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cis,cis,cis,cis-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid | 3724-52-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
cis,cis,cis,cis-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid
英文别名
cis,cis,cis,cis-cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid;(+/-)-cyclopentane-1r,2c,3t,4t-tetracarboxylic acid;(+/-)-Cyclopentan-1r,2c,3t,4t-tetracarbonsaeure;(1R,2R,3R,4R)-cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid
cis,cis,cis,cis-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid化学式
CAS
3724-52-5;3786-91-2;69432-65-1;82395-69-5;150617-78-0
化学式
C9H10O8
mdl
——
分子量
246.174
InChiKey
WOSVXXBNNCUXMT-TXICZTDVSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    approximate 179℃ (dec.)
  • 沸点:
    495.6±45.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.787±0.06 g/cm3(Predicted)
  • 溶解度:
    在甲醇中几乎透明

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -1.5
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.56
  • 拓扑面积:
    149
  • 氢给体数:
    4
  • 氢受体数:
    8

安全信息

  • 海关编码:
    2917209090

SDS

SDS:bb091c30c790141cd7a0b92f7138a5e2
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    cis,cis,cis,cis-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid 生成 (+/-)-cyclopentane-1r,2c,3t,4t-tetracarboxylic acid-1,2;3,4-dianhydride
    参考文献:
    名称:
    Alder et al., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1958, vol. 611, p. 7,23
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    1,3-dioxo-4,5,6,6a-tetrahydro-3aH-cyclopenta[c]furan-4,5-dicarboxylic acid 在 作用下, 生成 cis,cis,cis,cis-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid
    参考文献:
    名称:
    Alder et al., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1958, vol. 611, p. 7,23
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • [EN] BISMUTH METALLIC (0) NANOPARTICLES, PROCESS OF MANUFACTURING AND USES THEREOF<br/>[FR] NANOPARTICULES DE BISMUTH MÉTALLIQUE (0), PROCÉDÉ DE FABRICATION ET UTILISATIONS DE CELLES-CI
    申请人:CONSERVATOIRE NAT DES ARTS ET METIERS CNAM
    公开号:WO2020007822A1
    公开(公告)日:2020-01-09
    The present invention relates to a process for manufacturing stable and monodisperse biocompatible bismuth metallic (0) nanoparticles, in aqueous solution, using a water-soluble bismuth precursor, a water-soluble reducing agent and a coating agent. The process can be carried out in continuous flow. The invention also relates to corresponding stable biocompatible bismuth metallic (0) nanoparticles having hydrophilic, hydrophobic or fluorophilic properties and uses thereof, especially medical applications thereof such as theranostic applications.
    本发明涉及一种制备稳定且单分散的生物相容性铋金属(0)纳米颗粒的工艺,使用水溶性铋前体、水溶性还原剂和包覆剂在水溶液中进行。该工艺可以在连续流中进行。该发明还涉及相应的具有亲水性、疏水性或亲氟性特性的稳定生物相容性铋金属(0)纳米颗粒及其用途,特别是医疗应用,如治疗应用。
  • Synthesis, crystal structure, redox property, and cytotoxic activity of a dinuclear cobalt(II) complex bearing a tetradentate benzimidazole ligand
    作者:Rong-Kai Pan、Jiang-Li Song、Guo-Bi Li、Chao-Yan Lu、Sheng-Gui Liu
    DOI:10.1007/s00706-019-02477-5
    日期:2019.8
    (cttb) and its dinuclear cobalt(II) complex [Co2(cttb)Cl4]·2DMF·H2O have been synthesized and characterized by X-ray single-crystal structure analysis. In the complex, each central Co2+ is chelated by two nitrogen atoms of the ligand and bound to two chloride ions, forming a distorted tetrahedron arrangement. The complex showed a quasi-reversible redox property for the Co(III)/Co(II) couple and exhibited
    摘要四齿苯并咪唑配体cis,cis,cis,cis -2,2',2'',2‴-(环戊烷-1,2,3,4-四基)四(1 H-苯并[ d ]咪唑)(cttb)合成了其双核钴(II)配合物[Co 2(cttb)Cl 4 ]·2DMF·H 2 O,并通过X射线单晶结构分析对其进行了表征。在复合物中,每个中心Co 2+被配体的两个氮原子螯合并与两个氯离子结合,形成扭曲的四面体排列。该复合物对Co(III)/ Co(II)对具有准可逆的氧化还原特性,并且对Eca109癌细胞的生长具有抑制作用,IC50值为37.28μM,低于顺铂。 图形摘要
  • USE OF METAL NANOPARTICLES IN THE DIAGNOSIS OF ALZHEIMER'S DISEASE
    申请人:Corot Claire
    公开号:US20100111876A1
    公开(公告)日:2010-05-06
    The invention relates to the use of metal nanoparticles for the preparation of a composition for diagnosing Alzheimer's disease by MRI.
    本发明涉及利用金属纳米颗粒制备一种用于通过MRI诊断阿尔茨海默病的组合物。
  • Novel macromolecular complexes, process for producing same and medicinal use of such complexes
    申请人:KURARAY CO., LTD.
    公开号:EP0307827A2
    公开(公告)日:1989-03-22
    A dextran or hydroxyethyl starch derivative having one or more carboxylated active sites resulting from reaction with an aliphatic di-, tri- or tetrabasic acid or a reactive derivative thereof, wherein one hydrogen atom of the qroup of the formula occurring at said active sites is partly substituted by a group of the general formula wherein L' and L2 each independently is ammine or a unidentate ligand amine or combinedly represent a bidentate ligand amine and Y is an anionic ligand, and/or two hydrogen atoms of two groups bound to one and the same carbon atom or to two neighboring carbon atoms as occurring at said active sites are, each independently, partly substituted by a group of the general formula wherein L1 and L2 are as defined above, and a pharmacologically acceptable salt thereof. The above compound has anticancer activity and is useful as anticancer agents.
    一种具有一个或多个羧化活性位点的葡聚糖或羟乙基淀粉衍生物,该活性位点是与脂肪族二元酸、三元酸或四元酸或其活性衍生物反应而形成的,其中出现在所述活性位点的式 q 组的一个氢原子被通式基团部分取代。 在所述活性位点上出现的一个通式基团的氢原子部分被通式基团取代 其中 L'和 L2 各自独立地为胺或单齿配体胺或组合代表双齿配体胺,Y 为阴离子配体,和/或两个基团的两个氢原子 在所述活性位点上出现的与一个相同碳原子或两个相邻碳原子结合的两个基团的两个氢原子各自独立地被通式如下的基团部分取代 其中 L1 和 L2 如上定义,以及其药理学上可接受的盐。 上述化合物具有抗癌活性,可用作抗癌剂。
  • COMPOSITION FOR FORMING UPPER FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:JSR Corporation
    公开号:EP1950610A1
    公开(公告)日:2008-07-30
    An upper layer-forming composition formed on a photoresist while causing almost no intermixing with the photoresist film and a photoresist patterning method are provided. The upper layer-forming composition is stably maintained without being eluted in a medium such as water during liquid immersion lithography and is easily dissolved in an alkaline developer. The upper layer-forming composition covers a photoresist film for forming a pattern by exposure to radiation. The composition comprises a resin dissolvable in a developer for the photoresist film and a solvent in which the resin is dissolved. The solvent has a viscosity of less than 5.2 x 10-3 Pa·s at 20°C. In addition, the solvent does not cause intermixing of the photoresist film and the upper layer-forming composition. The solvent contains an ether or a hydrocarbon.
    本发明提供了一种在光刻胶上形成的上层形成组合物,同时几乎不会造成与光刻胶膜的混合,并提供了一种光刻胶图案化方法。在液浸光刻过程中,上层形成组合物可稳定地保持在水等介质中而不会被洗脱,并且很容易溶解在碱性显影剂中。上层形成组合物覆盖在光刻胶膜上,通过辐射形成图案。该组合物包括一种可溶解于光刻胶膜显影剂中的树脂和一种可溶解树脂的溶剂。溶剂在 20°C 时的粘度小于 5.2 x 10-3 Pa-s。此外,该溶剂不会造成光刻胶膜和上层形成组合物的混合。溶剂含有醚或烃。
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