silylidene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 英文名称: silylidene
• 英文别名: Silaethylene
• 化学式: CH₂Si
• 分子量: 42.1124
• InChiKey: MRSTVOBCOHGVEW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.41
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  methane 、 硅烷 生成 氢气 、 silylidene
  参考文献：
  名称：

  Shock Tube Study on the Reaction of Si Atoms with CH3 with Respect to SiC Formation

  摘要：

  固态硅原子的反应动力学在过量甲烷存在下在反射激波后进行了研究。Si+CH ↔ SiCH。

  DOI：

  10.1524/zpch.2001.215.6.811

文献信息

• Thermal decomposition of tetramethylsilane and tetramethylgermane by flash pyrolysis vacuum ultraviolet photoionization time-of-flight mass spectrometry
  作者：Jessy M. Lemieux、Jingsong Zhang

  DOI：10.1016/j.ijms.2014.09.006

  日期：2014.11

  process in TMS involving loss of H atom from Si(CH 3 ) 3 followed by elimination of H 2 to form SiC 3 H 8 , SiC 3 H 6 , and SiC 3 H 4 was also identified. Sequential loss of the third and fourth methyl radical with significant formation of Ge and Ge 2 was observed in the TMG pyrolysis. Loss of a third methyl radical in the TMS pyrolysis was not significant, while Si and SiC products were possibly produced

  摘要 使用快速热解真空紫外单光子电离飞行时间质谱 (VUV-SPI-TOFMS) 在 20-100 μs 的短时间尺度上研究了四甲基硅烷 (TMS) 和四甲基锗烷 (TMG) 的热分解。TMS 和 TMG 的初级分解通过失去甲基自由基而发生，分别形成 Si(CH 3 ) 3 和 Ge(CH 3 ) 3 。Si(CH 3 ) 3 和Ge(CH 3 ) 3 自由基都经历了第二个甲基自由基的二次损失，分别形成:Si(CH 3 ) 2 和:Ge(CH 3 ) 2 。之前未观察到的 TMS 二次分解过程包括从 Si(CH 3 ) 3 失去 H 原子，然后消除 H 2 以形成 SiC 3 H 8 、SiC 3 H 6 和 SiC 3 H 4 。在 TMG 热解中观察到第三个和第四个甲基自由基的连续损失以及 Ge 和 Ge 2 的显着形成。TMS 热解中第三个甲基自由基的损失并不显着，而可能会产生 Si
• Shock Tube Study on the Reaction of Si Atoms with CH3 with Respect to SiC Formation
  作者：A. Kunz、K.A. Bhaskaran、R. Roth

  DOI：10.1524/zpch.2001.215.6.811

  日期：2001.1.1

  The reaction kinetics of ground state Si atoms was studied behind reflected shock waves in the presence of excess CH

  Si+CH

  ↔ SiCH

  with

  固态硅原子的反应动力学在过量甲烷存在下在反射激波后进行了研究。Si+CH ↔ SiCH。