1,3,4,6-四(丁氧基甲基)四氢咪唑并(4,5-d)咪唑-2,5(1H,3H)-二酮 | 15968-37-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑烷类
• 中文名称: 1,3,4,6-四(丁氧基甲基)四氢咪唑并(4,5-d)咪唑-2,5(1H,3H)-二酮
• 中文别名: 1,3,4,6-四丁氧甲基甘脲；1,3,4,6-四(丁氧基甲基)甘脲
• 英文名称: 1,3,4,6-tetrakis(butoxymethyl)tetrahydroimidazolo[4,5-d]imidazole-2,5(1H,3H)-dione
• 英文别名: 1,3,4,6-tetrakis(butoxymethyl)glycoluril；1,3,4,6-Tetrakis(butoxymethyl)tetrahydroimidazo(4,5-d)imidazole-2,5(1H,3H)-dione；1,3,4,6-tetrakis(butoxymethyl)-3a,6a-dihydroimidazo[4,5-d]imidazole-2,5-dione
• CAS: 15968-37-3
• 化学式: C₂₄H₄₆N₄O₆
• 分子量: 486.652
• InChiKey: UUOUGRUMSRMJHY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  >204 °C(lit.)
• 密度：
  1.07 g/mL at 25 °C(lit.)
• 闪点：
  >230 °F
• 溶解度：
  极性有机溶剂：水中的溶解度为

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  34
• 可旋转键数：
  20
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  84
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

安全信息

• 危险品标志：
  T
• 危险类别码：
  R45,R46
• WGK Germany：
  3
• 安全说明：
  S36/37/39,S45,S53

制备方法与用途

用途：交联剂适用于水性或溶剂型醇酸树脂、环氧树脂、环氧酯、聚酯及乙烯基聚合物，可应用于涂料、搪瓷和底漆。

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  四羟甲基甘脲 、 正丁醇 在 硝酸 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 16.0h， 以11%的产率得到1,3,4,6-四(丁氧基甲基)四氢咪唑并(4,5-d)咪唑-2,5(1H,3H)-二酮
  参考文献：
  名称：

  COATING COMPOSITION FOR USE WITH AN OVERCOATED PHOTORESIST

  摘要：

  有机涂层组合物，特别是用于与覆盖光阻的抗反射涂层组合物，其包括包括以下化学式（I）结构的交联剂组分。

  公开号：

  US20170059991A1

文献信息

• ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS WITH THERMAL ACID GENERATORS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20190085173A1

  公开（公告）日：2019-03-21

  New methods and substrates are provided that include antireflective compositions that comprise one or more thermal acid generators.

  提供了包括一个或多个热酸发生剂的防反射组分的新方法和基板。
• NOVOLAC RESIN AND RESIST FILM
  申请人：DIC Corporation

  公开号：US20180334523A1

  公开（公告）日：2018-11-22

  Provided are a novolac resin having developability, heat resistance, and dry etching resistance, and a photosensitive composition, a curable composition, and a resist film. A novolac resin including, as a repeating unit, a structural moiety represented by Structural Formula (1) or (2): (in the formula, Ar represents an arylene group, R 1 's each independently represent any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom, m's each independently represent an integer of 1 to 3, and X is any one of a hydrogen atom, a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group) in which at least one of X's present in the resin is any one of a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group.

  提供一种具有可开发性、耐热性和干法蚀刻抗性的新戊醛树脂，以及一种光敏组合物、可固化组合物和抗蚀膜。一种新戊醛树脂包括以下结构单元： （在公式中，Ar代表芳基，R 1 分别独立地代表氢原子、烷基、烷氧基和卤素原子中的任意一种，m分别独立地代表1至3的整数，X代表氢原子、三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种），树脂中至少有一个X是三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种。
• Polymer for Preparing Resist Underlayer Film, Resist Underlayer Film Composition Containing the Polymer and Method for Forming Resist Underlayer Film Using the Composition
  申请人：SK Innovation Co., Ltd.

  公开号：US20160311975A1

  公开（公告）日：2016-10-27

  Provided are a fluoreneol-based monomer, a polymer for preparing a resist underlayer film obtained therefrom, a resist underlayer film composition containing the polymer, and a method for forming a resist underlayer film using the resist underlayer film composition, wherein the fluoreneol-based monomer is represented by Chemical Formula 2 below:

  提供了一种基于芴醇的单体，用于制备抗蚀底层膜的聚合物，包含该聚合物的抗蚀底层膜组合物，以及使用该抗蚀底层膜组合物形成抗蚀底层膜的方法。其中，基于芴醇的单体由以下化学式2表示：
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。
• COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM
  申请人：NISSAN CHEMICAL CORPORATION

  公开号：US20190163063A1

  公开（公告）日：2019-05-30

  A composition for forming a resist underlayer film has excellent storage stability at normal temperature. A composition for forming a resist underlayer film for lithography including a nitrogen-containing compound having 2 to 6 substituents of the following Formula (1) which bond to nitrogen atoms in one molecule, a polymer, a compound that promotes a crosslinking reaction, and an organic solvent. The nitrogen-containing compound having 2 to 6 substituents of Formula (1) in one molecule is for example a glycoluril derivative of the following Formula (1A). In the formula, each R 1 is a methyl group or an ethyl group, and R 2 and R 3 are independently a hydrogen atom, a C 1-4 alkyl group, or phenyl group.

  一种用于形成抗蚀底层膜的组合物具有良好的常温储存稳定性。一种用于光刻的抗蚀底层膜的组合物包括具有以下式(1)中的2至6个取代基的含氮化合物，一种聚合物，一种促进交联反应的化合物和一种有机溶剂。其中，具有式(1A)的甘氨酰脲衍生物的每个R1是甲基基团或乙基基团，而R2和R3分别是氢原子、C1-4烷基或苯基。