tetrafluorosulfonylhydrazine | 15947-55-4

• 分子结构分类: 无机化合物 - 均质非金属化合物 - 卤代有机物
• 英文名称: tetrafluorosulfonylhydrazine
• 英文别名: N-[bis(fluorosulfonyl)amino]-N-fluorosulfonylsulfamoyl fluoride
• CAS: 15947-55-4
• 化学式: F₄N₂O₈S₄
• 分子量: 360.266
• InChiKey: NYRLSDHLACVLLO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  2.418±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  177
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  14

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  fluoro[imidobis(sulfuryl fluoride)]xenon(II) 以 一氟三氯甲烷 为溶剂， 生成 tetrafluorosulfonylhydrazine
  参考文献：
  名称：

  Xenon-nitrogen bonds. The synthesis and characterization of [imidobis(sulfuryl fluoride)]xenon(II) derivatives Xe[N(SO2F)2]2, FXeN(SO2F)2 and [(FSO2)2NXe]2F+AsF6- and the radical .cntdot.N(SO2F)2

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00416a007

文献信息

• 디플루오로술포닐 이미드 또는 그 염의 제조 방법
  申请人：CARBOTECH Co., Ltd. 카보텍재료개발주식회사(120160473011) Corp. No ▼ 135511-0166667BRN ▼140-81-12991

  公开号：KR101687374B1

  公开（公告）日：2016-12-16

  The present invention relates to a synthesis method of difluorosulfonyl imide or salts thereof, and more specifically, to a method for producing difluorosulfonyl imide or salts thereof through a process in which an organosilicon nitrogen compound is dissolved in an organic solvent, and any one selected among fluorosulfonyl chloride (FSO_2Cl), fluorosulfonic acid (FSO_3H), chlorosulfonic acid (ClSO_3H) and dichlorosulfone (ClSO_2Cl) is added thereto and made to react therein. The present invention can produce stable and high-quality difluorosulfonyl imide or salts thereof by using safe organosilicon nitrogen compounds without using amine gas or inorganic amine, and can produce industrial-grade high-purity products in large quantities. COPYRIGHT KIPO 2016

  本发明涉及一种二氟磺酰亚胺或其盐的合成方法，更具体地说，涉及一种通过将有机硅氮化合物溶解在有机溶剂中，并向其中添加选择的氟磺酰氯（FSO_2Cl）、氟磺酸（FSO_3H）、氯磺酸（ClSO_3H）和二氯磺酮（ClSO_2Cl）中的任意一种并在其中反应的方法来生产二氟磺酰亚胺或其盐的方法。本发明可以使用安全的有机硅氮化合物生产稳定且高质量的二氟磺酰亚胺或其盐，而不使用胺气体或无机胺，并且可以大量生产工业级高纯度产品。版权KIPO 2016。
• Xenon-nitrogen bonds. The synthesis and characterization of [imidobis(sulfuryl fluoride)]xenon(II) derivatives Xe[N(SO2F)2]2, FXeN(SO2F)2 and [(FSO2)2NXe]2F+AsF6- and the radical .cntdot.N(SO2F)2
  作者：Darryl D. DesMarteau、Robert D. LeBlond、S. Fazley Hossain、Dietrich Nothe

  DOI：10.1021/ja00416a007

  日期：1981.12