Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0244749A2
公开(公告)日:1987-11-11
Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das eine lichtempfindliche Verbindung, z. B. einen Photoinitiator oder eine Diazoverbindung und ein Umsetzungsprodukt einer olefinisch ungesättigten Verbindung der allgemeinen Formel I
worin
X und Y gleich oder verschieden sind und Sauerstoff oder Schwefel bedeuten,
R₁ ein olefinisch ungesättigter aliphatischer Rest mit 2 bis 8 C-Atomen und
R₂ ein gesättigter aliphatischer Rest mit 1 bis 8 C-Atomen oder ein Arylrest mit 6 bis 10 C-Atomen
ist, mit einem aktiven Wasserstoff enthaltenden Polymeren enthält. Das Gemisch ist zur Herstellung von Photoresists und Druckplatten geeignet.
所述光敏混合物包括一种光敏化合物,例如光引发剂或重氮化合物,以及通式 I 的烯烃不饱和化合物的反应产物
其中
X 和 Y 相同或不同,为氧或硫、
R₁ 是具有 2 至 8 个碳原子的烯烃不饱和脂肪族基,且
R₂ 是具有 1 至 8 个碳原子的饱和脂肪族基或具有 6 至 10 个碳原子的芳基
和一种活性含氢聚合物。该混合物适用于生产光刻胶和印版。