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2-甲基萘-1,3-二醇 | 20034-31-5

中文名称
2-甲基萘-1,3-二醇
中文别名
——
英文名称
2-methylnaphthalene-1,3-diol
英文别名
2-Methyl-naphthalin-1,3-diol;2-Methylnaphthoresorcin
2-甲基萘-1,3-二醇化学式
CAS
20034-31-5
化学式
C11H10O2
mdl
——
分子量
174.199
InChiKey
NUIISRXJDDGJAW-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    141 °C
  • 沸点:
    380.2±9.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.274±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.8
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.09
  • 拓扑面积:
    40.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-甲基萘-1,3-二醇N-氯代丁二酰亚胺三乙胺 、 lithium hydroxide 作用下, 以 四氢呋喃N,N-二甲基甲酰胺乙腈 为溶剂, 反应 4.66h, 生成 1-(phthalazin-1-yl)ethan-1-one
    参考文献:
    名称:
    受 Azamerone 生物合成启发的重氮-胡克反应
    摘要:
    受阿扎梅隆生物合成的启发,我们报告了重氮-胡克反应的第一个例子,该反应涉及通过重氮酮的氧化重排形成二氮杂萘环系统。计算研究表明,重氮-胡克反应通过 8π-电环化、随后环收缩和芳构化进行。还使用相关的天然产物萘平作为模型系统,对重氮酮官能团的生物合成起源进行了化学模拟。
    DOI:
    10.1021/acs.orglett.1c03810
  • 作为产物:
    描述:
    1,3-diisopropoxynaphthalene 在 正丁基锂四甲基乙二胺三氯化硼 作用下, 以 二氯甲烷乙酸乙酯 为溶剂, 反应 26.0h, 生成 2-甲基萘-1,3-二醇
    参考文献:
    名称:
    受 Azamerone 生物合成启发的重氮-胡克反应
    摘要:
    受阿扎梅隆生物合成的启发,我们报告了重氮-胡克反应的第一个例子,该反应涉及通过重氮酮的氧化重排形成二氮杂萘环系统。计算研究表明,重氮-胡克反应通过 8π-电环化、随后环收缩和芳构化进行。还使用相关的天然产物萘平作为模型系统,对重氮酮官能团的生物合成起源进行了化学模拟。
    DOI:
    10.1021/acs.orglett.1c03810
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文献信息

  • [EN] KRAS G12C INHIBITORS<br/>[FR] INHIBITEURS DE KRAS G12C
    申请人:MIRATI THERAPEUTICS INC
    公开号:WO2017201161A1
    公开(公告)日:2017-11-23
    The present invention relates to compounds that inhibit KRas G12C. In particular, the present invention relates to compounds that irreversibly inhibit the activity of KRas G12C, pharmaceutical compositions comprising the compounds and methods of use therefor.
    本发明涉及抑制KRas G12C的化合物。特别是,本发明涉及不可逆地抑制KRas G12C活性的化合物,包括含有这些化合物的药物组合物及其使用方法。
  • KRAS G12C INHIBITORS
    申请人:Mirati Therapeutics, Inc.
    公开号:US20190144444A1
    公开(公告)日:2019-05-16
    The present invention relates to compounds that inhibit KRas G12C. In particular, the present invention relates to compounds that irreversibly inhibit the activity of KRas G12C, pharmaceutical compositions comprising the compounds and methods of use therefor.
    本发明涉及抑制KRas G12C的化合物。特别地,本发明涉及不可逆抑制KRas G12C活性的化合物、包含这些化合物的药物组合物及其使用方法。
  • [EN] SMALL MOLECULE INHIBITORS OF KRAS G12D MUTANT<br/>[FR] INHIBITEURS À PETITES MOLÉCULES DE MUTANT DE KRAS G12D
    申请人:MERCK SHARP & DOHME
    公开号:WO2022221739A1
    公开(公告)日:2022-10-20
    Compounds or their pharmaceutically acceptable salts can inhibit the G12D mutant of Kirsten rat sarcoma (KRAS) protein and are expected to have utility as therapeutic agents, for example, for treating cancer. The disclosure also provides pharmaceutical compositions which comprise compounds disclosed herein or pharmaceutically acceptable salts thereof. The disclosure also relates to methods for use of the compounds or their pharmaceutically acceptable salts in the therapy and prophylaxis of cancer and for preparing pharmaceuticals for this purpose.
    化合物或其药学上可接受的盐可以抑制Kirsten大鼠肉瘤(KRAS)蛋白的G12D突变,并预计具有治疗剂的效用,例如,用于治疗癌症。本公开还提供了包含此处披露的化合物或其药学上可接受的盐的制药组合物。本公开还涉及使用该化合物或其药学上可接受的盐在癌症治疗和预防以及为此目的制备制药的方法。
  • Modified polyepoxy compound, process for producing the compound, and epoxy resin composition
    申请人:SHELL INTERNATIONALE RESEARCH MAATSCHAPPIJ B.V.
    公开号:EP0661322A2
    公开(公告)日:1995-07-05
    A modified polyepoxy compound obtained by etherifying a secondary hydroxyl group of a polyepoxy compound having an alcoholic secondary hydroxyl group, such as a polyepoxy compound obtained by reaction of a bifunctional phenol compound and an epihalohydrin, or a polyepoxy compound obtained by reaction of a bifunctional phenol type epoxy compound and a bifunctional phenol compound, and an epoxy resin composition using the modified polyepoxy compound as the epoxy resin. Further, a modified brominated polyepoxy compound obtained by etherifying a secondary hydroxyl group of a polyepoxy compound having an alcoholic secondary hydroxyl group obtained by reaction of a polyepoxy compound which does not substantially contain a halogen atom and a polyhydric phenol compound having at least one bromine atom directly bonded to an aromatic ring per one molecule, and an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation having blended therewith the modified brominated polyepoxy compound as the flame retardant.
    一种改性聚环氧化合物,通过醚化具有醇仲羟基的聚环氧化合物(例如通过双官能团苯酚化合物和表卤醇反应得到的聚环氧化合物,或通过双官能团苯酚型环氧化合物和双官能团苯酚化合物反应得到的聚环氧化合物)的仲羟基而得到,以及使用该改性聚环氧化合物作为环氧树脂的环氧树脂组合物。此外,一种改性溴化聚环氧化合物,它是通过将一种聚环氧化合物的仲羟基醚化而得到的,这种聚环氧化合物具有醇性仲羟基,该醇性仲羟基是由一种基本上不含卤素原子的聚环氧化合物和一种每一个分子中至少有一个溴原子直接键合到一个芳香环上的多羟基酚化合物反应而得到的,还有一种用于半导体封装的环氧树脂组合物,其中掺入了该改性溴化聚环氧化合物作为阻燃剂。
  • COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC FILM, SUBSTRATE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP3508918A1
    公开(公告)日:2019-07-10
    The invention provides: a composition for forming an organic film, the composition having high filterability and enabling formation of an organic film which has high pattern-curving resistance, and which prevents a high-aspect line pattern particularly finer than 40 nm from line collapse and twisting after dry etching; a method for forming an organic film and a patterning process which use the composition; and a substrate for manufacturing a semiconductor device, including the organic film formed on the substrate. The composition for forming an organic film includes a condensate (A), which is a condensation product of dihydroxynaphthalene shown by the following formula (1) and a condensation agent, or a derivative of the condensate (A). A sulfur content among constituent elements contained in the condensate (A) or the derivative of the condensate (A) is 100 ppm or less in terms of mass.
    本发明提供了:一种用于形成有机薄膜的组合物,该组合物具有高过滤性,能够形成具有高图案抗弯曲性的有机薄膜,并且在干法蚀刻后能够防止特别细于40纳米的高光谱线图案发生线崩溃和扭曲;一种使用该组合物的形成有机薄膜的方法和图案化工艺;以及一种用于制造半导体器件的基板,包括在该基板上形成的有机薄膜。用于形成有机薄膜的组合物包括缩合物(A),它是下式(1)所示的二羟基萘和缩合剂的缩合产物,或缩合物(A)的衍生物。冷凝液(A)或冷凝液(A)的衍生物所含成分元素中的硫含量按质量计算不超过 100 ppm。
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