3,4-二氟-苯磺酸 | 1185115-56-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 3,4-二氟-苯磺酸
• 中文别名: 3,4-二氟苯磺酸
• 英文名称: 3,4-Difluorobenzenesulfonic acid
• CAS: 1185115-56-3
• 化学式: C₆H₄F₂O₃S
• 分子量: 194.159
• InChiKey: BHVOQJHAIJQXNK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.609

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  62.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三甲基氯硅烷 、 3,4-二氟-苯磺酸 生成 trimethylsilyl 3,4-difluorobenzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Fluor-Benzolsulfonsäuretrimethylsilylester

  摘要：

  三甲基硅醇酯的氟苯磺酸 通过氟苯的电亲核磺化反应制备了氟苯磺酸。这些酸以水合物的形式获得，并转化为其三甲基硅醇酯以进行表征。

  DOI：

  10.1055/s-1988-27668
• 作为产物：
  描述：

  1,2-二氟苯 在 三氧化硫 作用下， 反应 21.0h， 生成 3,4-二氟-苯磺酸
  参考文献：
  名称：

  Fluor-Benzolsulfonsäuretrimethylsilylester

  摘要：

  三甲基硅醇酯的氟苯磺酸 通过氟苯的电亲核磺化反应制备了氟苯磺酸。这些酸以水合物的形式获得，并转化为其三甲基硅醇酯以进行表征。

  DOI：

  10.1055/s-1988-27668

文献信息

• [EN] TGR5 AGONISTS<br/>[FR] AGONISTES DE TGR5
  申请人：EXELIXIS INC

  公开号：WO2011071565A1

  公开（公告）日：2011-06-16

  TGR5 agonists of structural formula VIII(Q), wherein X, R1, R2, and R5 are defined in the specification, pharmaceutically acceptable salts thereof, compositions thereof, and use of the compounds and compositions for treating diseases. The invention also comprises use of the compounds in and for the manufacture of medicaments, particularly for treating diseases.

  TGR5激动剂的结构式VIII(Q)，其中X、R1、R2和R5在规范中定义，其药用盐、组合物以及用于治疗疾病的化合物和组合物的使用。该发明还包括在制药品中使用这些化合物以及用于制造药物，特别是用于治疗疾病。
• [EN] COMPOUNDS AS CRTH2 ANTAGONIST AND USES THEREOF<br/>[FR] COMPOSÉS EN TANT QU'ANTAGONISTES DE CRTH2 ET UTILISATIONS DE CEUX-CI
  申请人：SUNSHINE LAKE PHARMA CO LTD

  公开号：WO2016037591A1

  公开（公告）日：2016-03-17

  The compounds of Formula (I) which can be used as CRTH2 receptor antagonists are provided. The compounds of Formula (I) can be used in the treatment and prevention of asthma, allergic rhinitis and atopic dermatitis, as well as other diseases mediated by prostaglandin D2 (PGD2) at the CRTH2 receptor.

  提供可用作CRTH2受体拮抗剂的化合物的化学式（I）。化合物的化学式（I）可用于治疗和预防哮喘、过敏性鼻炎和特应性皮炎，以及其他由CRTH2受体介导的前列腺素D2（PGD2）引起的疾病。
• Compounds with medicinal effects due to interaction with the glucocorticoid receptor
  申请人：Hamilton Morton Niall

  公开号：US20070149577A1

  公开（公告）日：2007-06-28

  The invention provides for compounds having the structure according to the formula I wherein: X is a carbon or nitrogen atom; Ar is phenyl or heteroaromatic ring; R 1 is hydrogen, halogen, CN or (1C-4C)alkyl; R 2 is hydrogen, halogen or optionally fluorinated (1C-3C)alkoxy; R 3 and R 5 are independently hydrogen, optionally halogenated (1C-4C)alkyl, optionally halogenated (1C-4C)alkoxy, optionally halogenated aryl(1C-4C)alkoxy, optionally halogenated (1C-4C)alkenyl or hydroxylmethyl; R 4 is hydrogen, halogen, optionally halogenated (1C-4C)alkoxy or optionally halogenated aryl(1C-4C)alkoxy; R 6 is hydrogen, benzyl, optionally substituted with one or more halogens or (1C-4C)alkyl, or R 6 is optionally halogenated (1C-4C)alkyl; each R 7 independently is hydrogen, halogen, optionally halogenated (1C-4C)alkyl or optionally halogenated (1C-4C)alkoxy and pharmaceutically suitable acid addition salts thereof for use as glucocorticoid receptor modulators, in particular for treatment of central nervous system disorders.

  该发明提供了具有以下结构的化合物，符合以下式I的结构：其中：X是碳或氮原子；Ar是苯基或杂环芳香环；R1是氢、卤素、CN或(1C-4C)烷基；R2是氢、卤素或可选氟化的(1C-3C)烷氧基；R3和R5分别是氢、可选卤代的(1C-4C)烷基、可选卤代的(1C-4C)烷氧基、可选卤代的芳基(1C-4C)烷氧基、可选卤代的(1C-4C)烯基或羟甲基；R4是氢、卤素、可选卤代的(1C-4C)烷氧基或可选卤代的芳基(1C-4C)烷氧基；R6是氢、苄基，可选用一个或多个卤素或(1C-4C)烷基取代，或R6是可选卤代的(1C-4C)烷基；每个R7独立地是氢、卤素、可选卤代的(1C-4C)烷基或可选卤代的(1C-4C)烷氧基，以及其药用合适的酸盐，用作糖皮质激素受体调节剂，特别用于治疗中枢神经系统疾病。
• Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method
  申请人：——

  公开号：US20030207201A1

  公开（公告）日：2003-11-06

  The invention provides a high-resolution resist material comprising an acid generator that has high sensitivity and high resolution with respect to high-energy rays of 300 nm or less, has small line-edge roughness, and is superior in heat stability and in shelf stability, and provides a pattern forming method that uses this resist material. The invention further provides a chemically amplified positive resist material comprising a base resin, an acid generator and a solvent in which the acid generator generates an alkylimidic acid containing a fluorine group, and provides a pattern forming method comprising a step of applying the resist material to the substrate, a step of performing exposure to a high-energy ray of a wavelength of 300 nm or less through a photomask following heat treatment, and a step of performing development by a developing solution following heat treatment.

  本发明提供了一种高分辨率的抗蚀材料，包括具有高灵敏度和高分辨率，对300纳米或以下的高能射线具有小线边粗糙度，具有优异的热稳定性和货架稳定性的酸发生剂，并提供使用该抗蚀材料的图案形成方法。本发明还提供了一种化学增强型正向抗蚀材料，包括基础树脂、酸发生剂和溶剂，其中酸发生剂生成含有氟基的烷基亚胺酸，并提供一种图案形成方法，包括将抗蚀材料涂布到基板上的步骤，经过热处理后通过光掩膜对波长为300纳米或以下的高能射线进行曝光的步骤，以及经过热处理后通过显影液进行显影的步骤。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1953593A1

  公开（公告）日：2008-08-06

  It is intended to provide a radiation-sensitive resin composition, which comprises a radiation-sensitive acid generator excellent in resolution performance, heat stability, and storage stability, suppresses fluctuations in line width and deterioration in pattern profile attributed to standing waves, and produces a resist pattern improved in nano edge roughness and LEF. The radiation-sensitive resin composition is characterized by (A) a radiation-sensitive acid generator comprising: a sulfonium salt compound typified by 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 2,4-difluorobenzenesulfonate, 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 4-trifluoromethylbenzenesulfonate, or the like; and a sulfonimide compound. It is preferred that the composition should further comprise (B) a resin typified by a 4-hydroxystyrene/4-t-butoxystyrene copolymer, a 4-hydroxystyrene/t-butyl (meth)acrylate, or the like.

  本发明的目的是提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含一种在分辨率、热稳定性和储 存稳定性方面都很出色的辐射敏感酸发生器，它能抑制驻波引起的线宽波动和图案轮廓的恶化， 并能产生在纳米边缘粗糙度和 LEF 方面都有所改善的抗蚀图案。辐射敏感树脂组合物的特征在于 (A) 辐射敏感酸发生器，包括：锍盐化合物，如 2,4,6-三甲基二苯基锍 2,4-二氟苯磺酸盐、2,4,6-三甲基二苯基锍 4-三氟甲基苯磺酸盐或类似物；以及磺酰亚胺化合物。组合物最好还包括 (B) 一种树脂，其类型为 4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/（甲基）丙烯酸丁酯或类似物。