2,2'-dimethyl-3,3'-dinitrobiphenyl | 31354-19-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2'-dimethyl-3,3'-dinitrobiphenyl
• 英文别名: 2,2'-Dimethyl-3,3'-dinitro-1,1'-biphenyl；dimethyldinitrobiphenyl；2-methyl-1-(2-methyl-3-nitrophenyl)-3-nitrobenzene
• CAS: 31354-19-5
• 化学式: C₁₄H₁₂N₂O₄
• 分子量: 272.26
• InChiKey: HZJSZZVSDXVFGO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  389.0±42.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.290±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  91.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2'-dimethyl-3,3'-dinitrobiphenyl 在 硫酸 、 一水合肼 、 sodium nitrite 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 33.0h， 生成 3,3'-diiodo-2,2'-dimethyl-1,1'-biphenyl
  参考文献：
  名称：

  Novel biphenyl organocatalysts for iminium ion-catalyzed asymmetric epoxidation

  摘要：

  Two novel chiral biphenyl iminium salts derived from L-acetonamine, containing electron-withdrawing 3,3'-substituents on the biphenyl unit, have been prepared and tested as asymmetric catalysts for epoxidation of prochiral alkenes. The results are compared with those achieved using the corresponding unsubstituted system. (c) 2012 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.tet.2012.10.076
• 作为产物：
  描述：

  2-碘-6-硝基甲苯 在 palladium diacetate 、 caesium carbonate 、 2'-(dicyclohexylphosphanyl)-N₂,N₂,N₄,N₄-tetramethyl-[1,1'-biphenyl]-2,4-diamine 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 以70 %的产率得到2,2'-dimethyl-3,3'-dinitrobiphenyl
  参考文献：
  名称：

  光诱导的 Pd 催化剂能够实现 C(sp2)–C(sp2) 交叉亲电子偶联，绕过金属转移的需求

  摘要：

  过渡金属催化交叉偶联是构建（杂）联芳基支架的通用工具。然而，使用丰富的（杂）芳基卤化物和拟卤化物的交叉亲电子偶联仍处于起步阶段。特别是，用于交叉亲电子偶联的稳健且通用的方法将允许无与伦比地进入大量市售的、结构多样的（杂）芳基卤化物和拟卤化物作为偶联伙伴。在这里，我们展示了一种配体控制的可见光驱动的单金属交叉亲电子试剂偶联平台，其中双钯催化循环的协同操作根据键解离焓来区分亲电子试剂。该方法温和且具有选择性，对多种官能团和具有挑战性的杂芳基显示出功效。通过各种药物的（杂）联芳核心的合成和肽的多样化，揭示了这种转化的力量。该技术绕过了传统的金属转移步骤，为（杂）芳基卤化物和拟卤化物的交叉亲电子偶联提供了通用策略。

  DOI：

  10.1038/s41929-024-01109-4

文献信息

• Resist materials
  申请人：AT&T Bell Laboratories

  公开号：US05200544A1

  公开（公告）日：1993-04-06

  A class of resist compositions sensitive to deep ultraviolet radiation includes a resin sensitive to acid and a composition that generates acid upon exposure to such radiation. A group of nitrobenzyl materials is particularly suitable for use as the acid generator.

  此类抗蚀剂组合物对深紫外光敏感，包括对酸敏感的树脂和一种在暴露于此类辐射时产生酸的组合物。特别是，硝基苄基材料适合用作酸发生剂。
• US3944553A
  申请人：——

  公开号：US3944553A

  公开（公告）日：1976-03-16
• US5200544A
  申请人：——

  公开号：US5200544A

  公开（公告）日：1993-04-06