p-nitrobenzoic-p-toluenesulfonic anhydride | 96953-69-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: p-nitrobenzoic-p-toluenesulfonic anhydride
• 英文别名: p-nitrobenzoyl p-toluenesulfonate；p-nitrobenzoyl tosylate；(p-Nitro-benzoyl)-p-toluolsulfonat；(4-Methylphenyl)sulfonyl 4-nitrobenzoate
• CAS: 96953-69-4
• 化学式: C₁₄H₁₁NO₆S
• 分子量: 321.31
• InChiKey: OREHRMGHZXOBEO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  115
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  p-nitrobenzoic-p-toluenesulfonic anhydride 在 水 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 生成 对硝基苯甲酸
  参考文献：
  名称：

  涉及苯甲酰和对硝基苯甲酰对甲苯磺酸酯溶剂分解速率相关性的反应机理研究

  摘要：

  苯甲酰基和对硝基苯甲酰基对甲苯磺酸盐（甲苯磺酸盐）的溶剂分解比先前研究的乙酸和对甲苯磺酸的混合酸酐（乙酰甲苯磺酸盐）的溶剂分解要慢得多，即使应用快速响应电导率也只能在显着降低的温度下进行研究。对于目前研究的化合物，可以在 -10 °C 下方便地研究各种溶剂的特定速率。对于甲苯磺酸苯甲酰的溶剂分解，应用扩展的（两项）Grunwald-Winstein 方程给出了与电离 (SNl) 途径一致的溶剂亲核性和溶剂电离能力变化的敏感性实际上，仅针对溶剂电离能力获得了良好的相关性. 对于对硝基衍生物的溶剂分解，获得了非常不同的灵敏度，对溶剂亲核性有明显的依赖性，并且对于所有这些溶剂分解都提出了用于取代的主要生物分子途径，但在富含氟代醇的溶剂中除外。甲醇分解中溶剂氘同位素效应、相对于卤化物的离去基团效应和温度变化效应的研究与所提出的机理途径一致。

  DOI：

  10.3184/174751914x14018022669011
• 作为产物：
  描述：

  silver(I) 4-methylbenzenesulfonate 、 4-硝基苯甲酰氯 以 乙腈 为溶剂， 以61%的产率得到p-nitrobenzoic-p-toluenesulfonic anhydride
  参考文献：
  名称：

  涉及苯甲酰和对硝基苯甲酰对甲苯磺酸酯溶剂分解速率相关性的反应机理研究

  摘要：

  苯甲酰基和对硝基苯甲酰基对甲苯磺酸盐（甲苯磺酸盐）的溶剂分解比先前研究的乙酸和对甲苯磺酸的混合酸酐（乙酰甲苯磺酸盐）的溶剂分解要慢得多，即使应用快速响应电导率也只能在显着降低的温度下进行研究。对于目前研究的化合物，可以在 -10 °C 下方便地研究各种溶剂的特定速率。对于甲苯磺酸苯甲酰的溶剂分解，应用扩展的（两项）Grunwald-Winstein 方程给出了与电离 (SNl) 途径一致的溶剂亲核性和溶剂电离能力变化的敏感性实际上，仅针对溶剂电离能力获得了良好的相关性. 对于对硝基衍生物的溶剂分解，获得了非常不同的灵敏度，对溶剂亲核性有明显的依赖性，并且对于所有这些溶剂分解都提出了用于取代的主要生物分子途径，但在富含氟代醇的溶剂中除外。甲醇分解中溶剂氘同位素效应、相对于卤化物的离去基团效应和温度变化效应的研究与所提出的机理途径一致。

  DOI：

  10.3184/174751914x14018022669011

文献信息

• Kinetic investigation on the reactions of<i>p</i>-toluenesulfonyl chloride with<i>p</i>-substituted benzoic acid(s) in the presence of triethylamine in aprotic solvents
  作者：Subbiah Ananthalakshmi、M. Nallu

  DOI：10.1002/kin.20400

  日期：2009.5

  Second‐order rate constants of the reactions of p‐toluenesulfonyl chloride with p‐substituted benzoic acids in the presence of triethylamine in acetonitrile/acetone under equimolar and pseudo‐first‐order conditions have been determined by the conductometric method using the Guggenheim principle at 25, 30, 35, and 40°C. The reactions follow second order with respect to the whole and first order with

  对甲苯磺酰氯与p的反应的二阶速率常数通过电导法使用古根海姆原理在25、30、35和40°C的条件下，在乙腈/丙酮等摩尔和拟一级反应条件下，在三乙胺存在下，预先取代了苯甲酸。对于全部反应而言，反应遵循第二顺序，对于每种反应物而言，反应遵循第一顺序。取代基在苯甲酸中的反应顺序是合理的。激活参数是通过应用常规方法获得的。哈米特图被发现是非线性的，而布朗斯台德图显示出良好的相关性。这可以基于取代基在反应中心上的电子效应来解释。动力学数据和产物分析表明反应通过对硫中心的直接亲核攻击而进行。©2009 Wiley Periodicals，Inc.
• Patternable low dielectric constant materials and their use in ULSI interconnection
  申请人：Lin Qinghuang

  公开号：US20060105181A1

  公开（公告）日：2006-05-18

  The present invention relates to ultra-large scale integrated (ULSI) interconnect structures, and more particularly to patternable low dielectric constant (low-k) materials suitable for use in ULSI interconnect structures. The patternable low-k dielectrics disclosed herein are functionalized polymers that having one or more acid-sensitive imageable functional groups.

  本发明涉及超大规模集成（ULSI）互连结构，更具体地涉及适用于ULSI互连结构的可图案化低介电常数（低-k）材料。本文所披露的可图案化低-k介电材料是具有一种或多种酸敏感的可成像功能基团的功能化聚合物。
• Patternable low dielectric constsnt materials and their use in ULSI interconnection
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20040137241A1

  公开（公告）日：2004-07-15

  The present invention relates to ultra-large scale integrated (ULSI) interconnect structures, and more particularly to patternable low dielectric constant (low-k) materials suitable for use in ULSI interconnect structures. The patternable low-k dielectrics disclosed herein are functionalized polymers that having one or more acid-sensitive imageable functional groups.

  本发明涉及超大规模集成（ULSI）互连结构，更具体地涉及适用于ULSI互连结构的可图案化低介电常数（低-k）材料。本文所披露的可图案化低-k介电材料是具有一种或多种酸敏感可成像功能基团的功能化聚合物。
• PATTERNABLE LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIALS AND THEIR USE IN ULSI INTERCONNECTION
  申请人：Lin Qinghuang

  公开号：US20080063880A1

  公开（公告）日：2008-03-13

  The present invention relates to ultra-large scale integrated (ULSI) interconnect structures, and more particularly to patternable low dielectric constant (low-k) materials suitable for use in ULSI interconnect structures. The patternable low-k dielectrics disclosed herein are functionalized polymers that having one or more acid-sensitive imageable functional groups.

  本发明涉及超大规模集成（ULSI）互连结构，更具体地涉及适用于ULSI互连结构的可图案化低介电常数（低-k）材料。本发明所披露的可图案化低-k介电材料是具有一种或多种酸敏感可成像功能基团的功能化聚合物。
• Urbanski, Jerzy; Manek, Maria Beata, Polish Journal of Chemistry, 1984, vol. 58, # 10-12, p. 1227 - 1229
  作者：Urbanski, Jerzy、Manek, Maria Beata

  DOI：——

  日期：——