，其中R1如规范中所定义，并涉及在生理条件下可水解的酯及其药学上可接受的盐。本发明的化合物是COMT的抑制剂，因此对于COMT抑制有益的疾病的治疗非常有用。本发明还涉及治疗、控制或预防抑郁症、精神分裂症、帕金森病以及改善认知能力的疾病。
• COMT INHIBITORS
  申请人：F.HOFFMANN-LA ROCHE AG

  公开号：EP1697394B1

  公开（公告）日：2007-03-21
• PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：MASUYAMA Tatsuro

  公开号：US20110065040A1

  公开（公告）日：2011-03-17

  The present invention provides a photoresist composition comprising a resin, an acid generator and a compound represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C2-C12 alkyl group which can have one or more hydroxyl groups, etc., R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, etc., R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, etc., A 1 represents a single bond or a C1-C2 alkylene group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O—.
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：YAMAGUCHI Satoshi

  公开号：US20110171576A1

  公开（公告）日：2011-07-14

  A salt represented by the formula (I): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents *—CO—O-L a - or *—CH 2 —O-L b -, * represents a binding position to —C (Q 1 ) (Q 2 )-, L a and L b independently represent a C1-C15 divalent saturated hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, ring W 1 represents a C2-C36 nitrogen-containing heterocyclic group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O—, and Z 1⊕ represents an organic counter ion.
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20110200940A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  The present invention provides a salt represented by the formula (I): wherein R 1 and R 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, X 1 represents a C1-C17 divalent saturated hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO— and which can have one or more fluorine atoms, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 1+ represents an organic counter cation, and a photoresist composition containing the same.