2,2-difluoro-2-(4-fluorophenoxy)acetic acid | 338792-64-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2-difluoro-2-(4-fluorophenoxy)acetic acid
• CAS: 338792-64-6
• 化学式: C₈H₅F₃O₃
• 分子量: 206.121
• InChiKey: OWBDUXZUUDKLMS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  263.5±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.475±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-difluoro-2-(4-fluorophenoxy)acetic acid 在 2,6-二氟吡啶 、 silver(II) fluoride 、 silver fluoride 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 以80%的产率得到4-三氟甲氧基氟苯
  参考文献：
  名称：

  氟代羧化反应合成三氟甲基芳基醚

  摘要：

  据报道，通过相应的羧酸的氟脱羧合成单，二和三氟甲基芳基醚。AgF 2引起芳氧基二氟乙酸的脱羧，并且就地生成或单独添加的AgF用作氟的来源，以生成氟代脱羧产物。2,6-二氟吡啶的添加增加了AgF 2的反应性，从而增加了所能接受的芳基的官能团范围和电子性质。用于形成三氟甲基芳基醚的反应条件也用于形成二氟甲基和单氟甲基芳基醚。

  DOI：

  10.1002/anie.201604793
• 作为产物：
  描述：

  4-氟苯酚 在 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 、 sodium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 2,2-difluoro-2-(4-fluorophenoxy)acetic acid
  参考文献：
  名称：

  二氟化氙介导的氟代羧化反应合成二氟和三氟甲氧基芳烃

  摘要：

  在单和二氟芳氧基乙酸衍生物的氟脱羧反应中，XeF 2被证明是比NFSI或Selectfluor更有效的氟转移试剂。该方法有效地转化了多种中性和电子贫乏的底物，以良好至极好的收率提供了所需的二氟和三氟甲基芳基醚。纯化很容易，反应时间少于5分钟，这使得这些氟代脱羧有希望用于未来的PET成像应用。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.6b02208

文献信息

• [EN] AGRICULTURAL CHEMICALS<br/>[FR] SUBSTANCES AGROCHIMIQUES
  申请人：REDAG CROP PROT LTD

  公开号：WO2017178819A1

  公开（公告）日：2017-10-19

  The present invention relates to compounds which are of use in the field of agriculture as fungicides.

  本发明涉及在农业领域作为杀菌剂使用的化合物。
• <i>O</i>-Trifluoromethylation of Phenols: Access to Aryl Trifluoromethyl Ethers by <i>O</i>-Carboxydifluoromethylation and Decarboxylative Fluorination
  作者：Min Zhou、Chuanfa Ni、Zhengbiao He、Jinbo Hu

  DOI：10.1021/acs.orglett.6b01779

  日期：2016.8.5

  A new strategy for the synthesis of aryl trifluoromethyl ethers (ArOCF3) by combining O-carboxydifluoromethylation of phenols and subsequent decarboxylative fluorination is reported. This protocol allows easy construction of functionalized trifluoromethoxybenzenes and trifluoromethylthiolated arenes (ArSCF3) in moderate to good yields. Moreover, it utilizes accessible and inexpensive reagents sodium

  报道了通过结合苯酚的O-羧基二氟甲基化和随后的脱羧氟化来合成芳基三氟甲基醚（ArOCF 3）的新策略。该方案允许以中等至良好的产率容易地构建官能化的三氟甲氧基苯和三氟甲基硫醇化的芳烃（ArSCF 3）。而且，它利用可及的和便宜的试剂溴二氟乙酸钠和SelectFluor II，因此对于苯酚的O-三氟甲基化是实用的。制备植物生长调节剂氟草啶醇证明了该方法的潜在应用。
• Fluorodecarboxylation for the Synthesis of Trifluoromethyl Aryl Ethers
  作者：Qing-Wei Zhang、Andrew T. Brusoe、Vincent Mascitti、Kevin D. Hesp、David C. Blakemore、Jeffrey T. Kohrt、John F. Hartwig

  DOI：10.1002/anie.201604793

  日期：2016.8.8

  The synthesis of mono‐, di‐, and trifluoromethyl aryl ethers by fluorodecarboxylation of the corresponding carboxylic acids is reported. AgF2 induces decarboxylation of aryloxydifluoroacetic acids, and AgF, either generated in situ or added separately, serves as a source of fluorine to generate the fluorodecarboxylation products. The addition of 2,6‐difluoropyridine increased the reactivity of AgF2

  据报道，通过相应的羧酸的氟脱羧合成单，二和三氟甲基芳基醚。AgF 2引起芳氧基二氟乙酸的脱羧，并且就地生成或单独添加的AgF用作氟的来源，以生成氟代脱羧产物。2,6-二氟吡啶的添加增加了AgF 2的反应性，从而增加了所能接受的芳基的官能团范围和电子性质。用于形成三氟甲基芳基醚的反应条件也用于形成二氟甲基和单氟甲基芳基醚。
• ONIUM SALT COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20210179554A1

  公开（公告）日：2021-06-17

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition exhibits a high sensitivity, and excellent lithography performance factors such as CDU and LWR.

  提供一种具有化学式（1）的醇铵盐，用作酸扩散抑制剂，以及包括该酸扩散抑制剂的化学增强型抗蚀剂组合物。当通过光刻加工时，该抗蚀剂组合物表现出高灵敏度和优异的光刻性能因素，例如CDU和LWR。
• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20220127225A1

  公开（公告）日：2022-04-28

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition forms a pattern having minimal defects and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and DOF.

  提供一种化学式为(1)的盐类，作为酸扩散抑制剂，并提供一种化学增强型光刻胶组合物，其中包括该酸扩散抑制剂。当通过光刻技术进行加工时，该光刻胶组合物形成的图案具有最小的缺陷和出色的光刻性能因子，如CDU、LWR和DOF。