p-toluenesulfonyl-trifluoromethanesulfonyl-methane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: p-toluenesulfonyl-trifluoromethanesulfonyl-methane
• 英文别名: 1-[[[(Trifluoromethyl)sulfonyl]methyl]sulfonyl]-4-methylbenzene；1-methyl-4-(trifluoromethylsulfonylmethylsulfonyl)benzene
• 化学式: C₉H₉F₃O₄S₂
• 分子量: 302.295
• InChiKey: OCSYJRBOLFPREY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  85
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  p-toluenesulfonyl-trifluoromethanesulfonyl-methane 、 对甲苯磺酰叠氮 、 三乙胺 、 水 在 氮气 、 二氯甲烷 、 盐酸 、 碳酸氢钠 、 水 、 magnesium sulfate 、 silica gel 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 p-toluenesulfonyl-trifluoromethanesulfonyl-diazomethane
  参考文献：
  名称：

  Photoacid generators and photoresists comprising same

  摘要：

  提供了新的光酸发生剂化合物（“PAGs”）和包含这种化合物的光阻组合物。特别地，提供了非离子取代二磺酰化合物PAGS，其中包括在取代磺酸基团之间插入了重氮、取代亚甲基或肼基团的二磺酰PAGs。还提供了包含这些PAGs的正向和负向化学增强光阻，最好使用次300 nm或次200 nm辐射进行成像，例如248 nm、193 nm或157 nm辐射。

  公开号：

  US06783912B2
• 作为产物：
  描述：

  1-Methyl-4-trifluoromethylsulfanylmethylsulfanyl-benzene 在 双氧水 、 三氟乙酸 作用下， 生成 p-toluenesulfonyl-trifluoromethanesulfonyl-methane
  参考文献：
  名称：

  新型1-（芳基磺酰基）-1-[（三氟甲基）磺酰基]甲烷衍生物的合成及杀虫活性。

  摘要：

  我们最近合成了一系列新型的二磺酰甲烷化合物，这些化合物已显示出驱虫和杀虫（杀虫）活性。几种类似物已显示出对抗内部线虫Haemonchus contortus的活性。在绵羊研究中，这些类似物显示出以10 mg / kg的速率可100％控制这种内部寄生虫。已经观察到针对叮咬的蝇Stomoxys calcitrans和Irema的体外活性分别低至25和2.3 ppm。仅观察到针对肝吸虫Fasciola hepatica和Trichostrongylus colubriformis的边缘活性。该系列大鼠肝脏线粒体的呼吸控制指数值表明，氧化磷酸化的解偶联是一种作用机制。化合物1被认为是治疗被寄生虫的羊的有前途的药物。

  DOI：

  10.1021/jm970678y

文献信息

• US6783912B2
  申请人：——

  公开号：US6783912B2

  公开（公告）日：2004-08-31
• [EN] PHOTOACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME<br/>[FR] GENERATEURS D'ACIDES PHOTOSENSIBLES ET PHOTORESISTS COMPRENANT CES DERNIERS
  申请人：SHIPLEY CO LLC

  公开号：WO2001063363A2

  公开（公告）日：2001-08-30

  New photoacid generator compounds ('PAGs') are provided and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, non-ionic substituted disulfone compounds PAGS are provided, including disulfone PAGs that contain a diazo, substituted methylene or hydrazine moiety interposed between substituted sulfone groups. Also provided are positive- and negative-acting chemically amplified resists that contain such PAGs and that are preferably imaged with sub-300 nm or sub-200 nm radiation such as 248 nm, 193 nm, or 157 nm radiation.