4-Methyl-6-(trichlormethyl)-2-pyron | 30113-76-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡喃
• 英文名称: 4-Methyl-6-(trichlormethyl)-2-pyron
• 英文别名: 4-methyl-6-(trichloromethyl)-2H-pyran-2-one；4-methyl-6-(trichloromethyl)pyran-2-one
• CAS: 30113-76-9
• 化学式: C₇H₅Cl₃O₂
• mdl: MFCD00832732
• 分子量: 227.475
• InChiKey: NWTKBJNOJSTMMY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.285
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-Methyl-6-(trichlormethyl)-2-pyron 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 、 硫酸 、 sodium hydride 作用下， 以 四氯化碳 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 (Acetylamino)<6-(methoxycarbonyl)-2-oxo-2H-pyran-4-ylmethyl>malonsaeure-dimethylester
  参考文献：
  名称：

  Stoll, Gerhard; Frank, Juergen; Musso, Hans, Liebigs Annalen der Chemie, 1986, # 11, p. 1968 - 1989

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Reduction of 6-Trichloromethyl-2-pyrones with Metal Hydrides and with Zinc
  作者：E. Dunkelblum、M. Rey、Andr� S. Dreiding

  DOI：10.1002/hlca.19710540103

  日期：——

  Die vor kurzem beschriebenen 6-Trichlormethyl-2-pyrone wurden mit Zink und mit komplexen Metallhydriden reduziert. 6-Trichlormethylpyron (15) und drei an C4 verschieden alkylierte Derivate (5, 16 und 17) ergaben mit Zink in Eisessig die entsprechenden 6-Methyl-2-pyrone 18, 1, 19 und 20. Im Falle des 6-Trichlormethyl-4-(4′-methyl-pent-3′-en-yl)-2-pyrans (17) bildete sich auch 3,8,8-Trimethyl-5,6,7,

  模具6-三氯甲基-2-吡喃酮锌和金属配合物金属氢化物。6- Trichlormethylpyron（15）UND DREI verschieden alkylierte导数的C4（5,16 UND 17）ergaben MIT辛克在Eisessig模具entsprechenden 6-甲基-2-吡喃酮18 1，19 UND 20。Im Falle des 6-Trichloromethyl-4-（4'-methyl-pent-3'-en-yl）-2-pyrans（17）bildete sich auch 3,8,8-Trimethyl-5,6,7,8-四氢异豆香豆素（21）。
• Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0006627A2

  公开（公告）日：1980-01-09

  Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben. das (a) eine unter Einwirkung von aktinischer Strahlung. insbesondere UV-Licht, Säure bildende Verbindung und (b) eine Verbindung enthält, die mindestens eine Enoläthergruppe entnält, und deren Löslichkeit in einem flüßigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird. Der Enoläther ist bevorzugt eine Verbindung der ailgemeinen Formel I in der R, einen n-wertigen aliphatischen Rest mit wenigstens 2 Kohlenstoffatomen bedeutet. R2, R3 und R4 gleich oder verschieden sind und Wasserstoffatome. Alkyl- oder Arylreste bedeuten oder jeweils zu zweit zu einem gesättigten oder olefinisch ungesättigten Ring verbunden sind, und eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist. Das Gemisch wird in Form einer strahlungsempfindlichen Schicht bildmäßig bestrahlt und an den bestrahlten Stellen mit einem Entwickler ausgewaschen, so daß ein positives Reliefbild entsteht

  本文描述了一种辐射敏感混合物，它含有 (a) 在光辐射，特别是紫外线作用下会形成酸的化合物，以及 (b) 至少含有一个烯醇醚基团的化合物，在酸的作用下，该化合物在液体显影剂中的溶解度会增加。烯醇醚最好是通式 I 的化合物 其中 R 是至少有 2 个碳原子的正价脂族基。 R2、R3 和 R4 相同或不同，均为氢原子。是烷基或芳基，或各自成对连接形成饱和环或烯烃不饱和环，以及 是 1 至 4 的整数。 混合物以辐射敏感层的形式进行图像辐照，并用显影剂冲洗辐照区域，从而形成正浮雕图像。
• Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0184044A2

  公开（公告）日：1986-06-11

  Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch und ein daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Druckplatten und Photoresists beschrieben, das ein 1, 2-Chinondiazid oder eine Kombination aus 1.) einer unter Einwirkung von atkinischer Strahlung eine starke Säure bildenden Verbindung und 2.) einer Verbindung mit mindestens einer spaltbaren C-O-C-Bindung enthält, deren Löslichkeit in einem flüssigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, und als Bindemittel ein Polymeres mit seitenständigen vernetzenden Gruppen der Formel -CH20R enthält, worin R ein Wasserstoffatom, eine niedere Alkyl-, Acyl- oder Hydroxyalkylgruppe ist. Das Gemisch läßt sich nach dem Belichten und Entwickeln thermisch härten und ergibt eine Bildschablone mit sauberem Hintergrund.

  辐射敏感混合物、用其制备的记录材料和生产耐热浮雕记录的工艺 本文描述了一种辐射敏感混合物及其制备的记录材料，用于生产印版和光刻胶，该混合物包括 1, 2-重氮醌或其组合 1.) 在阿特金酸辐射下会形成强酸的化合物，以及 2.) 具有至少一个可裂解 C-O-C 键的化合物，其在液体显影剂中的溶解度在酸的作用下会增加、 并含有一种聚合物作为粘合剂，该聚合物具有-CH20R 式的悬垂交联基团，其中 R 为氢原子、低级烷基、酰基或羟烷基。该混合物在曝光和显影后可进行热固化，并生成具有干净背景的图像模板。
• Polymere Verbindungen und diese enthaltendes strahlungsempfindliches Gemisch
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0212439A2

  公开（公告）日：1987-03-04

  Es werden neue Polymere mit wiederkehrenden Einheiten der allgemeinen Formel I beschrieben, worin R ein Wasserstoff- oder Halogenatom, eine Cyanid­gruppe oder eine Alkylgruppe ist, R¹, R² und R³ gleich oder verschieden sind und Wasserstoff- ­oder Halogenatome, Alkyl-, Alkoxy- oder Alkoxycarbonylgruppen bedeuten, R⁴ ein Wasserstoffatom oder ein zweiwertiger Rest ist, A die zur Vervollständigung eines ein- oder zweikernigen aromatischen Ringsystems er­forderlichen Atome bedeutet und m 2 oder 3 ist. Die neuen Polymeren werden als Bindemittel in positiv arbeitenden strahlungsempfindlichen Aufzeichnungs­materialien eingesetzt.

  具有通式 I 循环单元的新型聚合物 其中 R 是氢原子或卤素原子、氰基或烷基、 R¹、R² 和 R³ 相同或不同，表示氢原子或卤素原子、烷基、烷氧基或烷氧羰基、 R⁴ 是氢原子或二价基、 A 表示完成单核或双核芳香环系统所需的原子，且 m 为 2 或 3。 这种新型聚合物可用作正工作辐射敏感记录材料的粘合剂。
• Hydroxypolyimide und daraus hergestellte hochtemperaturbeständige Positivphotoresists
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0300326A1

  公开（公告）日：1989-01-25

  Es werden Polyimide mit wiederkehrenden Einheiten der allgemeinen Formel I beschrieben, worin A der Rest einer Verbindung mit mindestens einem aromatischen Sechsring ist, wobei jede der vier Carbonylgruppen an ein anderes aromatisches Kohlenstoffatom von A gebunden ist und wobei jeweils zwei Carbonylgruppen an benachbarten Kohlenstoffatomen stehen, und B der Rest einer Verbindung mit mindestens einem aromatischen Sechsring und mindestens einer Hydroxygruppe ist, und ggf. bis zu 80 mol-% Einheiten entsprechender Struktur, in denen statt B ein Rest D mit mindestens einem aromatischen Sechsring, aber ohne Hydroxygruppen enthalten ist. Die Polyimide sind als alkalilösliche Bindemittel für hochtemperaturbeständige Photoresists und zur Herstellung von Schutz- und Planarisierungsschichten in der Photoresisttechnik geeignet.

  具有通式 I 循环单元的聚酰亚胺 其中 A 是具有至少一个芳香族六元环的化合物的残基，其中四个羰基分别与 A 的不同芳香族碳原子结合，且每两个羰基位于相邻的碳原子上，以及 B 是具有至少一个芳香六元环和至少一个羟基的化合物的基团、 以及最多 80 摩尔%的相应结构单元，其中取代 B 的自由基 D 具有至少一个芳香族六元环，但不含羟基。这些聚酰亚胺可用作耐高温光刻胶的碱溶性粘合剂，也可用于生产光刻胶技术中的保护层和平面层。