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tert-Butylsilan | 18165-85-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
tert-Butylsilan
英文别名
tert-butylsilane
tert-Butylsilan化学式
CAS
18165-85-0
化学式
C4H12Si
mdl
——
分子量
88.2248
InChiKey
UNWUYTNKSRTDDC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.57
  • 重原子数:
    5
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

SDS

SDS:debe36eaedb1a1872e501e1c41b6fd17
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上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    tert-Butylsilan盐酸乙醚 作用下, 以 氘代苯 为溶剂, 以88%的产率得到t-butylchlorosilane
    参考文献:
    名称:
    Lewis碱催化的甲硅烷选择性氯化反应
    摘要:
    据报道,双官能甲硅烷R 2 SiHCl,RSiHCl 2和RSiH 2 Cl的制备容易,选择性高。通过氯化R 2 SiH 2和RSiH 3在浓盐酸/乙醚溶液中,Si-Cl键的逐步引入很容易受温度和反应时间的控制,适用于多种基材。在一项组合的实验和计算研究中,我们建立了一种新的Si-H键激活模式,该模式由路易斯碱(例如醚,胺,膦和氯离子)辅助。对基本反应机理的阐明表明,通过氢键网络的酒精辅助同样有效且具有选择性。值得注意的是,在中等反应条件下未观察到烷氧基硅烷或硅氧烷的形成。
    DOI:
    10.1002/chem.201803921
  • 作为产物:
    描述:
    叔丁基三氯硅烷 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下, 生成 tert-Butylsilan
    参考文献:
    名称:
    三核μ 3种钌和第9族金属的配合物的甲硅烷基具有一个μ的3C-2E的相互作用和转化3 -甲硅烷基络合物的Ru 2的Ir成μ -甲硅烷基和μ 3个-Silylene配合物
    摘要:
    μ 3 -甲硅烷基络合物(CP * Ru)的2(CP * M)(μ 3 -H 2 SIR)(μ-H)3(4,M = CO; 5,M = RH; 6,M = Ir)的均通过钌的三核异金属簇和组9族金属,(CP * Ru)的反应合成2(CP * M)(μ-H)3(μ 3 -H)(1 ;,M =钴2,M =铑; 3,M = Ir),带有伯硅烷。通过多核NMR光谱,IR光谱和X射线衍射研究明确地证实了在三金属平面上伯硅烷前所未有的配位模式。μ-硅烷络合物(CP * Ru)的2(CP * Ir)的(μ-H 2的SiH吨卜)(μ-H)4(7),这是一个合理的中间途中μ 3 -甲硅烷复合物,通过3与t BuSiH 3的反应获得。该μ 3 -甲硅烷基络合物6A转化到μ -甲硅烷基络合物(CP * Ru)的2(CP * Ir)的(μ-H 2 SIPH)(吨BuNC)(μ-H) 3( 8)在与治疗吨BuNC。复杂的图6a也与CO反应,得到μ
    DOI:
    10.1021/om5010308
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文献信息

  • Chemical vapor deposition precursors for deposition of tantalum-based materials
    申请人:Advanced Technology Materials, Inc.
    公开号:US06989457B2
    公开(公告)日:2006-01-24
    Tantalum precursors suitable for chemical vapor deposition of tantalum-containing material, e.g., tantalum, TaN, TaSiN, etc., on substrates. The tantalum precursors are substituted cyclopentadienyl tantalum compounds. In one aspect of the invention, such compounds are silylated to constitute tantalum/silicon source reagents. The precursors of the invention are advantageously employed in semiconductor manufacturing applications to form diffusion barriers in connection with copper metallization of the semiconductor device structure.
    适用于在基板上进行化学气相沉积的钽前体,例如钽、TaN、TaSiN等含钽材料。这些钽前体是取代的环戊二烯基钽化合物。在发明的一个方面,这些化合物被硅化以构成钽/硅源试剂。该发明的前体在半导体制造应用中得到有利地应用,用于在半导体器件结构的铜金属化过程中形成扩散屏障。
  • μ <sub>3</sub> ‐η <sup>2</sup> :η <sup>2</sup> :η <sup>2</sup> ‐Coordination of Primary Silane on a Triruthenium Plane
    作者:Masahiro Nagaoka、Hiroyuki Tsuruda、Masa‐aki Amako、Hiroharu Suzuki、Toshiro Takao
    DOI:10.1002/anie.201506969
    日期:2015.12
    A μ3‐η2:η2:η2‐silane complex, [(Cp*Ru)3(μ3‐η2:η2:η2‐H3SitBu)(μ‐H)3] (2 a; Cp*=η5‐C5Me5), was synthesized from the reaction of [Cp*Ru(μ‐H)}3(μ3‐H)2] (1) with tBuSiH3. Complex 2 a is the first example of a silane ligand adopting a μ3‐η2:η2:η2 coordination mode. This unprecedented coordination mode was established by NMR and IR spectroscopy as well as X‐ray diffraction analysis and supported by a density
    甲μ 3 -η 2:η 2:η 2 -硅烷络合物,[(CP * Ru)的3(μ 3 -η 2:η 2:η 2 -H 3的Si吨卜)(μ-H)3 ](2 ;的Cp * =η 5 -C 5我5),由反应合成[的Cp *茹(μ-H)} 3(μ 3 -H)2 ](1)配有吨BuSiH 3。复杂2一个是硅烷的第一例的配体采用μ 3-η 2:η 2:η 2配位模式。这种前所未有的配位模式是通过NMR和IR光谱以及X射线衍射分析建立的,并得到密度泛函研究的支持。变温NMR分析暗示,2一达到平衡具有互变异构μ 3 -甲硅烷基络合物(3)。尽管3不分离,相应的μ 3 -甲硅烷复合物,[(CP * Ru)的3(μ 3 -η 2:η 2 -H 2 SIPH)(H)(μ-H)3 ](图3b)是从1的反应中获得的用PhSiH 3。用PhSiH 3处理2 a导致硅烷交换反应,导致形成3 b并伴有t BuSiH 3的消除。该结果表明,该μ
  • 一种金属镍配合物及其制备方法和应用
    申请人:中国科学院理化技术研究所
    公开号:CN113880886A
    公开(公告)日:2022-01-04
    本发明公开一种金属镍配合物及其制备方法和应用。该金属镍配合物具有如下式I所示的结构,其中:R1每次出现时,各自独立地选自C1‑10烷基、‑C1‑6烷基‑C6‑12芳基、C6‑12芳基、‑C6‑12芳基‑C1‑6烷基;P1、P2每次出现时,各自独立地选自H、卤素、C1‑6烷基、C2‑6烯基、C3‑20芳基、C3‑20杂芳基,且当P1、P2均不为H或卤素时,相邻的P1、P2能键合成环;D为供电子基团;A为吸电子基团。该金属镍配合物具有较好的荧光发光性能。
  • Activation of CS <sub>2</sub> and CO <sub>2</sub> by Silylium Cations
    作者:Carsten Jenne、Marc C. Nierstenhöfer、Valentin Lessen
    DOI:10.1002/chem.202005003
    日期:2021.2.15
    weakly coordinating [Me3NB12Cl11]− anion, undergoes, in the presence of excess silane, a series of unexpected consecutive reactions with the valence‐isoelectronic molecules CS2 and CO2. The final products of the reaction with CS2 are methane and the previously unknown [(Et3Si)3S]+ cation. To gain insight into the entire reaction cascade, numerous experiments with varying conditions were performed, intermediate
    在过量硅烷存在下,由弱配位的[Me 3 NB 12 Cl 11 ] -阴离子稳定的氢化桥硅烷基阳离子[Et 3 Si-H-SiEt 3 ] +会发生一系列意想不到的连续反应,与价等电子分子CS 2和CO 2。与CS 2反应的最终产物是甲烷和先前未知的[(Et 3 Si)3 S] +阳离子。为了深入了解整个反应级联,进行了许多不同条件的实验,拦截了中间产物,并通过X射线晶体学确定了它们的结构。除了作为最终产物的[(Et 3 Si)3 S] +阳离子之外,[(Et 3 Si)2 SMe] +,[Et 3 SiS(H)Me] +和[Et 3 SiOC(H )的晶体结构获得)OSiEt 3 ] +。实验结果与支持气相和溶液中量子化学计算的结果相结合,可以更详细地了解反应级联。
  • Photoinduced Direct Synthesis of Silylene-Bridged Dinuclear Iron Complexes [(η<sup>5</sup>-C<sub>5</sub>H<sub>5</sub>)<sub>2</sub>Fe<sub>2</sub>(CO)<sub>2</sub>(μ-CO)(μ-SiHR)] from [(η<sup>5</sup>-C<sub>5</sub>H<sub>5</sub>)Fe(CO)<sub>2</sub>SiMe<sub>3</sub>] and RSiH<sub>3</sub>(R =<i>t</i>-Bu, (CMe<sub>2</sub>)<sub>2</sub>H)
    作者:Hiromi Tobita、Yasuro Kawano、Mamoru Shimoi、Hiroshi Ogino
    DOI:10.1246/cl.1987.2247
    日期:1987.11.5
    Photolysis of [CpFe(CO)2SiMe3] (Cp = η5-C5H5) in the presence of RSiH3 (R = t-Bu, (CMe2)2H) afforded silylene-bridged dinuclear complexes [Cp2Fe2(CO)2(μ-CO)(μ-SiHR)] , The structure of the complex [Cp2Fe2(CO)2(μ-CO)(μ-SiHBut)] was determined by X-ray crystallography.
    在RSiH3(R = t-Bu,(CMe2)2H)的存在下,光解[ CpFe(CO)2SiMe3](Cp = η5-C5H5)生成了硅基桥联的二核配合物[ Cp2Fe2(CO)2(μ-CO)(μ-SiHR)]。配合物[ Cp2Fe2(CO)2(μ-CO)(μ-SiHBut)]的结构通过X射线晶体学确定。
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