1-(2-(phenylsulfonyl)propan-2-ylsulfonyl)benzene | 39863-09-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-(2-(phenylsulfonyl)propan-2-ylsulfonyl)benzene
• 英文别名: 2,2-bis(phenylsulfonyl)propane；2,2-bis-benzenesulfonyl-propane；2,2-Bis-benzolsulfonyl-propan；2.2-Diphenylsulfon-propan；β.β-Bis-phenylsulfon-propan；Diphenylsulfon-dimethyl-methan；1,1'-(Propane-2,2-diyldisulfonyl)dibenzene；2-(benzenesulfonyl)propan-2-ylsulfonylbenzene
• CAS: 39863-09-7
• 化学式: C₁₅H₁₆O₄S₂
• 分子量: 324.422
• InChiKey: LUFRHBUECIEJCK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  546.9±46.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.295±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  85
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(2-(phenylsulfonyl)propan-2-ylsulfonyl)benzene 在 N,N,N',N'-tetramethyl-7,8-dihydro-6H-dipyrido[1,2-a;2',1'-c][1,4]diazepine-2,12-diamine 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 以96%的产率得到异丙基苯基砜
  参考文献：
  名称：

  超电子供体：通过吡啶盐的碱处理形成双吡啶基。

  摘要：

  双吡啶鎓盐7b的去质子化可提供双吡啶鎓亚叉基10，这是一种非常强大的中性有机两电子给体[E1 / 2（DMF）=-1.13 V vs Ag / AgCl / KCl（sat）]，大概是通过吡啶基亚苄基8进行的。供体10还原了芳基碘化物和溴化物以优异的收率得到芳基阴离子，并且还非常有效地还原性裂解选定的苯基烷基砜。

  DOI：

  10.1021/ol800134g
• 作为产物：
  描述：

  苯硫酚 在 盐酸 、 potassium permanganate 、 硫酸 作用下， 生成 1-(2-(phenylsulfonyl)propan-2-ylsulfonyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  Baumann, Chemische Berichte, 1886, vol. 19, p. 2811

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040167322A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。
• A Novel Organic Electron Donor Derived from N-Methylisatin
  作者：Ryan Sword、Steven O'Sullivan、John A. Murphy

  DOI：10.1071/ch12480

  日期：——

  We report the reactivity of an electron donor derived from N-methylisatin on reduction by sodium amalgam. Transfer of a clear supernatant solution to iodoarenes affords the products of two-electron reduction. Reductions of sulfones, activated arenesulfonamides, and Weinreb amides are also reported.

  我们报告了一种由 N-甲基靛红衍生的电子供体在汞齐钠还原时的反应性。将清澈的上清溶液转移到碘脲中可得到双电子还原产物。此外，我们还报告了砜类化合物、活化的壬磺酰胺和 Weinreb 酰胺的还原反应。
• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20070292768A1

  公开（公告）日：2007-12-20

  A photoacid generator has formula (1). A chemically amplified resist composition comprising the photoacid generator has advantages including a high resolution, focus latitude, long-term PED dimensional stability, and a satisfactory pattern profile shape. When the photoacid generator is combined with a resin having acid labile groups other than those of the acetal type, resolution and top loss are improved. The composition is suited for deep UV lithography.

  一种光酸发生剂的化学式为（1）。包括该光酸发生剂的化学增感抗蚀组合物具有诸如高分辨率、焦点宽度、长期PED尺寸稳定性和令人满意的图案轮廓形状等优点。当该光酸发生剂与具有除了缩醛类型以外的酸敏感基团的树脂结合时，可以改善分辨率和顶部损失。该组合物适用于深紫外光刻。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：NISHI Tsunehiro

  公开号：US20100062374A1

  公开（公告）日：2010-03-11

  A positive resist composition comprises (A) a resin component which becomes soluble in an alkaline developer under the action of an acid and (B) an acid generator. The resin (A) is a polymer comprising recurring units containing a non-leaving hydroxyl group represented by formula (1) wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, X is a single bond or methylene, m is 1 or 2, and the hydroxyl group attaches to a secondary carbon atom. The composition is improved in resolution when processed by lithography.

  一种正性光刻胶组合物包括（A）在酸的作用下在碱性显影剂中变得可溶的树脂组分和（B）酸发生剂。树脂（A）是一种聚合物，包含由式（1）表示的非离去羟基的重复单元，其中R1为H、甲基或三氟甲基，X为单键或亚甲基，m为1或2，并且羟基连接到次级碳原子。当通过光刻工艺处理时，该组合物在分辨率方面得到改善。
• Novel photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20080085469A1

  公开（公告）日：2008-04-10

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) upon exposure to high-energy radiation. RC(═O)R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1a) R is hydroxyl, alkyl, aryl, hetero-aryl, alkoxy, aryloxy or hetero-aryloxy, R 1 is a divalent organic group which may have a heteroatom (O, N or S) containing substituent, or R 1 may form a cyclic structure with R. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。RC(═O)R1—COOCH(CF3)CF2SO3−H+(1a)中，R为羟基、烷基、芳基、杂芳基、烷氧基、芳氧基或杂芳氧基，R1为可能含有杂原子（O、N或S）取代基的二价有机基团，或R1可与R形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物中的使用。