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5-巯基间苯二甲酸 | 148065-79-6

中文名称
5-巯基间苯二甲酸
中文别名
5-疏基异酞酸
英文名称
5-mercaptoisophthalic acid
英文别名
5-sulfanylbenzene-1,3-dicarboxylic acid
5-巯基间苯二甲酸化学式
CAS
148065-79-6
化学式
C8H6O4S
mdl
——
分子量
198.199
InChiKey
DZAUSWZMCCLUIJ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.1
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    75.6
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    5

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    5-巯基间苯二甲酸 作用下, 以 乙醇 为溶剂, 反应 0.33h, 以90.3%的产率得到5,5'-Dithiodiisophthalic acid
    参考文献:
    名称:
    光诱导的合成后脱保护 基在锌(ii)多孔配位聚合物中生成噻吩基†
    摘要:
    纳米空间中不稳定化学物种的动力学稳定化在材料和合成化学领域具有潜在的重要性,而多孔配位聚合物(PCP)代表了提供此类反应领域的便捷平台。巯基自由基是重要的反应性物质,通常在有机和生物有机化学中起主导作用。但是,由于合成困难,几乎没有研究它们在纳米空间中的生成。在这里,我们报告了一种使用后合成保护和脱保护技术在PCP孔表面上官能化硫基取代基的简便方法。不对称二硫键脱保护后,基于锌(II)的PCP内会生成噻吩基,这些二硫键通过紫外线照射用作保护基。
    DOI:
    10.1039/c8cc01837e
  • 作为产物:
    描述:
    5-氯磺酰基苯-1,3-二羧酸盐酸 作用下, 以 乙醇 为溶剂, 以60%的产率得到5-巯基间苯二甲酸
    参考文献:
    名称:
    Evans, Brian J.; Doi, Joyce Takahashi; Musker, W. Kenneth, Phosphorus, Sulfur and Silicon and the Related Elements, 1992, vol. 73, # 1-4, p. 5 - 14
    摘要:
    DOI:
  • 作为试剂:
    描述:
    三正丁胺3,5-dimercaptobenzoic acid硫代水杨酸甲酯N-甲基吗啉spermine tetrahydrochloride5-巯基间苯二甲酸 作用下, 以 氯仿 为溶剂, 反应 336.0h, 以65%的产率得到tributylamine 3,5-bis((2-(methoxycarbonyl)phenyl)disulfaneyl)benzoate
    参考文献:
    名称:
    Two-phase dynamic combinatorial discovery of a spermine transporter
    摘要:
    在一个两相动态组合库中,发现了一种意想不到的线性受体和运输体用于聚胺的描述。
    DOI:
    10.1039/b902842k
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文献信息

  • Organic thiol metal-free stabilizers and plasticizers for halogen-containing polymers
    申请人:Starnes Herbert William
    公开号:US20050049307A1
    公开(公告)日:2005-03-03
    Organic thiol compounds based on pentaerythritol and dipentaerythritol are described herein. More specifically, the compounds of the present invention are mixed esters of pentaerythritol and dipentaerythritol having at least one sulfhydryl group and preferably a plurality of sulfhydryl groups as well as at least one non-thiol-containing group. The organic thiol compounds are utilized to plasticize and/or heat stabilize halogen-containing polymer compositions especially poly(vinyl chloride) compositions. The compositions are substantially free or free of metal-based stabilizers, Lewis acids and terpenes. The compounds of the present invention are ideally utilized in polymers normally susceptible to deterioration and color change which can occur during processing of the polymer or exposure of the polymer to certain environments and surprisingly also serve as excellent plasticizers.
    本文描述了基于对羟基甲苯和二对羟基甲苯的有机硫醇化合物。更具体地说,本发明的化合物是对羟基甲苯和二对羟基甲苯的混合酯,具有至少一个巯基和最好是多个巯基,以及至少一个非巯基含有基团。这些有机硫醇化合物被用于增塑和/或热稳定含卤素聚合物组合物,特别是聚氯乙烯组合物。这些组合物基本上不含或不含金属基稳定剂、路易斯酸和萜类物质。本发明的化合物在通常容易恶化和变色的聚合物中得到理想应用,这种恶化和变色可能发生在聚合物加工过程中或聚合物暴露于某些环境中,并且令人惊讶地还可作为优秀的增塑剂。
  • Novel Photoreaction Using Diphenyl Disulfide Derivatives: Photoinduced Oxidation of Allyl Alcohol
    作者:Takaaki Tsuboi、Yutaka Takaguchi、Sadao Tsuboi
    DOI:10.1246/bcsj.81.361
    日期:2008.3.15
    Allyl alcohols are oxidized to acrylaldehydes using diphenyl disulfide derivatives upon photoirradiation. The reaction occurs via α-hydrogen abstraction by a sulfanyl radical. Interestingly, the ox...
    在光照射下,使用二苯基二硫化物衍生物将烯丙醇氧化成丙烯醛。该反应通过硫酰基自由基夺取 α-氢而发生。有趣的是,牛...
  • [EN] DYE COMPOUND, METHOD OF PRODUCING DIPYRROMETHENE METAL COMPLEX COMPOUND, METHOD OF PRODUCING DYE MULTIMER, SUBSTITUTED PYRROLE COMPOUND, COLORED CURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER, METHOD OF PRODUCING COLOR FILTER, SOLID-STATE IMAGE SENSOR AND LIQUID<br/>[FR] COMPOSÉ DE COLORANT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ À BASE D'UN COMPLEXE MÉTALLIQUE DE DIPYRROMÉTHÈNE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MULTIMÈRE COLORANT, COMPOSÉ DE PYRROLE SUBSTITUÉ, COMPOSITION COLORÉE DURCISSABLE, FILTRE COULEUR, PROCÉDÉ DE PRODUC
    申请人:FUJIFILM CORP
    公开号:WO2012011391A1
    公开(公告)日:2012-01-26
    The invention provides a dye compound having a partial structure represented by the following formula (5): wherein in formula (5), Dye represents a dye structure; G1 represents NR or an oxygen atom; G2 represents a monovalent substituent group having an -Es' value as a steric parameter of 1.5 or more; p represents an integer from 1 to 8; when p is 2 or greater, the two or more structures represented by p may be the same or different from each other; and R represents a hydrogen atom or a monovalent substituent group.
    该发明提供了一种染料化合物,其具有以下式(5)所表示的部分结构:其中在式(5)中,Dye代表染料结构;G1代表NR或氧原子;G2代表具有-Es'值作为1.5或更高的立体参数的一价取代基团;p代表从1到8的整数;当p大于等于2时,由p表示的两个或更多结构可以相同也可以不同;R代表氢原子或一价取代基团。
  • CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND MERCAPTO COMPOUND
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    公开号:US20190121233A1
    公开(公告)日:2019-04-25
    A chemically amplified positive-type photosensitive resin composition capable of suppressing the occurrence of “footing” in which the width of the bottom (the side proximal to the surface of a support) becomes narrower than that of the top (the side proximal to the surface of a resist layer) in the nonresist portion; and the generation of development residue when a resist pattern serving as a template for a plated article is formed on a metal surface of a substrate using the photosensitive resin composition. A mercapto compound having a specific structure is included in the photosensitive resin composition, and includes an acid generator which generates acid upon exposure to an irradiated active ray or radiation, and a resin whose solubility in alkali increases under the action of acid.
    一种化学增感型正型光敏树脂组合物,能够抑制“足部”现象的发生,即底部(靠近支撑表面的一侧)的宽度变窄,小于顶部(靠近抗蚀层表面的一侧)的宽度,同时在使用该光敏树脂组合物在基板的金属表面上形成用作电镀物品模板的抗蚀图案时,能够减少残留物的产生。该光敏树脂组合物中包含一种具有特定结构的巯基化合物,其中包括一个酸发生剂,该酸发生剂在暴露于辐射活性光线或辐射时产生酸,以及一种树脂,在酸的作用下其在碱性溶液中的溶解度增加。
  • RADIATION-SENSITIVE COLORED COMPOSITION, COLORED CURED FILM, COLOR FILTER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, SOLID-STATE IMAGING DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS, AND METHOD OF PRODUCING DYE
    申请人:USHIJIMA Kenta
    公开号:US20120235099A1
    公开(公告)日:2012-09-20
    The object of the present invention is to provide a radiation-sensitive colored composition which can supress the generation of the contamination of the device. A radiation-sensitive colored composition including: (A) a dye containing of from 10 ppm to 1000 ppm of a halogen ion; (B) a polymerizable compound; and (C) a solvent.
    本发明的目的是提供一种辐射敏感的着色组合物,可以抑制器件的污染产生。一种辐射敏感的着色组合物,包括:(A)一种含有10 ppm至1000 ppm卤离子的染料;(B)一种可聚合化合物;和(C)一种溶剂。
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