4-methylthiobenzyl methacrylate | 1021297-22-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-methylthiobenzyl methacrylate
• 英文别名: (4-methylsulfanylphenyl)methyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1021297-22-2
• 化学式: C₁₂H₁₄O₂S
• 分子量: 222.308
• InChiKey: MSPSZNPMIATNFX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  51.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸 、 对甲硫基苯甲醇 在 对甲苯磺酸 、 4-甲氧基苯酚 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 以55%的产率得到4-methylthiobenzyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  WO2008/101806

  摘要：

  公开号：

文献信息

• High refractive index monomers, compositions and uses thereof
  申请人：Craciun Liliana

  公开号：US20080200582A1

  公开（公告）日：2008-08-21

  The invention relates to novel sulfur-containing (meth)acrylic monomers and compositions thereof characterized by a high refractive index, for optical and industrial applications. The invention also relates to a method for preparing high refractive index polymeric materials and more specifically to a method for formation of ultraviolet cast optical lenses and compositions thereof comprising the sulfur-containing (meth)acrylic monomers.

  本发明涉及一种新型含硫（甲基）丙烯酸单体及其组合物，其具有高折射率，适用于光学和工业应用。本发明还涉及一种制备高折射率聚合材料的方法，更具体地涉及一种形成紫外线铸造光学透镜的方法和组合物，其中包括含硫（甲基）丙烯酸单体。
• HIGH REFRACTIVE INDEX MONOMERS, COMPOSITIONS AND USES THEREOF
  申请人：BASF SE

  公开号：EP2139878A2

  公开（公告）日：2010-01-06
• QUANTUM DOT-CONTAINING MATERIAL, METHOD OF PREPARING THE SAME, AND OPTICAL MEMBER AND APPARATUS INCLUDING THE QUANTUM DOT-CONTAINING MATERIAL
  申请人：Samsung Display Co., Ltd.

  公开号：US20210009893A1

  公开（公告）日：2021-01-14

  A quantum dot-containing material includes: a quantum dot-containing complex including a quantum dot and a first matrix material; and a second matrix material, wherein the quantum dot is dispersed in the first matrix material, the quantum dot-containing complex is dispersed in the second matrix material, and a refractive index of the first matrix material is greater than that of the second matrix material.
• [EN] HIGH REFRACTIVE INDEX MONOMERS, COMPOSITIONS AND USES THEREOF<br/>[FR] MONOMÈRES À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ, COMPOSITION SET LEURS UTILISATIONS
  申请人：CIBA HOLDING INC

  公开号：WO2008101806A2

  公开（公告）日：2008-08-28

  [EN] The invention relates to novel sulfur-containing (meth)acrylic monomers and compositions thereof characterized by a high refractive index, for optical and industrial applications. The invention also relates to a method for preparing high refractive index polymeric materials and more specifically to a method for formation of ultraviolet cast optical lenses and compositions thereof comprising the sulfur-containing (meth)acrylic monomers.
  [FR] L'invention concerne de nouveaux monomères (méth)acryliques contenant du soufre et des compositions de ceux-ci qui sont caractérisés par un indice de réfraction élevé et destinés à être utilisés dans des applications optiques et industrielles. L'invention concerne également un procédé de préparation de matériaux polymères à indice de réfraction élevé et, plus spécifiquement, un procédé de formation de lentilles optiques durcies aux ultraviolets et des compositions de celles-ci comprenant les monomères (méth)acryliques contenant du soufre.
• WO2008/101806
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——