2,4,6-triisopropylbenzenesulfonate sodium salt | 63877-54-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonate sodium salt
• 英文别名: Sodium 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonate；sodium;2,4,6-tri(propan-2-yl)benzenesulfonate
• CAS: 63877-54-3
• 化学式: C₁₅H₂₃O₃S*Na
• 分子量: 306.402
• InChiKey: ZACOHNQVNKGMLQ-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.96
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  65.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonate sodium salt 以 水 为溶剂， 反应 0.5h， 以85%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  本发明提供了一种亚砜盐，能够提供在光刻工艺中使用高能光束作为光源时具有较少缺陷的光刻胶组合物，并通过控制酸扩散在光刻性能方面表现出色。本发明通过包括阴离子和阳离子的亚砜盐实现，其中阳离子具有以下通用式（1）所表示的部分结构，除了具有以下通用式（1'）所表示的阳离子的亚砜盐。

  公开号：

  US20180275516A1
• 作为产物：
  描述：

  三異丙苯 在 氯磺酸 、 sodium hydroxide 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 10.0h， 生成 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonate sodium salt
  参考文献：
  名称：

  偶氮偶联反应的机理：第三十六部分。偶氮偶联反应中阴离子相转移催化剂的结构与催化活性的关系

  摘要：

  研究了一系列含有烷基、羟基或甲氧基的 15 种芳烃磺酸钠，用于 4-甲氧基苯重氮离子 (1) 与 1,3,5-三甲氧基苯 (2) 在二氯甲烷 /水两相系统，其中测量了产率、初始反应速率和重氮离子 1 分解的影响。抗衡阴离子对二氯甲烷/水体系中重氮离子1分配系数(α)的影响，以及抗衡阴离子的溶剂极性和结构对重氮离子1与重氮离子偶氮偶联反应速率的影响研究了有机溶剂和二氯甲烷/水体系中的 N,N-二甲基苯胺 (4) 和 1,3,5-三甲氧基苯 (2)。tetrakis 的对称结构[3, 5-双(三氟甲基)苯基]硼酸盐 (TFPB) 阴离子被证明是与 TFPB 离子配对的重氮离子 1 具有非常高的 α 的重要因素。松散的...

  DOI：

  10.1246/bcsj.66.2590

文献信息

• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20180275516A1

  公开（公告）日：2018-09-27

  The present invention provides a sulfonium salt capable of providing a resist composition having few defects in photolithography where a high energy beam is used as a light source, and excellent in lithography performance by controlling acid diffusion. The present invention was accomplished by a sulfonium salt including an anion and a cation, the cation having a partial structure represented by the following general formula (1), except for a sulfonium salt having a cation represented by the following general formula (1′),

  本发明提供了一种亚砜盐，能够提供在光刻工艺中使用高能光束作为光源时具有较少缺陷的光刻胶组合物，并通过控制酸扩散在光刻性能方面表现出色。本发明通过包括阴离子和阳离子的亚砜盐实现，其中阳离子具有以下通用式（1）所表示的部分结构，除了具有以下通用式（1'）所表示的阳离子的亚砜盐。
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
  申请人：Kawabata Takeshi

  公开号：US20110189609A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes an arylsulfonium salt that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, the arylsulfonium salt containing at least one aryl ring on which there are a total of one or more electron donating groups, the acid generated upon exposure to actinic rays or radiation having a volume of 240 Å 3 or greater.
• DENTAL COMPOSITION CONTAINING PLATINUM NANOPARTICLES
  申请人：KURARAY NORITAKE DENTAL INC.

  公开号：US20200390661A1

  公开（公告）日：2020-12-17

  The present invention provides a dental composition that exhibits excellent long-lasting antibacterial activity even as a cured product, and that excels in aesthetic quality with no discoloration occurring in water or in hydrogen sulfide. The present invention relates to a dental composition comprising a platinum nanoparticle (a) uncoated with a colloidal protective material.
• US8962233B2
  申请人：——

  公开号：US8962233B2

  公开（公告）日：2015-02-24
• JP5856991
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——