2-chloro-2-phenylbutane | 13144-95-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-chloro-2-phenylbutane
• 英文别名: (1-chloro-1-methyl-propyl)-benzene；(1-Chlor-1-methyl-propyl)-benzol；2-Chlor-2-phenyl-butan；(2-Chlorobutan-2-yl)benzene；2-chlorobutan-2-ylbenzene
• CAS: 13144-95-1；13144-96-2；67765-94-0
• 化学式: C₁₀H₁₃Cl
• 分子量: 168.666
• InChiKey: PVPAMCTVDFXDNB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  220.4±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.006±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-chloro-2-phenylbutane 在 platinum on activated charcoal 二甲醇缩甲醛 、 氢气 、 lithium 作用下， 以 甲基环己烷 为溶剂， 生成 3,4-Dimethyl-3,4-dicyclohexyl-hexan
  参考文献：
  名称：

  Petrov,A.D. et al., Journal of general chemistry of the USSR, 1960, vol. 30, p. 2818 - 2825

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  苯乙酮 在 盐酸 、 乙醚 作用下， 生成 2-chloro-2-phenylbutane
  参考文献：
  名称：

  芳烃磺酰基杂环（I）：2-苯磺酰基-4,5-二氯哒嗪-3-酮与胺的合成和反应

  摘要：

  在碱存在下，在四氢呋喃中用一些苯磺酰氯直接将4,5-二氯哒嗪-3-酮磺酰化，仅得到相应的N-磺酰化产物。2-苯磺酰基-4，5-二氯哒嗪-3-酮与一些脂族胺在中性条件下的反应得到5-烷基氨基-2-苯磺酰基-4-氯哒嗪-3-酮和/或相应的N-烷基-苯磺酰胺。

  DOI：

  10.1002/jhet.5570390129

文献信息

• The importance of resonance stabilization in the benzylic solvolysis. Substituent effects on the solvolysis of α,α-diisopropylbenzyl chlorides
  作者：Mizue Fujio、Kazuhide Nakata、Takashi Kuwamura、Hirotaka Nakamura、Yoshihiro Saeki、Masaaki Mishima、Shinjiro Kobayashi、Yuho Tsuno

  DOI：10.1016/s0040-4039(00)61418-1

  日期：1993.12

  The substituent effect on the solvolysis of α,α-diisopropylbenzyl chlorides can be described in terms of σ+ value. No significant steric loss of resonance was observed by introducing two bulky isopropyl groups into benzylic reaction center.

  可以根据σ +值描述取代基对α，α-二异丙基苄基氯的溶剂分解的影响。通过将两个庞大的异丙基引入苄基反应中心，未观察到明显的空间共振损失。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：HIRANO Shuji

  公开号：US20080248419A1

  公开（公告）日：2008-10-09

  A positive resist composition, includes: (A) a resin that has a group having absorption at 248 nm at a main chain terminal of the resin (A), and a pattern forming method uses the composition.

  一种正性光刻胶组合物，包括：（A）一种具有在树脂（A）的主链端具有在248nm处吸收的基团的树脂，并且使用该组合物进行图案形成的方法。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION, AND COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION
  申请人：Takahashi Hidenori

  公开号：US20110183258A1

  公开（公告）日：2011-07-28

  A positive resist composition comprising (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, and (C) a compound having a specific structure, which decomposes by the action of an acid to generate an acid, a pattern forming method using the positive resist composition, and a compound for use in the positive resist composition are provided as a positive resist composition exhibiting good performance in terms of pattern profile, line edge roughness, pattern collapse, sensitivity and resolution in normal exposure (dry exposure), immersion exposure and double exposure, a pattern forming method using the positive resist composition and a compound for use in the positive resist composition.

  本发明提供了一种正性光阻组合物，包括（A）一种在与光致发色剂或辐射照射时能够产生酸的化合物，（B）一种树脂，能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度，以及（C）一种具有特定结构的化合物，能够通过酸的作用分解产生酸。该正性光阻组合物在正常曝光（干曝光）、浸没曝光和双重曝光中表现出良好的图案形貌、线边粗糙度、图案坍塌、灵敏度和分辨率性能。同时，本发明提供了一种使用该正性光阻组合物的图案形成方法以及用于该正性光阻组合物的化合物。
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
  申请人：Takahashi Hidenori

  公开号：US20120156618A1

  公开（公告）日：2012-06-21

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing not only at least one repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and is expressed by any of general formulae (I) to (III) below but also a repeating unit (B) containing at least an aromatic ring group provided that the repeating unit (B) does not include any of those of general formulae (I) to (III). (The characters used in general formulae (I) to (III) have the meanings mentioned in the description.)

  根据一种实施例，一种感光射线或辐射敏感的树脂组合物包括树脂（P），该树脂不仅包含至少一个重复单元（A），当暴露于感光射线或辐射时，分解从而产生酸，并由下列任一通式（I）至（III）表示，而且还包括一个重复单元（B），其中至少包含一个芳香环基团，前提是重复单元（B）不包括通式（I）至（III）中的任何一个。（通式（I）至（III）中使用的字符在描述中有所提及。）
• ACTIVE LIGHT RAY SENSITIVE OR RADIOACTIVE RAY SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTIVE LIGHT RAY SENSITIVE OR RADIOACTIVE RAY SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：KAWABATA Takeshi

  公开号：US20120082939A1

  公开（公告）日：2012-04-05

  An active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern configuration, and good line edge roughness at the same time to a great extent, while having sufficiently good outgassing performance during exposure, and an active light ray sensitive or radioactive ray sensitive film formed by using the composition, and a pattern-forming method, are provided. The active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition according to the present invention includes a resin (P) containing a repeating unit (A) which decomposes by irradiation with active light ray or radioactive ray to generate an acid, and a repeating unit (C) containing a primary or secondary hydroxyl group.

  提供了一种活性光线敏感或放射线敏感的树脂组合物，其在很大程度上同时满足高灵敏度、高分辨率、良好的图案配置和良好的线边粗糙度，同时在曝光期间具有足够好的排气性能，以及使用该组合物形成的活性光线敏感或放射线敏感薄膜和形成图案的方法。本发明的活性光线敏感或放射线敏感的树脂组合物包括含有重复单元（A）的树脂（P），该重复单元通过活性光线或放射线辐射分解生成酸，并且含有主要或次要羟基的重复单元（C）。