Phosphino[tris(trimethylsilyl)methyl]Boranes and 2,4-Bis[tris(trimethylsilyl)methyl]-1,3,2,4-diphosphadiboretanes [1]
作者:R. Jetzfellner、H. Nöth、R. T. Paine
DOI:10.1002/zaac.200600335
日期:2007.4
The reaction of tris(trimethylsilyl)methylboron dihalides (Me3Si)3CBX2 (X = Cl, F) with the lithium phosphides LiPHtBu and LiPHmes leads to the phosphinoboranes (Me3Si)3CBX-(PHR), (Me3Si)3CB(PHR)2 or the 1,3,2,4-diphosphadiboretanes [(Me3Si)3CB(PR)]2, depending on the ratio of the reagents, the reaction temperature and concentration. High dilution and low temperatures are required for the synthesis
三(三甲基甲硅烷基)甲基硼二卤化物 (Me3Si) 3CBX2 (X = Cl, F) 与磷化锂 LiPHtBu 和 LiPHmes 反应生成膦硼烷 (Me3Si) 3CBX- (PHR)、(Me3Si) 3CB (PHR) 2 或1,3,2,4-diphosphadiboretanes [(Me3Si) 3CB (PR)] 2,取决于试剂的比例、反应温度和浓度。合成 (Me3Si) 3CB (Hal) PHR (1-3) 需要高稀释度和低温,以防止形成 (Me3Si) 3CB (PHR) 2 (4 和 5)。后一种化合物最好由 (Me3Si)3CBHal2 和 LiPHR 在两步膦化反应中制备。在较高温度下,四元 1,3,2,4-二磷酸二硼烷 [(Me3Si) 3CB (PR)] 26 和 7 是最稳定的化合物。另一方面,(Me3Si) 3CB (Hal) PR2、8 和 9 类型的化合物比单膦基硼烷