【課題】 反応性シリル基1個あたりのイオン性基の個数を多くすることができる構造を有し、工業的に製造することが可能な新規なイオン性化合物、及びその加水分解縮合により得られるイオン性基を有するシロキサン化合物を提供すること。【解決手段】 下記式[R1はアルキル基、R2は水素原子又はアルキル基、Aはアルキレン基、Bはアルキレン基を表す。Xは水素原子、アルキル基又は下記式(Rは水素原子又はアルキル基、破線は結合手を示す。)で示される基から選ばれる基を表し、Xのうち1個以上が上記式(2)で表される基である。m、nは整数を表す。]で表されるアニオン成分と、窒素含有化合物又はリン含有化合物を含むカチオン成分との組み合わせからなる反応性シリル基含有イオン性化合物。【選択図】 なし
该结构具有增加每个反应性
硅基中离子基数量的能力,并且可以在工业上制造的新型离子化合物,以及提供具有离子基的
硅氧烷化合物通过其加
水解缩合反应获得。该反应性
硅基含有离子化合物由下式[R1为烷基,R2为氢原子或烷基,A为亚烷基,B为亚烷基。X为氢原子,烷基或由基团(R为氢原子或烷基,虚线表示键合)选择的基团,并且X中的一个或多个是由上述式(2)表示的基团。m,n为整数。]表示的阴离子组分和
含氮化合物或
含磷化合物的阳离子组分的组合构成。【选择图】 无