tris(biphenyl-4-yl)silyl chloride | 18816-40-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tris(biphenyl-4-yl)silyl chloride
• 英文别名: tris([1,1′-biphenyl]-4-yl)chlorosilane；Tris-biphenylyl-(4)-chlorsilan；Chloro-tris(4-phenylphenyl)silane；chloro-tris(4-phenylphenyl)silane
• CAS: 18816-40-5
• 化学式: C₃₆H₂₇ClSi
• 分子量: 523.149
• InChiKey: GUVBOLKRKCBMAD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  639.8±55.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.21±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.89
• 重原子数：
  38
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tris(biphenyl-4-yl)silyl chloride 、 三甲基乙炔基硅 在 正丁基锂 作用下， 以 乙醚 、 正己烷 为溶剂， 反应 7.0h， 以1.95 g的产率得到1-[tris(biphenyl-4-yl)silyl]-2-trimethylsilylethyne
  参考文献：
  名称：

  三（联苯-4-基）甲硅烷基封端的聚炔

  摘要：

  已经研究了使用三（联苯-4-基）甲硅烷基 (TBPS) 作为聚炔的大型保护基团。基本结构单元 TBPS–C≡C–TMS (1) 是在新的“一锅”反应中通过将锂化亲核试剂顺序添加到四氯硅烷中合成的。差异保护的 1 和二炔 5 的 TMS 基团可以在温和条件下在 TBPS 基团的存在下被选择性去除，从而允许通过氧化同偶联形成 TBPS 封端的二炔和四炔（3 和 9）。对于三炔，TBPS–(C≡C)3–TMS (11)，脱甲硅烷基化的化学选择性显着降低，阻止了相应的六炔的形成。3 的 X 射线晶体学分析证实 TBPS 组的直径为 20 埃。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2007)

  DOI：

  10.1002/ejoc.200600878
• 作为产物：
  描述：

  4-碘联苯 在 正丁基锂 、 四氯化硅 作用下， 以 乙醚 、 正己烷 为溶剂， 反应 1.5h， 生成 tris(biphenyl-4-yl)silyl chloride
  参考文献：
  名称：

  三（联苯-4-基）甲硅烷基封端的聚炔

  摘要：

  已经研究了使用三（联苯-4-基）甲硅烷基 (TBPS) 作为聚炔的大型保护基团。基本结构单元 TBPS–C≡C–TMS (1) 是在新的“一锅”反应中通过将锂化亲核试剂顺序添加到四氯硅烷中合成的。差异保护的 1 和二炔 5 的 TMS 基团可以在温和条件下在 TBPS 基团的存在下被选择性去除，从而允许通过氧化同偶联形成 TBPS 封端的二炔和四炔（3 和 9）。对于三炔，TBPS–(C≡C)3–TMS (11)，脱甲硅烷基化的化学选择性显着降低，阻止了相应的六炔的形成。3 的 X 射线晶体学分析证实 TBPS 组的直径为 20 埃。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2007)

  DOI：

  10.1002/ejoc.200600878

文献信息

• Linear Free-Energy Relationship and Rate Study on a Silylation-Based Kinetic Resolution: Mechanistic Insights
  作者：Ravish K. Akhani、Maggie I. Moore、Julia G. Pribyl、Sheryl L. Wiskur

  DOI：10.1021/jo402569h

  日期：2014.3.21

  factors to Charton values was also observed when just alkyl substituents were employed but was nonexistent when substituents with more electronic effects were incorporated. The rate data suggest that a significant redistribution of charge occurs in the transition state, with an overall decrease in positive charge. The linear free-energy relationship derived from selectivity factors is best understood by

  探索了不同的对位取代的三苯基甲硅烷基氯的取代基对基于甲硅烷基化的动力学拆分的影响。给电子基团减慢反应速率并提高选择性，而吸电子基团增加反应速率并降低选择性。发现线性自由能关系都选择性因素和初始利率为σ相关对哈米特参数。当仅使用烷基取代基时，还观察到选择性因子与Charton值之间的相关性较弱，但是当引入具有更多电子效应的取代基时，则不存在选择性因子与Charton值的弱相关性。速率数据表明，在过渡状态下会发生明显的电荷重新分布，而正电荷会总体上减少。Hammond假设可以最好地理解源自选择性因子的线性自由能关系。早期和晚期过渡态描述了底物在过渡态中的参与量，因此描述了两种对映异构体的非对映体过渡态之间的能量差。这项工作突出了我们在基于甲硅烷基化的动力学拆分中努力理解选择性的机理和起源的努力。
• Preparation and Properties of Hexaaryldisilanes
  作者：Henry Gilman、G. E. Dunn

  DOI：10.1021/ja01155a016

  日期：1951.11
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 89, page 242 - 246
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Tris(biphenyl-4-yl)silyl-Endcapped Polyynes
  作者：Wesley A. Chalifoux、Michael J. Ferguson、Rik R. Tykwinski

  DOI：10.1002/ejoc.200600878

  日期：2007.2

  The use of tris(biphenyl-4-yl)silyl (TBPS) as a large protecting group for polyynes has been investigated. The basic building block, TBPS–C≡C–TMS (1), is synthesized in a new “one-pot” reaction through the sequential addition of lithiated nucleophiles to tetrachlorosilane. The TMS group of differentially protected 1 and the diyne 5 can be selectively removed in the presence of the TBPS group under

  已经研究了使用三（联苯-4-基）甲硅烷基 (TBPS) 作为聚炔的大型保护基团。基本结构单元 TBPS–C≡C–TMS (1) 是在新的“一锅”反应中通过将锂化亲核试剂顺序添加到四氯硅烷中合成的。差异保护的 1 和二炔 5 的 TMS 基团可以在温和条件下在 TBPS 基团的存在下被选择性去除，从而允许通过氧化同偶联形成 TBPS 封端的二炔和四炔（3 和 9）。对于三炔，TBPS–(C≡C)3–TMS (11)，脱甲硅烷基化的化学选择性显着降低，阻止了相应的六炔的形成。3 的 X 射线晶体学分析证实 TBPS 组的直径为 20 埃。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2007)