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m-hydroxytoluene-α-thiol | 76106-64-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
m-hydroxytoluene-α-thiol
英文别名
3-(Mercaptomethyl)phenol;3-(Sulfanylmethyl)phenol
m-hydroxytoluene-α-thiol化学式
CAS
76106-64-4
化学式
C7H8OS
mdl
——
分子量
140.206
InChiKey
XSHPNRUFIUTBAP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    280.0±15.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.185±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.5
  • 重原子数:
    9
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.14
  • 拓扑面积:
    21.2
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Intramolecullar alkylation of phenols. Part 4. Base-catalysed cyclisation of phenolic enones. Scope and limitations
    作者:William S. Murphy、Sompong Wattanasin
    DOI:10.1039/p19800001555
    日期:——
    The phenolic enones (4), (5), (8), (9), and (13) cyclise readily under acidic conditions. However, neither these nor the thin-substituted phenols (11a), (13a), (14a), and (15a) closed under basic conditions. Involvement of unfavourable equilibria is disproved. Comparison is made with related successful cyclisations of the saturated ketone (38) and aldehyde (39). Preliminary results suggest that strict
    烯酮(4),(5),(8),(9)和(13)在酸性条件下容易环化。然而,这些以及稀取代的(11a),(13a),(14a)和(15a)在碱性条件下均未关闭。不利的均衡被卷入其中。与饱和酮(38)和醛(39)的相关成功环化进行了比较。初步结果表明,严格的立体电子学要求对于烯酮环闭合是必需的,并且在一般类型的的碱催化的5-内-和6-内-三角环闭合中不满足这些条件(2;n = 0并且n = 1)。
  • CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND COMPOUND
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    公开号:US20200209739A1
    公开(公告)日:2020-07-02
    A chemically amplified photosensitive composition which forms a resist pattern whose cross-sectional shape is rectangular, and which has a wide depth of focus margin; a photosensitive dry film having a photosensitive layer made from the composition; a method of manufacturing a patterned-resist film using the composition; a method of manufacturing a substrate with a template using the composition; a method of manufacturing a plated article using the substrate with a template; and a novel compound. An acid diffusion suppressing agent having a specific structure is blended into the composition including an acid generator which generates acid upon exposure to an irradiated active ray or radiation.
    一种化学增感光敏组合物,形成一个截面形状为矩形的抗蚀图案,具有宽广的焦深度余量;一种具有由该组合物制成的感光层的感光干膜;使用该组合物制造图案抗蚀膜的方法;使用该组合物制造带有模板的基板的方法;使用带有模板的基板制造电镀物品的方法;以及一种新型化合物。酸扩散抑制剂与包括在暴露于辐射活性光线或辐射时生成酸的酸发生剂的组合物中混合,具有特定的结构。
  • Chromogenic dibenzoxazepinone and dibenzothiazepinone enzyme substrates
    申请人:MILES INC.
    公开号:EP0402699A2
    公开(公告)日:1990-12-19
    Chromogenic enzyme substrate compounds comprising a dibenz[b,e] [1,4]oxazepinone or dibenzo[b,e][1,4]thiazepinone nucleus having an enzyme-cleavable group such as a radical of a sugar, carboxylic acid, amino acid, peptide, phosphoric acid, or sulfuric acid. The substrate compounds are, in general, highly soluble in aqueous media and only slightly colored, and produce, upon enzyme cleavage, a chromogen exhibiting a large change in absorbance and a pKa below 7. Such substrates find use as indicators for the determination of enzyme analytes and enzymes used as markers in a variety of assays, including immunoassays.
    致色酶底物化合物包括二苯并[b,e][1,4]氧氮杂卓酮或二苯并[b,e][1,4]氮杂卓酮核,其核具有酶可切除的基团,如糖、羧酸氨基酸、肽、磷酸硫酸的基团。底物化合物一般在介质中的溶解度很高,只有轻微的颜色,在酶裂解后会产生一种吸光度变化很大、pKa 低于 7 的显色剂。这类底物可用作测定酶分析物的指示剂,也可用作各种检测(包括免疫检测)中的酶标记物。
  • (Meth)-Acrylat-Schreibmonomere
    申请人:Bayer MaterialScience AG
    公开号:EP2354845A1
    公开(公告)日:2011-08-10
    Die Erfindung betrifft (Meth)-Acrylat Schreibmonomere, die insbesondere als Schreibmonomere in Photopolymer-Formulierungen verwendet werden können. Darüber hinaus sind eine Photopolymer-Formulierung umfassend Matrixpolymere, Photoinitiatoren und die (Meth)-Acrylat Schreibmonomere sowie die Verwendung der Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien Gegenstände der Erfindung.
    本发明涉及(甲基)丙烯酸酯书写单体,该单体尤其可用作光聚合物配方中的书写单体。此外,由基质聚合物、光引发剂和(甲基)丙烯酸酯书写单体组成的光聚合物配方以及使用该光聚合物配方生产全息介质也是本发明的目的。
  • Cleaning solution, method of removing a removal target and method of etching a substrate using said cleaning solution
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    公开号:US10363585B2
    公开(公告)日:2019-07-30
    A cleaning liquid which includes 3-alkoxy-3-methyl-1-butanol represented by the following general formula (1); at least one of diethylene glycol monomethyl ether and triethylene glycol monomethyl ether; and quaternary ammonium hydroxide: in which R1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
    一种清洁液,包括以下通式 (1) 所代表的 3-烷氧基-3-甲基-1-丁醇二乙二醇单甲醚三乙二醇甲醚中的至少一种;以及氢氧化季: 其中 R1 代表具有 1 至 5 个碳原子的烷基。
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