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4-tert-butylbenzyl acrylate

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-tert-butylbenzyl acrylate
英文别名
(4-Tert-butylphenyl)methyl prop-2-enoate
4-tert-butylbenzyl acrylate化学式
CAS
——
化学式
C14H18O2
mdl
——
分子量
218.296
InChiKey
KSEHEDNTEDVLIX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.9
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.36
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4-tert-butylbenzyl acrylatediiodobis(triphenylphosphine)cobalt(II) 三苯基膦 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 24.0h, 以96%的产率得到Hexanedioic acid bis-(4-tert-butyl-benzyl) ester
    参考文献:
    名称:
    钴催化的烯烃二聚
    摘要:
    在CoX 2(PPh 3)2/3 PPh 3和锌金属共轭烯烃(CH 2 CHCOOR,CH 2 CHCN ,CH 2 CHSO 2 Ph和CH 2 CHCONEt 2)存在下,进行还原性的尾到尾二聚反应,得到相应的饱和线性产物。在相似的反应条件下,乙烯基芳烃(ArCHCH 2)可以产生立体选择性的头对尾二聚产物,即反式-1,3-二芳基丁-1-烯,产率高至优异。
    DOI:
    10.1016/j.tetlet.2004.04.085
  • 作为产物:
    描述:
    4-叔丁基苄醇丙烯酰氯4-二甲氨基吡啶三乙胺 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 6.0h, 以94%的产率得到4-tert-butylbenzyl acrylate
    参考文献:
    名称:
    以硫酸铁 (III) 为再氧化剂的钯催化活性烯烃的抗马尔科夫尼科夫氧化缩醛化反应
    摘要:
    本文公开了以硫酸铁( III )为再氧化剂的活性末端烯烃的高效钯催化抗马尔科夫尼科夫氧化缩醛化反应。该方法需要温和的反应条件,并显示出对抗马尔科夫尼科夫产物的高区域选择性以及与多种官能团的相容性。硫酸铁( III ) 是该方法中使用的唯一再氧化剂。各种烯烃,如乙烯基芳烃、芳基烯丙基醚、丙烯酸芳基或苄基丙烯酸酯和高烯丙醇都反应良好,提供抗马尔科夫尼科夫缩醛,其中一些代表正交官能化的 1,3-和 1,4-二氧化化合物。
    DOI:
    10.1039/d1ob02227j
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文献信息

  • A simple route to 1,4-addition reactions by Co-catalyzed reductive coupling of organic tosylates and triflates with activated alkenes
    作者:Jen-Chieh Hsieh、Yi-Hua Chu、Krishnamoorthy Muralirajan、Chien-Hong Cheng
    DOI:10.1039/c7cc06881f
    日期:——
    An efficient Co-catalyzed 1,4-addition reaction of alkyl/aryl triflates and tosylates with activated alkenes is described. In this reaction, air-stable cobalt(II) complex, mild reducing agent Zn and simple proton source (H2O) are used. A radical mechanism for the addition of alkyl tosylates to activated alkenes is likely involved.
    描述了烷基/芳基三氟甲磺酸酯和甲苯磺酸酯与活化的烯烃的有效的共催化的1,4-加成反应。在该反应中,使用了空气稳定的钴(II)配合物,温和的还原剂Zn和简单的质子源(H2O)。可能存在将烷基甲苯磺酸酯加成到活化烯烃上的自由基机理。
  • A direct route to six and seven membered lactones <i>via</i> γ-C(sp<sup>3</sup>)–H activation: a simple protocol to build molecular complexity
    作者:Jayabrata Das、Pravas Dolui、Wajid Ali、Jyoti Prasad Biswas、Hediyala B. Chandrashekar、Gaurav Prakash、Debabrata Maiti
    DOI:10.1039/d0sc03144e
    日期:——
    Lactones comprise a class of valuable compounds having biological as well as industrial importance. Development of a methodology to synthesize such molecules directly from readily available materials such as aliphatic carboxylic acid is highly desirable. Herein, we have reported synthesis of δ-lactones and ε-lactones via selective γ-C(sp3)–H activation. The γ-C–H bond containing aliphatic carboxylic
    内酯包括一类具有生物学和工业重要性的有价值的化合物。迫切需要开发一种从容易获得的材料(例如脂肪族羧酸)直接合成此类分子的方法。在本文中,我们报道了通过选择性的γ-C(sp 3)–H活化合成δ-内酯和ε-内酯。在钯催化剂的存在下,含γ-CH键的脂肪族羧酸可提供六元或七元内酯,具体取决于烯烃配偶体。一项机械研究表明,CH活化是决定速率的步骤。已经进行了内酯的进一步转化以展示本发明策略的适用性。
  • CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS, PATTERNING METHOD AND PATTERN
    申请人:Kodama Kunihiko
    公开号:US20110236595A1
    公开(公告)日:2011-09-29
    Provided is a curable composition for imprints having good patternability and dry etching resistance. Disclosed is a curable composition for imprints comprising a polymerizable monomer (Ax) having a substituent having an aromatic group and having a molecular weight of 100 or more, and a photopolymerization initiator.
    提供了一种可治愈的组合物,用于具有良好图案性和干法蚀刻抵抗力的印迹。公开了一种可治愈的印迹组合物,包括具有芳香基取代基并具有分子量为100或更高的聚合单体(Ax)和光聚合引发剂。
  • Dynamic Kinetic Reductive Conjugate Addition for Construction of Axial Chirality Enabled by Synergistic Photoredox/Cobalt Catalysis
    作者:Wei Xiong、Xuan Jiang、Wen-Cheng Wang、Ying Cheng、Liang-Qiu Lu、Ke Gao、Wen-Jing Xiao
    DOI:10.1021/jacs.2c13538
    日期:——
    Conjugate addition is among the most important synthetic protocols for constructing carbon skeletons and is widely used to synthesize natural products and drugs. However, asymmetric catalysis studies have mainly focused on constructing stereogenic centers arising from conjugate alkenes. Here, we report the first photoinduced cobalt-catalyzed dynamic kinetic reductive conjugate addition reaction that
    共轭加成是构建碳骨架最重要的合成方案之一,广泛用于合成天然产物和药物。然而,不对称催化研究主要集中在构建由共轭烯烃产生的手性中心。在这里,我们报告了第一个光诱导钴催化的动态动力学还原共轭加成反应,该反应能够形成具有轴向手性的杂二芳基(45 个例子,高达 91% 的产率和 97% ee)。该方法具有反应条件温和、官能团耐受性好、对映体控制好等特点。重要的是,在这些条件下可以避免大量的金属废物和贵金属催化剂。基于动力学研究,手性芳基钴物种迁移到烯烃中可能是决速步骤。
  • Composition for forming a resist upper-layer film and method for producing a semiconductor device using the composition
    申请人:NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    公开号:US10042258B2
    公开(公告)日:2018-08-07
    This composition for forming an extreme-ultraviolet (EUV) or electron-beam upper-layer resist film including (a) a polymer (P) and (b) a solvent, the solvent containing 1 to 13 mass % of a C4-12 ketone compound with respect to the entire solvent, is used in the lithography process of a procedure for manufacturing a semiconductor device. Without needing to be intermixed with a resist, and particularly on the occasion of EUV exposure, the composition for forming an EUV or electron-beam upper-layer resist film blocks undesirable exposure light, e.g., ultraviolet (UV) or deep ultraviolet (DUV) rays, and selectively transmits only the EUV rays, and can be developed using a developing solution after exposure.
    这种用于形成极紫外(EUV)或电子束上层抗蚀剂薄膜的组合物包括(a)聚合物(P)和(b)溶剂,溶剂中的C4-12酮化合物占整个溶剂的1-13质量%,用于半导体设备制造过程中的光刻工艺。这种用于形成 EUV 或电子束上层抗蚀剂薄膜的组合物无需与抗蚀剂混合,尤其是在进行 EUV 曝光时,可阻挡不希望的曝光光(例如紫外线 (UV) 或深紫外线 (DUV)),并选择性地只透射 EUV 射线,曝光后可使用显影液进行显影。
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