1-甲基-1H-苯并三唑-4-胺 | 27799-82-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并三唑类
• 中文名称: 1-甲基-1H-苯并三唑-4-胺
• 英文名称: 1-Methyl-4-amino-benzotriazol
• 英文别名: 4-Amino-1-methyl-1,2,3-benztriazol；1-methyl-1H-benzo[1,2,3]triazol-4-ylamine；1-methyl-1H-benzotriazol-4-ylamine；1-Methyl-1H-1,2,3-benzotriazol-4-amine；1-methylbenzotriazol-4-amine
• CAS: 27799-82-2
• 化学式: C₇H₈N₄
• mdl: MFCD18262377
• 分子量: 148.167
• InChiKey: YQOPKUFXAXHGRJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  368.5±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.42±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.4
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.142
• 拓扑面积：
  56.7
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-溴-4-氯喹啉 、 1-甲基-1H-苯并三唑-4-胺 以 乙醇 为溶剂， 反应 18.0h， 生成 6-bromo-N-(1-methyl-1H-benzo[d][1,2,3]triazol-4-yl)quinolin-4-amine
  参考文献：
  名称：

  Optimization of 4-Anilinoquinolines as Dengue Virus Inhibitors

  摘要：

  新兴病毒感染，包括那些由登革热病毒（DENV）和委内瑞拉马脑炎病毒（VEEV）引起的感染，构成了全球重大的健康挑战。在这里，我们报告了针对DENV和VEEV的一系列4-苯胺基喹啉类化合物库的制备和筛选工作。这一努力产生了一系列主导化合物，每个化合物占据着不同的化学空间，包括3-((6-溴喹啉-4-基)氨基)酚（12）、6-溴-N-(5-氟-1H-吲哚-6-基)喹啉-4-胺（50）和6-((6-溴喹啉-4-基)氨基)异吲哚啉-1-酮（52），对DENV感染的EC50值为0.63-0.69 µM。这些化合物库在几乎所有情况下表现出非常有限的毒性，CC50值大于10 µM。此外，主导化合物被筛选用于对抗VEEV，并在低个位数微摩尔范围内展示了活性，其中50和52的EC50分别为2.3 µM和3.6 µM。这里呈现的有希望的结果突显了进一步完善这一系列的潜力，以开发针对DENV、VEEV和潜在其他新兴病毒威胁的临床化合物。

  DOI：

  10.3390/molecules26237338
• 作为产物：
  描述：

  1-甲基-4-硝基苯并三唑 在 palladium on activated charcoal 氢气 作用下， 20.0 ℃ 、310.27 kPa 条件下， 反应 3.0h， 以100%的产率得到1-甲基-1H-苯并三唑-4-胺
  参考文献：
  名称：

  [1,2,3]三唑并[4,5-h]喹诺酮。新型的抗多药结核分枝杆菌菌株的有效抗结核药。

  摘要：

  在这项初步研究中，我们报告了3-甲基-9-取代-6-氧代-6,9-二氢-3H- [1,2,3]-三唑并[4,5-h]喹诺酮-碳含氧酸的活性和它们的酯类作为抗MDR结核分枝杆菌的新型抗感染药。在针对H37Rv和11种临床分离的结核分枝杆菌的抗结核筛选中，几种衍生物（1o，3a，c，i，j，p）的MIC（90）范围在0.5-3.2 microg / mL之间。3c没有显示出细胞毒性，并且被证明是对所有结核分枝杆菌菌株和受感染的人类巨噬细胞（J774-A1）表现出MIC（90）= 0.5 microg / mL的最有效衍生物。

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2007.06.064

文献信息

• Towards the Development of an In vivo Chemical Probe for Cyclin G Associated Kinase (GAK)
  作者：Christopher R. M. Asquith、James M. Bennett、Lianyong Su、Tuomo Laitinen、Jonathan M. Elkins、Julie E. Pickett、Carrow I. Wells、Zengbiao Li、Timothy M. Willson、William J. Zuercher

  DOI：10.3390/molecules24224016

  日期：——

  SGC-GAK-1 (1) is a potent, selective, cell-active chemical probe for cyclin G-associated kinase (GAK). However, 1 was rapidly metabolized in mouse liver microsomes by cytochrome P450-mediated oxidation, displaying rapid clearance in liver microsomes and in mice, which limited its utility in in vivo studies. Chemical modifications of 1 that improved metabolic stability, generally resulted in decreased GAK potency. The best analog in terms of GAK activity in cells was 6-bromo-N-(1H-indazol-6-yl)quinolin-4-amine (35) (IC50 = 1.4 μM), showing improved stability in liver microsomes while still maintaining a narrow spectrum activity across the kinome. As an alternative to scaffold modifications we also explored the use of the broad-spectrum cytochrome P450 inhibitor 1-aminobenzotriazole (ABT) to decrease intrinsic clearance of aminoquinoline GAK inhibitors. Taken together, these approaches point towards the development of an in vivo chemical probe for the dark kinase GAK.

  SGC-GAK-1 (1)是一种针对cyclin G相关激酶（GAK）的有效、选择性、细胞活性化学探针。然而，在小鼠肝微粒体中，1通过细胞色素P450介导的氧化迅速代谢，导致在肝微粒体和小鼠中迅速清除，从而限制了其在体内研究中的实用性。对1的化学修饰改善了代谢稳定性，但通常导致GAK效力降低。在细胞中GAK活性方面效果最好的类似物是6-溴-N-(1H-吲唑-6-基)喹啉-4-胺（35）（IC50 = 1.4 μM），在肝微粒体中显示出改善的稳定性，同时仍保持着在激酶组中的狭谱活性。作为对骨架修饰的替代方案，我们还探索了广谱细胞色素P450抑制剂1-氨基苯并三唑（ABT）的使用，以降低氨基喹啉GAK抑制剂的内在清除率。综合考虑这些方法，指向了开发一种针对暗激酶GAK的体内化学探针的方向。
• Water base ink for ink-jet recording
  申请人：Brother Kogyo Kabushiki Kaisha

  公开号：EP1607455A1

  公开（公告）日：2005-12-21

  A water base ink for ink-jet recording includes carbon black as a coloring agent and water. The content of chlorine ion contained in the ink is not more than 8 ppm. The ink may be added with 1,2,3-benzotriazole as a rustproofing agent. Even when oxygen is contained in an amount of about 9 ppm in the ink, the corrosion of a discharge section, which would be otherwise caused by chlorine ion, can be avoided even in the case of the use for a printer which uses a metal member for the discharge section.

  用于喷墨记录的水基墨水包括作为着色剂的炭黑和水。墨水中的氯离子含量不超过 8 ppm。墨水中可添加 1,2,3-苯并三唑作为防锈剂。即使油墨中氧的含量约为 9ppm，也可以避免因氯离子而造成的放电部分腐蚀，即使打印机的放电部分使用金属构件。
• NONAQUEOUS ELECTROLYTE AND NONAQUEOUS SECONDARY BATTERY
  申请人：Asahi Kasei Kabushiki Kaisha

  公开号：EP3279997A1

  公开（公告）日：2018-02-07

  The purpose of the present invention is to provide a nonaqueous electrolyte that contains acetonitrile having an excellent balance between viscosity and the dielectric constant and a fluorine-containing inorganic lithium salt, wherein the generation of complex cations comprising a transition metal and acetonitrile is suppressed, excellent load characteristics are exhibited, and increases in internal resistance upon repeated charge/discharge cycles are suppressed; a further purpose of the present invention is to provide a nonaqueous secondary battery. The present invention relates to a nonaqueous electrolyte which contains: a nonaqueous solvent comprising acetonitrile; a fluorine-containing inorganic lithium salt; and a specific nitrogenous cyclic compound typified by benzotriazole.

  本发明的目的是提供一种非水电解液，该电解液含有在粘度和介电常数之间具有极佳平衡的乙腈和含氟无机锂盐，其中包含过渡金属和乙腈的复合阳离子的生成受到抑制，显示出极佳的负载特性，并且在重复充放电循环中内阻的增加受到抑制；本发明的另一个目的是提供一种非水二次电池。本发明涉及一种非水电解液，其中包含：由乙腈组成的非水溶剂；含氟无机锂盐；以及以苯并三唑为典型代表的特定含氮环状化合物。
• Polishing liquid for metal and polishing method
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：US10037894B2

  公开（公告）日：2018-07-31

  The present invention relates to a metal polishing liquid for polishing at least a part of metal in a substrate having the metal, comprising, component A: a metal solubilizer containing amino acids, component B: compounds having the benzotriazole skeleton, and component C: an acrylic acid polymer having the weight average molecular weight of 10,000 or more, and having the mass ratio between the component B and the component C, (component B:component C), to be 1:1 to 1:5. Use of the metal polishing liquid can simultaneously yield high polishing rates and low etching rates at higher level, enabling to form an embedded pattern with higher reliability.

  本发明涉及一种金属抛光液，用于对具有金属的基体中的至少部分金属进行抛光，该抛光液由以下组分组成：组分 A：含有氨基酸的金属增溶剂；组分 B：具有苯并三唑骨架的化合物；以及组分 C：重量平均分子量在 10,000 或以上的丙烯酸聚合物，且组分 B 与组分 C 之间的质量比（组分 B：组分 C）为 1:1 至 1:5。使用金属抛光液可同时获得较高的抛光率和较低的蚀刻率，从而形成可靠性更高的嵌入图案。
• Sanna; Carta; Paglietti, Il Farmaco, 1992, vol. 47, # 7-8, p. 1001 - 1019
  作者：Sanna、Carta、Paglietti、Zanetti、Fadda

  DOI：——

  日期：——