Verbindungen mit säurelabilen Schutzgruppen und damit hergestelltes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch
申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0525626A1
公开(公告)日:1993-02-03
Die Erfindung betrifft Verbindungen der allgemeinen Formel I
worin
X ein Phenyl-, [1]Naphthyl- oder [2]Naphthylrest ist, der jeweils mit mindestens einer tert.-Butoxycarbonyloxygruppe substituiert ist und gegebenfalls einen oder mehr als einen zusätzlichen Substituenten aufweist,
R1 für ein Wasserstoffatom, einen (C1-C6)Alkyl-, einen (C6-C10)Arylrest oder einen der Reste X steht und
R2 und R3 gleich oder verschieden sind und einen (C1-C12)Alkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen durch Brückenglieder, die mindestens ein Heteroatom aufweisen, wie -O-, -S-, -NR4-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -O-CO-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-NH-CO-, -S02-, -S02-0-, oder -S02-NH-, ersetzt sind, einen (C3-C12)Alkenyl-, (C3-C12)Alkinyl, (C4-C12)Cycloalkyl-, (C4-C12)-Cycloalkenyl- oder (C8-C16)Aralkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen des aliphatischen Teils durch Brückenglieder der oben genannten Art ersetzt sind und der im aromatischen Teil durch Fluor-, Chlor- oder Bromatome, durch (C1-C4)Alkyl-, (C1-C4)Alkoxy-, Nitro-, Cyano- oder tert.-Butoxycarbonyloxygruppen substituiert sein kann, bedeuten, wobei
R4 für einen Acyl-, insbesondere einen (C1-C6)Alkanoylrest, steht,
und Verfahren zu ihrer Herstellung sowie positiv arbeitende strahlungsempfindliche Gemische, die diese Verbindungen als Lösungsinhibitoren enthalten. Sie betrifft weiterhin ein damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, das für Photoresists, elektrische Bauteile und Druckplatten sowie zum Formteilätzen geeignet ist.
本发明涉及通式 I 的化合物
其中
X是苯基、[1]萘基或[2]萘基,其中每个基团都被至少一个叔丁氧羰氧基取代,并可选择具有一个或多个附加取代基、
R1 是氢原子、(C1-C6)烷基、(C6-C10)芳基或 X 和 R3 中的一个基团。
R2和R3相同或不同,以及一个(C1-C12)烷基,其中最多三个亚甲基由桥构件桥接,桥构件至少有一个杂原子、如-O-、-S-、-NR4-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-O-CO-NH-、-NH-CO-NH-、-CO-NH-CO-、-S02-、-S02-0-或-S02-NH-,一个(C3-C12)烯基-、(C3-C12)炔基-、(C3-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-和(C4-C12)环烷基-。(C4-C12)环烷基、(C4-C12)环烯基或(C8-C16)芳烷基,其中脂肪族的最多三个亚甲基可选择被上述类型的桥基取代,芳香族的桥基被氟、氯或溴原子、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、硝基、氰基或叔丁基取代。-丁氧羰氧基基团,其中
R4 代表酰基,特别是 (C1-C6) 烷酰基、
及其制备工艺,以及含有这些化合物作为溶液抑制剂的正工作辐射敏感混合物。它还涉及一种用其生产的记录材料,该材料适用于光刻胶、电子元件和印刷板以及模制件蚀刻。