SiCl(2,4,6-trimethylphenyl)3 | 65523-28-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: SiCl(2,4,6-trimethylphenyl)3
• 英文别名: trimesitylsilyl chloride；chlorotrimesitylsilane；trimesitylchlorosilane；Trimesitylchlorsilan；Chloro-tris(2,4,6-trimethylphenyl)silane
• CAS: 65523-28-6
• 化学式: C₂₇H₃₃ClSi
• 分子量: 421.098
• InChiKey: WPKPQYDOPQZOCO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.67
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  SiCl(2,4,6-trimethylphenyl)3 在 potassium hydroxide 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 以58%的产率得到tris(2,4,6-trimethylphenyl)silanol
  参考文献：
  名称：

  具有二氧化硅支撑配体的热稳定铀二氮配合物

  摘要：

  一个均配型铀三新二氮加合物（硅氧化物）络合物，[∪{OSI（MES）3 } 3 ] 2（μ-η 2：η 2 -N 2）被报告。所述的合成15 N-标记的同位素和拉曼光谱确认N的还原活化2到（N 2）2-的二价阴离子。还报道了15 N 2标记的同位素异构体的15 N NMR位移。晶体学表征显示，在不同晶体中，侧面（N 2）2-呈暗影或交错构象相协调。联合国2 -U配合物对真空稳定，并显示出高的热稳定性，在100°C下保留了形式上还原的二氮。我们无法分离母体三坐标铀（III）[U {OSi（Mes）3 } 3 ]，而无N 2的合成仅提供铀（IV）化合物。还报告了两种此类U（IV）副产物[U {OSi（Mes）3 } {N（SiMe 3）2 } 3 ]和[U {OSi（Mes）3 } 4 ]的合理合成和完整表征。。

  DOI：

  10.1021/om4003957
• 作为产物：
  描述：

  2-溴-1,3,5-三甲基苯 在 正丁基锂 、 五氯化磷 、 三氯硅烷 作用下， 以 四氯化碳 、 正己烷 、 苯 为溶剂， 反应 44.0h， 生成 SiCl(2,4,6-trimethylphenyl)3
  参考文献：
  名称：

  受阻叠氮基硅烷的光解产生硅亚胺

  摘要：

  Trimesitylazidosilane（1）和三种新的叠氮二硅烷Mes 2 Si（N 3）SiPh 2 -t-Bu（2），Me 2 Si（N 3）SiMes 2 -t-Bu（3）和i-Pr 2 Si（N 3）制备SiMes 2 -t-Bu（4）并在254nm处光解。化合物1个在在77K玻璃状3-甲基戊烷（3-MP），或在3-MP溶液光解在-140℃到的Mes 2 SiNMes（5）和插入CH产品6。化合物2 - 4光解在3-MP在低温下，得到silanimines，R的稳定方案2 SiNSiR 2 R'。的光解1 - 4中的醇的产率烷氧基氨基硅烷的存在。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(88)89074-0

文献信息

• Triaryl-silyl, -germyl, and -stannyl radicals .MAr3 (M = Si, Ge, or Sn and Ar = 2,4,6-Me3C6H2) and .Ge(2,6-Me2C6H3)3: Synthesis and ESR studies
  作者：Michael J.S. Gynane、Michael F. Lappert、Paul I. Riley、Piérre Rivière、Monique Rivière-Baudet

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)81378-9

  日期：1980.12

  have been prepared from the appropriate triarylmetal chloride, MAr3Cl, and an electron-rich olefin [R]2 (R = Me or Et) under UV irradiation in toluene at low temperature. The triarylgermyl radicals are persistent (t > 24 h, 20°C) whilst the analogous tin and silicon radicals are only stable under constant irradiation at temperatures below −20°C; the ESR spectra of the germanium radicals and of .Si(2

  以三芳基金属为中心的自由基。MAr 3（M = Si，Ge或Sn; Ar = 2,6-Me 2 C 6 H 3或2,4,6-Me 3 C 6 H 2）已由适当的三芳基金属氯化物MAr 3 Cl制备，以及在低温下在甲苯中紫外线照射下的富电子烯烃[ R] 2（R = Me或Et）。三芳基锗烷基自由基具有持久性（t > 24 h，20°C），而类似的锡和硅自由基仅在低于-20°C的恒定辐射下稳定。锗自由基和锗的ESR谱。Si（2,4,6-Me 3C 6 H 2）3（它是第一个被光谱鉴定的三芳基甲硅烷基基团）显示出所有质子偶合的等价等效物，这是由于芳族环扭曲成围绕金属的“螺旋桨”排列所致。还报道了这些自由基的前体的合成和表征。
• Über sterisch gehinderte freie radikale
  作者：Wilhelm P. Neumann、Klaus-Dieter Schultz、Robert Vieler

  DOI：10.1016/0022-328x(84)85144-x

  日期：1984.3

  The SiSi bond in hexamesityldisilane dissociates reversibly even between −60 and −32°C (ΔHdiss 19.0 ± 2 kcal mol−1) and the GeGe bond in hexamesityldigermane reversibly between −12 and +53°C (ΔH 20.7 ± 2 kcal mol−1). The generated radicals Mes3Si. or Mes3Ge. react irreversibly, e.g. by substituting aromatics or abstracting H. Further hexaaryldigermanes (aryl = 2,6-Me2-phenyl, 2,3,4,6-Me4-phenyl,

  六甲基乙硅烷中的SiSi键甚至在-60至−32°C（ΔH diss 19.0±2 kcal mol -1）之间可逆地解离，而六甲基二茂铁中的GeGe键则在-12至+ 53°C（ΔH之间）可逆地解离。20.7±2 kcal mol -1）。生成的自由基Mes 3 Si 。或Mes 3 Ge 。不可逆地反应，例如通过取代芳族化合物或抽象H。其他六芳基二茂铁（芳基= 2,6-Me 2-苯基，2,3,4,6-Me 4-苯基，2,3,4,5,6-Me 5 -苯基和2,4,6-Et 3-苯基）也可逆地解离。提到的所有六有机二硅烷和二锗烷以及其他几种，以及许多前体都是首次制备，其中一些经历了相当大的困难之后。
• The first reversible thermal dissociation of digermanes R₃Ge–GeR₃giving germyl radicals R₃Ge·, and of disilanes R₃Si–SiR₃giving silyl radicals R₃Si·
  作者：Wilhelm P. Neumann、Klaus-Dieter Schultz

  DOI：10.1039/c39820000043

  日期：——

  reversibly between –12 and +53°C (ΔHMdiss. 87 ± 8 kJ/mol), and the Si–Si bond in hexamesityldisilane behaves analogously between –60 and –20 °C; above these temperatures, irreversible reactions of the radicals occur.

  在Ge-Ge结合在hexamesityldigermane可逆地解离-12和+ 53℃之间（Δ ħ中号迪斯。，和在所述hexamesityldisilane Si-Si键-60之间类似的行为和-20℃; 87±8千焦/摩尔）在这些温度以上，自由基发生不可逆的反应。
• New (diarylgermyl)lithiums
  作者：A. Castel、P. Riviere、Jacques Satge、H. Y. Ko

  DOI：10.1021/om00115a032

  日期：1990.1
• The Cyclohexadienyl-Leaving-Group Approach toward Donor-Stabilized Silylium Ions
  作者：Antoine Simonneau、Tobias Biberger、Martin Oestreich

  DOI：10.1021/acs.organomet.5b00609

  日期：2015.8.24

  The cydohexa-2,5-dien-1-yl group is established as a leaving group at silicon Schneider silicon-to-carbon hydride transfer and the allyl-leaving-group approach to generate silylium ions. Hydride abstraction from the skipped diene unit employing trityl tetrakis(pentafluorophenyl)borate (1, [Ph3C](+) [B(C6F5)(4)](-)) yields the silicon cation along with benzene. Our investigations reveal that the presence of an internal or external donor group is mandatory to allow for the formation of intra- or intermolecularly stabilized silylium ions. If not, degradation of the precursor is observed as a result of the reaction of the allylic silane units with the released silylium ion. It is also shown that such allylic silanes do form remarkably stable alkyl-substituted carbenium ions when reacted stoichiometrically with benzene-stabilized silylium ions.