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2,2,3,3,4,4-六氟-4-氟磺酰基丁酰氟 | 83071-23-2

中文名称
2,2,3,3,4,4-六氟-4-氟磺酰基丁酰氟
中文别名
——
英文名称
2,2,3,3,4,4-hexafluoro-4-(fluorosulfonyl)butanoyl fluoride
英文别名
4-(Fluorosulfonyl)hexafluorobutyryl fluoride;1,2,2,3,3,4,4-Heptafluoro-4-(fluorosulfonyl)-1-butanone;2,2,3,3,4,4-hexafluoro-4-fluorosulfonylbutanoyl fluoride
2,2,3,3,4,4-六氟-4-氟磺酰基丁酰氟化学式
CAS
83071-23-2
化学式
C4F8O3S
mdl
——
分子量
280.095
InChiKey
OIUVUINPJBFCCD-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.3
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.75
  • 拓扑面积:
    59.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    11

SDS

SDS:485ee977fa04f68d9eec3b34458cb15f
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上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2,2,3,3,4,4-六氟-4-氟磺酰基丁酰氟 生成 disodium;2,2,3,3,4,4-hexafluoro-4-sulfonatobutanoate
    参考文献:
    名称:
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    trimethylsilyl 2,2,3,3,4,4-hexafluoro-4-(fluorosulfonyl)butanoate 在 sodium fluoride 作用下, 260.0~270.0 ℃ 、3.33 kPa 条件下, 反应 2.5h, 以18%的产率得到2,2,3,3,4,4-六氟-4-氟磺酰基丁酰氟
    参考文献:
    名称:
    热分解γ -Fluorosulfonyl perfluorobutanoic酸衍生物:对于全氟化的环状砜新的合成路线
    摘要:
    描述了以前未知的γ-氟磺酰基全氟丁酸衍生物的热脱羧和一种合成全氟环砜的新方法。首次观察到一个分子中脱羧和脱磺酰基的平行过程。另外,还提出了全氟羰基氟化物的碱性醇解反应的可逆性,以及在高温下碱金属羧酸盐与无机氟化物反应生成它们的可能性。讨论了反应条件,影响热解反应的反应性和区域选择性的因素,以及主要反应和副反应的途径。
    DOI:
    10.1016/j.jfluchem.2020.109500
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文献信息

  • Selective reaction of hexafluoropropylene oxide with perfluoroacyl fluorides
    申请人:3M Innovative Properties Company
    公开号:US20040116742A1
    公开(公告)日:2004-06-17
    A method is provided for reacting hexafluoropropylene oxide (HFPO) with a perfluoroacyl fluorides according to the formula X—R f —COF (II) to selectively produce a monoaddition product according to the formula X—R f —CF 2 —O—CF(CF 3 )COF (I), wherein selectivity for the monoaddition product over the biaddition product is 90% or greater or more typically 95% or greater. A continuous or repeated-batch process is provided comprising the steps of: a) providing a mixture of X—R f —COF (II), a fluoride salt, and a polar solvent; b) adding hexafluoropropylene oxide (HFPO) in an amount such that X—R f —COF remains in molar excess of HFPO by at least 10% and reacting X—R f —COF with HFPO; c) separating unreacted X—R f —COF from a mixture of addition products of hexafluoropropylene oxide (HFPO) and X—R f —COF; and d) repeating step a) using unreacted X—R f —COF separated in step c).
    本方法提供了一种将六氟丙烯氧(HFPO)与化学式为X-Rf-COF(II)的全氟酰氟反应,以选择性地产生一种单加成产物,其化学式为X-Rf-CF2-O-CF(CF3)COF(I),其中单加成产物的选择性大于或等于90%或更通常为95%以上,而非双加成产物。提供了一种连续或重复批处理过程,包括以下步骤:a)提供X-Rf-COF(II)、氟化物盐和极性溶剂的混合物;b)加入六氟丙烯氧(HFPO),使X-Rf-COF剩余量至少比HFPO多10%的量,并将X-Rf-COF与HFPO反应;c)从六氟丙烯氧(HFPO)和X-Rf-COF加成产物的混合物中分离未反应的X-Rf-COF;d)使用在步骤c)中分离出的未反应的X-Rf-COF重复步骤a)。
  • Ionic photoacid generators with segmented hydrocarbon-fluorocarbon sulfonate anions
    申请人:3M Innovative Properties Company
    公开号:US20040087690A1
    公开(公告)日:2004-05-06
    Photoacid generator salts comprising photoactive cationic moieties and segmented, highly fluorinated-hydrocarbon anionic moieties are disclosed which provide high photoacid strength and can be tailored for solubility and polarity. The present invention further relates to photoacid generators as they are used in photoinitiated acid-catalyzed processes for uses such as photoresists for microlithography and photopolymerization.
    本发明揭示了包括光敏阳离子基团和分段高度氟化-碳氢阴离子基团的光酸发生剂盐,其提供高光酸强度并可为溶解度和极性进行定制。本发明进一步涉及光酸发生剂,因为它们用于光引发的酸催化过程,用于微影制造和光聚合等用途的光刻胶。
  • Ionic photoacid generators with segmented hydrocarbonfluorocarbon sulfonate anions
    申请人:Lamanna M. William
    公开号:US20050158655A1
    公开(公告)日:2005-07-21
    Photoacid generator salts comprising photoactive cationic moieties and segmented, highly fluorinated-hydrocarbon anionic moieties are disclosed which provide high photoacid strength and can be tailored for solubility and polarity. The present invention further relates to photoacid generators as they are used in photoinitiated acid-catalyzed processes for uses such as photoresists for microlithography and photopolymerization.
    本发明揭示了包含光活性阳离子基团和分段的高度氟化的碳氢阴离子基团的光酸发生剂盐,其提供高光酸强度,并可定制溶解度和极性。本发明还涉及光酸发生剂的使用,如用于微影光刻和光聚合的光引发酸催化过程中。
  • ——
    作者:KOSHAR R. J.
    DOI:——
    日期:——
  • [EN] ALLYL ETHER-TERMINATED FLUOROALKANESULFINIC ACIDS, SALTS THEREOF, AND A METHOD OF MAKING THE SAME<br/>[FR] ACIDES FLUORO-ALKYL SULFINIQUES TERMINÉS PAR ALLYL ÉTHER ET LEURS SELS
    申请人:3M INNOVATIVE PROPERTIES CO
    公开号:WO2012166578A3
    公开(公告)日:2013-02-28
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