摘要:
该发明涉及以下结构的化合物:##STR1## 其中R代表较低的烷基、芳基、杂芳基、苄基、杂芳基较低烷基、苯氧基较低烷基、苯硫较低烷基、4-氨基-1-丁基和适当保护的衍生物,α-氨基苄和保护的衍生物,如氨基甲酸酯(苄基、三氯乙基和甲氧基甲基)和醛和酮加合物,α-羟基苄和保护的衍生物,α-羧基苄和保护的衍生物,α-磺基苄和保护的衍生物,基团R.sup.5 O--、R.sup.5 S--或R.sup.5 R.sup.6 N--,其中R.sup.5和R.sup.6可以相同也可以不同,并且每个都可以来自较低烷基、芳基、芳基较低烷基和杂芳基的群体,另外,在R.sup.5 R.sup.6 N--的情况下,R.sup.5和/或R.sup.6可以是氢;R.sup.1是氢或可裂解的基团,如较低烷氧甲基、酰氧甲基、较低烷硫甲基、较低烷基、2,2,2-三氯乙基、苄基、取代(硝基、甲氧基或卤素)苄基、苄基、苯乙酰基或三烷基硅基;R.sup.2是氢或甲氧基;R.sup.3代表较低烷基、芳基、芳基较低烷基、杂芳基和基团R.sup.5 O--、R.sup.5 S--、R.sup.5 R.sup.6 N--或R.sup.5 R.sup.6 NR.sup.7 N--,其中R.sup.5和R.sup.6具有上述相同的含义;R.sup.7具有与R.sup.5或R.sup.6相同的含义,包括氢,R.sup.4具有与R.sup.5或R.sup.6相同的含义,包括氢。在公式中3和4位置的虚线表示两个位置中的一个有双键;这些新化合物在头孢菌素和青霉素的制备中是有用的中间体。