申请人:日産化学工業株式会社
公开号:JP2016179982A
公开(公告)日:2016-10-13
【課題】半導体装置の製造において有用なシラン化合物の提供。【解決手段】式(5)で表される化合物。〔R2はアルコキシ、アシルオキシ又はハロゲン;aは1;R3は式(6)で表される基(R4〜R6及びAr1〜Ar2のうち1個はSi−C結合でSi原子と結合;R4及びR6は各々独立に1〜4価の炭化水素;R5は2〜4価の炭化水素;Ar1及びAr2は置換/非置換のフェニル又はフェニレン基;n2は1;n1、n3〜n5は夫々独立に0又は1)〕【選択図】なし
在半导体装置制造中提供有用的硅烷化合物。化合物由式(5)表示。〔R2为烷氧基、酰氧基或卤素;a为1;R3为由式(6)表示的基(R4〜R6和Ar1〜Ar2中的一个与硅-碳键结合;R4和R6分别独立地为1〜4价的烃基;R5为2〜4价的烃基;Ar1和Ar2为取代/非取代的苯基或联苯基;n2为1;n1、n3〜n5各自独立地为0或1)〕【选择图】无