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diisopropylaminosilane | 908831-34-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
diisopropylaminosilane
英文别名
DiPAS;N-propan-2-yl-N-silylpropan-2-amine
diisopropylaminosilane化学式
CAS
908831-34-5
化学式
C6H17NSi
mdl
——
分子量
131.293
InChiKey
BIVNKSDKIFWKFA-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    140.7±23.0 °C(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.39
  • 重原子数:
    8
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    3.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    二乙基硅烷diisopropylaminosilane 在 dimethyltitanocene 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 生成 1-diisopropylamino-2,2-diethyldisilane
    参考文献:
    名称:
    Monoorganoaminodisilane Precursors and Methods for Depositing Films Comprising Same
    摘要:
    本文描述了形成含硅薄膜的前体和方法。在一个方面,提供了一种公式I的前体,如本文所述。
    公开号:
    US20190318925A1
  • 作为产物:
    描述:
    二异丙胺 在 lithium aluminium tetrahydride 、 正丁基锂lithium diisopropyl amide 作用下, 以 正己烷 为溶剂, 反应 1.0h, 生成 diisopropylaminosilane
    参考文献:
    名称:
    [EN] MONOAMINOSILANE COMPOUNDS
    [FR] COMPOSÉS MONOAMINOSILANE
    摘要:
    揭示的是一种化合物,其化学式为(I):(R1 R2N)SinH2n+1(I),其中下标n是从3到9的整数;每个R1和R2独立地是(C1-C6)烷基,(C3-C6)环烷基,(C2-C6)烯基,(C2-C6)炔基或苯基;或者R1是H,R2是(C1-C6)烷基,(C3-C6)环烷基,(C2-C6)烯基,(C2-C6)炔基或苯基;或者R1和R2结合在一起形成-R1a_R2a_,其中-R1a-R2a-是(C2-C5)烷基。还公开了一种制备方法,其中有用的中间体,使用方法以及包含化合物(I)的组合物。
    公开号:
    WO2015184201A1
  • 作为试剂:
    描述:
    N-乙基苯胺diisopropylaminosilane 作用下, 反应 24.0h, 生成 phenylethylaminosilane
    参考文献:
    名称:
    Organoaminosilane precursors and methods for depositing films comprising same
    摘要:
    本文描述了形成介电薄膜的前体和方法。在一个方面,提供了具有以下化学式I的硅前体:其中R1独立选择自氢、直链或支链的C1至C6烷基、直链或支链的C2至C6烯基、直链或支链的C2至C6炔基、C1至C6烷氧基、C1至C6二烷基胺和电子吸引基团,n是从0、1、2、3、4和5中选择的数字;而R2独立选择自氢、直链或支链的C1至C6烷基、直链或支链的C2至C6烯基、直链或支链的C2至C6炔基、C1至C6烷氧基、C1至C6二烷基胺、C6至C10芳基、直链或支链的C1至C6氟代烷基和C4至C10环烷基。
    公开号:
    US08912353B2
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文献信息

  • Precursors for CVD Silicon Carbo-nitride Films
    申请人:Xiao Manchao
    公开号:US20090069588A1
    公开(公告)日:2009-03-12
    Classes of liquid aminosilanes have been found which allow for the production of silicon-containing films. These aminosilanes, in contrast, to some of the precursors employed heretofore, are liquid at room temperature and pressure allowing for convenient handling. In addition, the invention relates to a process for producing such films. The classes of compounds are generally represented by the formulas: and mixtures thereof, wherein R and R 1 in the formulas represent aliphatic groups typically having from 2 to about 10 carbon atoms, e.g., alkyl, cycloalkyl with R and R 1 in formula A also being combinable into a cyclic group, and R 2 representing a single bond, (CH 2 ) n , a ring, or SiH 2 .
    已发现液态氨基硅烷类别,可用于生产含硅薄膜。与以往使用的某些前体相比,这些氨基硅烷在室温和压力下是液态的,便于处理。此外,本发明涉及一种生产这种薄膜的方法。这些化合物类别通常由以下公式代表:和它们的混合物,其中公式中的R和R1代表通常含有2至约10个碳原子的脂肪基,例如,烷基,环烷基,公式A中的R和R1也可以组合成一个环状基团,R2代表单键,(CH2)n,一个环,或SiH2。
  • 혼합 알킬아민 및 클로로실란을 이용한 알킬아미노실란의 제조방법
    申请人:EG Chem (주)이지켐(120150515871) Corp. No ▼ 134811-0249905BRN ▼135-86-25179
    公开号:KR20170025030A
    公开(公告)日:2017-03-08
    본 발명은 알킬아미노실란의 제조방법으로써, (a) 2차아민 및 3차아민을 용매와 혼합하여 아민 혼합물을 제조하는 단계 (b) 상기 아민 혼합물에 클로로실란을 첨가하고 반응시켜 제 1용액을 제조하는 단계 (c) 상기 제 1용액의 침전물을 제거하는 단계 및 (d) 상기 침전물이 제거된 제 1용액에 금속수소화물을 혼합하여 하기 화학식 1의 알킬아미노실란을 수득하는 단계를 포함한다. [화학식 1] 상기 화학식 1에서 R 및 R 는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 분지형 알킬기, 실릴알킬기 및 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기 중 선택된다.
    本发明涉及一种制备烷基氨基硅烷的方法,包括以下步骤:(a)将二级胺和三级胺与溶剂混合以制备胺混合物;(b)将所述胺混合物中加入氯硅烷并进行反应以制备第一溶液;(c)去除所述第一溶液的沉淀物的步骤;以及(d)将去除沉淀物的第一溶液与金属氢化物混合以获得下述化学式1的烷基氨基硅烷的步骤。[化学式1] 在上述化学式1中,R和R分别独立选择为1至6个碳原子的直链或支链烷基基团、硅烷基基团和选择自3至6个碳原子的环烷基基团。
  • Organoaminosilane Precursors and Methods for Depositing Films Comprising Same
    申请人:Xiao Manchao
    公开号:US20120128897A1
    公开(公告)日:2012-05-24
    Described herein are precursors and methods of forming dielectric films. In one aspect, there is provided a silicon precursor having the following formula I: wherein R 1 is independently selected from hydrogen, a linear or branched C 1 to C 6 alkyl, a linear or branched C 2 to C 6 alkenyl, a linear or branched C 2 to C 6 alkynyl, a C 1 to C 6 alkoxy, a C 1 to C 6 dialkylamino and an electron withdrawing group and n is a number selected from 0, 1, 2, 3, 4, and 5; and R 2 is independently selected from hydrogen, a linear or branched C 1 to C 6 alkyl, a linear or branched C 2 to C 6 alkenyl, a linear or branched C 2 to C 6 alkynyl, a C 1 to C 6 alkoxy, a C 1 to C 6 dialkylamino, a C 6 to C 10 aryl, a linear or branched C 1 to C 6 fluorinated alkyl, and a C 4 to C 10 cyclic alkyl group.
    本文描述了制备介电膜的前体和方法。在一个方面,提供了具有以下公式I的硅前体:其中R1是独立选择的氢、线性或支链C1到C6烷基、线性或支链C2到C6烯基、线性或支链C2到C6炔基、C1到C6烷氧基、C1到C6二烷基氨基和电子提取基团,n是从0、1、2、3、4和5中选择的数字;R2是独立选择的氢、线性或支链C1到C6烷基、线性或支链C2到C6烯基、线性或支链C2到C6炔基、C1到C6烷氧基、C1到C6二烷基氨基、C6到C10芳基、线性或支链C1到C6氟代烷基和C4到C10环烷基。
  • Organoaminosilane precursors and methods for making and using same
    申请人:Xiao Manchao
    公开号:US08771807B2
    公开(公告)日:2014-07-08
    Described herein are organoaminosilane precursors which can be used to deposit silicon containing films which contain silicon and methods for making these precursors. Also disclosed herein are deposition methods for making silicon-containing films or silicon containing films using the organoaminosilane precursors described herein. Also disclosed herein are the vessels that comprise the organoaminosilane precursors or a composition thereof that can be used, for example, to deliver the precursor to a reactor in order to deposit a silicon-containing film.
    本文介绍了可以用于沉积含硅膜的有机氨基硅烷前体和制备这些前体的方法。同时还揭示了使用上述有机氨基硅烷前体的沉积方法,用于制备含硅膜或含硅膜。本文还揭示了容器,其中包括有机氨基硅烷前体或其组成物,例如用于将前体输送到反应器以沉积含硅膜。
  • ORGANOAMINOSILANE PRECURSORS AND METHODS FOR MAKING AND USING SAME
    申请人:Xiao Manchao
    公开号:US20130129940A1
    公开(公告)日:2013-05-23
    Described herein are organoaminosilane precursors which can be used to deposit silicon containing films which contain silicon and methods for making these precursors. Also disclosed herein are deposition methods for making silicon-containing films or silicon containing films using the organoaminosilane precursors described herein. Also disclosed herein are the vessels that comprise the organoaminosilane precursors or a composition thereof that can be used, for example, to deliver the precursor to a reactor in order to deposit a silicon-containing film.
    本文描述了可以用于沉积含硅薄膜的有机氨基硅烷前体以及制备这些前体的方法。本文还披露了使用上述有机氨基硅烷前体进行制备含硅薄膜或含硅薄膜的沉积方法。本文还披露了包含有机氨基硅烷前体或其组成的容器,例如,用于将前体输送到反应器以沉积含硅薄膜的容器。
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