申请人:LG CHEM, LTD. 주식회사 엘지화학(120010134563) Corp. No ▼ 110111-2207995BRN ▼107-81-98139
公开号:KR20190085777A
公开(公告)日:2019-07-19
본 발명에 따른 제조 방법은 비스(인데닐) 착화합물비스(인데닐) 착화합물을 낮은 수소 압력 하에서 수소 첨가 반응을 수행한 후에 알칼리 수용액 조건 하에서 가수분해 반응을 수행하여, 기존의 가혹한 조건보다 훨씬 마일드(mild)한 조건의 반응을 통해 다양한 치환기를 도입한 테트라하이드로인덴(tetrahydroindene) 유도체를 용이하게 제조하는 것으로, 안전하고 효율적인 공정 조건으로 높은 수율로 대량 합성에 유용하게 사용할 수 있다.
根据本发明的制造方法是在低氢压力下进行氢加成反应,然后在碱性溶液条件下进行水解反应,通过比现有的严苛条件更温和的反应引入各种取代基,从而轻松制造四氢萘衍生物。这种方法可以安全、高效地用于大规模合成,产率高。