N-<<(2,6-dinitrophenyl)-1-(2',6'-dinitrophenyl)methoxy>carbonyl>cyclohexylamine | 167409-61-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N-<<(2,6-dinitrophenyl)-1-(2',6'-dinitrophenyl)methoxy>carbonyl>cyclohexylamine
• 英文别名: bis(2,6-dinitrophenyl)methyl N-cyclohexylcarbamate
• CAS: 167409-61-2
• 化学式: C₂₀H₁₉N₅O₁₀
• 分子量: 489.398
• InChiKey: WUORPVDKYQPBJI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  738.8±60.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.53±0.1 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.3
• 重原子数：
  35
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.35
• 拓扑面积：
  222
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-<<(2,6-dinitrophenyl)-1-(2',6'-dinitrophenyl)methoxy>carbonyl>cyclohexylamine 生成 二氧化碳 、 、 环己胺
  参考文献：
  名称：

  从邻硝基苄基衍生的氨基甲酸酯光生有机碱

  摘要：

  已经研究了有机碱的新型光前体的设计以及控制其量子效率转化为游离胺或二胺的空间和电子因素。基本设计涉及用光不稳定 [(o-nitrobenzyl)oxy] 羰基或 α-取代类似物保护胺。所得受保护的胺的光敏感性归功于经典的邻硝基苄基光重排，并且在用低于 400 nm 的紫外光照射时，可以在固态和溶液中干净地释放游离胺。探索了几种设计，其中光活性中心的结构有系统地变化，以研究各种空间和电子效应的影响。在所有情况下，

  DOI：

  10.1021/ja00011a038
• 作为产物：
  描述：

  2-溴-1,3-二硝基苯 在 甲基锂 、 苯基锂 作用下， 反应 18.0h， 生成 N-<<(2,6-dinitrophenyl)-1-(2',6'-dinitrophenyl)methoxy>carbonyl>cyclohexylamine
  参考文献：
  名称：

  从邻硝基苄基衍生的氨基甲酸酯光生有机碱

  摘要：

  已经研究了有机碱的新型光前体的设计以及控制其量子效率转化为游离胺或二胺的空间和电子因素。基本设计涉及用光不稳定 [(o-nitrobenzyl)oxy] 羰基或 α-取代类似物保护胺。所得受保护的胺的光敏感性归功于经典的邻硝基苄基光重排，并且在用低于 400 nm 的紫外光照射时，可以在固态和溶液中干净地释放游离胺。探索了几种设计，其中光活性中心的结构有系统地变化，以研究各种空间和电子效应的影响。在所有情况下，

  DOI：

  10.1021/ja00011a038

文献信息

• LOW TEMPERATURE, FAST HARDENING COMPOSITION FOR PREPARING PROTECTING FILM, PROTECTING FILM PREPARED THEREFROM, AND SUBSTRATE COMPRISING THE SAME
  申请人：Son Jeong-man

  公开号：US20100080973A1

  公开（公告）日：2010-04-01

  The present invention relates to a composition for preparing an excellent protecting film with high strength, wear resistance, and excellent barrier property by low temperature hardening, a protecting film prepared therefrom, a substrate comprising the same, and a component or device comprising the same. The composition comprises an organosiloxane polymer a), a photobase generator b), and an organic solvent c).

  本发明涉及一种用于制备具有高强度、耐磨性和优异的阻隔性能的保护膜的组合物，通过低温硬化制备的保护膜，包括该组合物的基材以及包括该组合物的部件或器件。该组合物包括有机硅聚合物a)、光酸生成剂b)和有机溶剂c)。
• METHOD OF FORMING PATTERN AND COMPOSITION FOR FORMING OF ORGANIC THIN-FILM FOR USE THEREIN
  申请人：Shimizu Daisuke

  公开号：US20100233635A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A method for forming a pattern contains (1) a step of forming an underlayer film containing (A) a radiation-sensitive acid generator capable of generating an acid upon exposure to radiation rays or (B) a radiation-sensitive base generator capable of generating a base upon exposure to radiation rays on a substrate; (2) a step of irradiating the underlayer film with radiation rays through a mask with a predetermined pattern to obtain an exposed underlayer film portion having been selectively exposed through the predetermined pattern; (3) a step of forming (C) an organic thin film on the underlayer film so as to attain chemical bonding of the exposed underlayer film portion with the organic thin-film formed on the exposed underlayer film portion; and (4) a step of removing the organic thin film formed on areas of the underlayer film other than the exposed underlayer film portion.

  一种形成图案的方法包括：（1）在基板上形成一个底层薄膜，该底层薄膜包含（A）一种辐射敏感的酸发生剂，能够在辐射射线的作用下产生酸，或者（B）一种辐射敏感的碱发生剂，能够在辐射射线的作用下产生碱；（2）通过一个预定图案的掩模，用辐射射线照射底层薄膜，以获得已通过预定图案选择性暴露的底层薄膜部分；（3）在底层薄膜上形成一层有机薄膜，以实现暴露的底层薄膜部分与形成在暴露的底层薄膜部分上的有机薄膜的化学键合；（4）去除除暴露的底层薄膜部分外的底层薄膜区域上形成的有机薄膜。
• COMPOSITIONS OF PHOTO-ALIGNABLE MATERIALS
  申请人：ROLIC Technologies AG

  公开号：EP3374467A1

  公开（公告）日：2018-09-19
• US8173348B2
  申请人：——

  公开号：US8173348B2

  公开（公告）日：2012-05-08
• US8367190B2
  申请人：——

  公开号：US8367190B2

  公开（公告）日：2013-02-05