4,4'-sulfinylbis((2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)benzene) | 1379476-07-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4,4'-sulfinylbis((2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)benzene)
• 英文别名: Bis[4-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]phenyl]sulfoxide；1-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]-4-[4-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]phenyl]sulfinylbenzene
• CAS: 1379476-07-9
• 化学式: C₂₂H₃₀O₇S
• 分子量: 438.542
• InChiKey: KJCFBSDAZAITOD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  16
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  91.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,3-二甲基-2,3-丁二胺 、 1-溴-2-(2-甲氧基乙氧基)乙烷 、 4,4’-二羟基二苯亚砜 在 potassium carbonate 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 以90%的产率得到4,4'-sulfinylbis((2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)benzene)
  参考文献：
  名称：

  PHOTOACID GENERATORS

  摘要：

  一种光酸发生剂化合物具有以下式(I)：G+Z−(I)，其中G具有以下式(II)： 在式(II)中，X为S或I，每个R0通常连接到X，并且独立地为C1-30烷基；多环或单环的C3-30环烷基；多环或单环的C6-30芳基；或包含至少其中一种上述基团的组合。G的分子量大于263.4克/摩尔，或小于263.4克/摩尔。一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基团，a为2或3，其中当X为I时，a为2，或当X为S时，a为2或3。式(I)中的Z包括磺酸盐、磺酰亚胺或磺酰胺的阴离子。光阻剂和涂层膜还包括该光酸发生剂，并且形成电子器件的方法使用该光阻剂。

  公开号：

  US20120141939A1
• 作为试剂：
  描述：

  Bis[4-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]phenyl]sulfide 、 双氧水 、 水 、 甲苯 在 disodium;dioxido-oxo-sulfanylidene-λ6-sulfane;pentahydrate ice 、 水 、 4,4'-sulfinylbis((2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)benzene) 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 反应 12.0h， 以obtained in Synthesis Example 1-42的产率得到4,4'-sulfinylbis((2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)benzene)
  参考文献：
  名称：

  PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION

  摘要：

  一种负型图案的制备方法，包括将含有公式（1）和（2）重复单元的聚合物和公式（3）的光酸发生剂的抗蚀组合物涂覆到基板上，烘烤、曝光、PEB和在有机溶剂中显影。在公式（1）和（2）中，R1是H，F，CH3或CF3，Z是单键，苯基，萘基或（骨架）-C（═O）-O-Z′-，Z′是烷基，苯基或萘基，XA是酸敏基团，YL是H或极性基团。在公式（3）中，R2和R3是单价碳氢基团，R4是二价碳氢基团，或R2和R3，或R2和R4可以与硫形成环，L是单键或二价碳氢基团，Xa和Xb是H，F或CF3，k是1到4的整数。

  公开号：

  US20140322650A1

文献信息

• POLYMERIZABLE PHOTOACID GENERATORS
  申请人：Thackeray James W.

  公开号：US20120171616A1

  公开（公告）日：2012-07-05

  A compound has formula (I): Q-O-(A)-Z − G + (I) wherein Q is a halogenated or non-halogenated, C 2-30 olefin-containing group, A is a fluorine-substituted C 1-30 alkylene group, a fluorine-substituted C 3-30 cycloalkylene group, a fluorine-substituted C 6-30 arylene group, or a fluorine-substituted C 7-30 alkylene-arylene group, Z is an anionic group comprising sulfonate, sulfonamide, or sulfonamide, and G + has formula (II): wherein X is S or I, each R 0 is halogenated or non-halogenated and is independently C 1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C 3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C 4-30 aryl group; or a combination of these, wherein when X is S, one of the R 0 groups is optionally attached to one adjacent R 0 group by a single bond, and a is 2 or 3, wherein when X is I, a is 2, or when X is S, a is 3. A copolymer, a photoresist, a coated substrate and method of patterning are disclosed.

  一种化合物的化学式为(I): Q-O-(A)-Z−G+(I)，其中Q是卤代或非卤代的含有C2-30烯烃基团的基团，A是氟代的C1-30烷基烯基基团、氟代的C3-30环烷基烷基基团、氟代的C6-30芳基烷基基团或氟代的C7-30烷基芳基基团，Z是包括磺酸盐、磺酰胺或磺酰胺的阴离子基团，G+的化学式为(II)：其中X为S或I，每个R0为卤代或非卤代且独立的C1-30烷基基团；多环或单环的C3-30环烷基基团；多环或单环的C4-30芳基基团；或这些的组合，其中当X为S时，其中一个R0基团可以通过单键连接到相邻的一个R0基团上，且a为2或3，当X为I时，a为2，当X为S时，a为3。还公开了共聚物、光阻、涂层基板和图案化方法。
• Polymerizable photoacid generators
  申请人：Thackeray James W.

  公开号：US08900792B2

  公开（公告）日：2014-12-02

  A compound has formula (I): Q-O-(A)-Z−G+  (I) wherein Q is a halogenated or non-halogenated, C2-30 olefin-containing group, A is a fluorine-substituted C1-30 alkylene group, a fluorine-substituted C3-30 cycloalkylene group, a fluorine-substituted C6-30 arylene group, or a fluorine-substituted C7-30 alkylene-arylene group, Z is an anionic group comprising sulfonate, sulfonamide, or sulfonimide, and G+ has formula (II): wherein X is S or I, each R0 is halogenated or non-halogenated and is independently C1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C4-30 aryl group; or a combination of these, wherein when X is S, one of the R0 groups is optionally attached to one adjacent R0 group by a single bond, and a is 2 or 3, wherein when X is I, a is 2, or when X is S, a is 3. A copolymer, a photoresist, a coated substrate and method of patterning are disclosed.

  一种化合物的化学式为(I): Q-O-(A)-Z−G+，其中Q是卤化或非卤化的含有C2-30烯基的基团，A是氟代的C1-30烷基、氟代的C3-30环烷基、氟代的C6-30芳基、或氟代的C7-30烷基-芳基，Z是包括磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，G+的化学式为(II):其中X为S或I，每个R0是卤化或非卤化且独立的C1-30烷基、多环或单环的C3-30环烷基、多环或单环的C4-30芳基或这些的组合，当X为S时，R0中的一个可以通过单键连接到相邻的R0基团之一上，a为2或3，当X为I时，a为2，当X为S时，a为3。还公开了一种共聚物、光刻胶、涂层基板和制图方法。
• Patterning process and resist composition
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US09164384B2

  公开（公告）日：2015-10-20

  A negative pattern is formed by coating a resist composition comprising a polymer comprising recurring units of formulae (1) and (2) and a photoacid generator of formula (3) onto a substrate, baking, exposure, PEB and developing in an organic solvent. In formulae (1) and (2), R1 is H, F, CH3 or CF3, Z is a single bond, phenylene, naphthylene, or (backbone)-C(═O)—O—Z′—, Z′ is alkylene, phenylene or naphthylene, XA is an acid labile group, YL is H or a polar group. In formula (3), R2 and R3 are a monovalent hydrocarbon group, R4 is a divalent hydrocarbon group, or R2 and R3, or R2 and R4 may form a ring with the sulfur, L is a single bond or a divalent hydrocarbon group, Xa and Xb are H, F or CF3, and k is an integer of 1 to 4.

  一种负型图案的制备方法，包括将一种包含由式（1）和（2）的重复单元组成的聚合物和式（3）的光酸发生剂的抗蚀剂组合物涂覆在基板上，烘烤，曝光，PEB和在有机溶剂中显影。在式（1）和（2）中，R1为H，F，CH3或CF3，Z为单键，苯基，萘基或（骨架）-C（═O）-O-Z′-，Z′为烷基，苯基或萘基，XA为酸敏感基团，YL为H或极性基团。在式（3）中，R2和R3为单价烃基，R4为二价烃基，或R2和R3，或R2和R4可以与硫形成环，L为单键或二价烃基，Xa和Xb为H，F或 ，k为1到4的整数。
• Photoacid generators
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2458440A1

  公开（公告）日：2012-05-30

  A photoacid generator compound has the formula (I):          G+ Z-     (I) wherein G has the formula (II): wherein in formula (II), X is S or I, each R0 is commonly attached to X and is independently a C1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C6-30 aryl group; or a combination comprising at least one of the foregoing, G has a molecular weight of greater than 263.4 g/mol, or G has a molecular weight of less than 263.4 g/mol and one or more R0 groups are further attached to an adjacent R0 group, a is 2 or 3, wherein when X is I, a is 2, or when X is S, a is 2 or 3, and Z in formula (I) comprises the anion of a sulfonic acid, a sulfonimide, or a sulfonamide. A photoresist and coated film also includes the photoacid generator and a polymer, and a method of forming an electronic device uses the photoresist.

  一种光酸发生器化合物具有式 (I)： G+ Z- (I) 其中 G 具有式 (II)： 其中，在式 (II) 中，X 是 S 或 I，每个 R0 通常连接到 X 并独立地是 C1-30 烷基；多环或单环的 C3-30 环烷基；多环或单环的 C6-30 芳基；或包含至少一种上述基团的组合，G 的分子量大于 263.4 g/mol，或G的分子量小于263.4 g/mol，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基团，a为2或3，其中当X为I时，a为2，或当X为S时，a为2或3，且式(I)中的Z包括磺酸、磺酰亚胺或磺酰胺的阴离子。光刻胶和涂膜还包括光酸发生器和聚合物，以及使用该光刻胶形成电子设备的方法。
• US8900792B2
  申请人：——

  公开号：US8900792B2

  公开（公告）日：2014-12-02