二己基甲基膦酸酯 | 77304-63-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机膦酸及其衍生物
• 中文名称: 二己基甲基膦酸酯
• 英文名称: Dihexyl methylphosphonate
• 英文别名: methyl-phosphonic acid dihexyl ester；Methyl-phosphonsaeure-dihexylester；Methylphosphonsaeure-dihexylester；Phosphonic acid, methyl-, dihexyl ester；1-[hexoxy(methyl)phosphoryl]oxyhexane
• CAS: 77304-63-3
• 化学式: C₁₃H₂₉O₃P
• 分子量: 264.345
• InChiKey: XMEOPSOYUNXCJQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二己基甲基膦酸酯 在 正丁基锂 、 palladium 10% on activated carbon 、 氢气 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 为溶剂， -78.0~20.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 21.5h， 生成 dihexyl [2-(2,4-dihydroxyphenyl)ethyl]phosphonate
  参考文献：
  名称：

  [EN] RESORCINOL DERIVATIVES FOR THEIR COSMETIC USE
  [FR] UTILISATION COSMÉTIQUE DE DÉRIVÉS DU RÉSORCINOL

  摘要：

  该发明涉及式(I)的间苯二酚衍生物及其盐、溶剂合物以及其光学和/或几何异构体，包括对映体和二对映异构体，以及它们的外消旋混合物，单独或混合使用。该发明还涉及一种用这些化合物(I)脱色、美白和/或漂白角质材料，尤其是皮肤的化妆过程。

  公开号：

  WO2018210933A1
• 作为产物：
  描述：

  1-碘己烷 、 甲基膦酸二甲酯 反应 96.0h， 以67%的产率得到二己基甲基膦酸酯
  参考文献：
  名称：

  [EN] RESORCINOL DERIVATIVES FOR THEIR COSMETIC USE
  [FR] UTILISATION COSMÉTIQUE DE DÉRIVÉS DU RÉSORCINOL

  摘要：

  该发明涉及式(I)的间苯二酚衍生物及其盐、溶剂合物以及其光学和/或几何异构体，包括对映体和二对映异构体，以及它们的外消旋混合物，单独或混合使用。该发明还涉及一种用这些化合物(I)脱色、美白和/或漂白角质材料，尤其是皮肤的化妆过程。

  公开号：

  WO2018210933A1

文献信息

• <i>p</i>-Toluenesulfonic Acid–Celite as a Reagent for Synthesis of Esters of Alkylphosphonic Acids under Solvent-Free Conditions
  作者：Arvind K. Gupta、Rajesh Kumar、Devendra K. Dubey、M.P. Kaushik

  DOI：10.3184/030823407x218066

  日期：2007.6

  The coupling reaction of alkylphosphonic acids and alcohols on the surface of p-toluenesulfonic acid–Celite under mild and solvent-free conditions gave the corresponding phosphonates in excellent yields. This method provides a useful rapid synthesis of phosphonates for use in the unambiguous identification of chemical warfare agents.

  在温和且无溶剂的条件下，烷基膦酸和醇在对甲苯磺酸-硅藻土表面的偶联反应以优异的产率得到相应的膦酸酯。该方法提供了一种有用的膦酸盐快速合成方法，可用于明确鉴定化学战剂。
• Alkali Metal Alkoxide Clusters:  Convenient Catalysts for the Synthesis of Methylphosphonates
  作者：Rebecca M. Kissling、Michel R. Gagné

  DOI：10.1021/jo9820521

  日期：1999.3.1

  interchange reaction between carbonyl and phosphorus esters. This reactivity leads to convenient methodologies for the synthesis of symmetric and unsymmetric alkyl-substituted methylphosphonates from dimethyl methylphosphonate (DMMP). Reactions rates are high with initial turnover frequencies (N(t)) in excess of 1 x 10(6) h(-)(1) observed and with KO(t)Bu > NaO(t)Bu > LiO(t)Bu. The reactions were sensitive

  碱金属醇盐是用于促进羰基酯和磷酸酯之间的交换反应的良好催化剂（1-8 mol％）。这种反应性导致了由甲基膦酸二甲酯（DMMP）合成对称和不对称烷基取代的甲基膦酸酯的简便方法。初始转换频率（N（t））超过1 x 10（6）h（-）（1）且KO（t）Bu> NaO（t）Bu> LiO（t）Bu时，反应速率很高。反应对产物甲基膦酸酯中的空间效应敏感，反应速率与转移醇盐的大小平行（正烷基>异烷基>叔烷基）。对于测试反应DMMP +乙酸异丙酯，取代动力学与依次替换每种甲醇的情况一致，并且第二位移的替代率明显低于第一位移。第一次取代过程的动力学研究表明了浓度依赖性速率定律。一种最容易解决的方案是偶联酯交换反应，其中醇盐可逆地独立地添加到膦酸酯和酯中。
• COMPOSITION FOR LASER ENGRAVING, RELIEF PRINTING PLATE PRECURSOR FOR LASER ENGRAVING AND PROCESS FOR PRODUCING SAME, PROCESS FOR MAKING RELIEF PRINTING PLATE, AND RELIEF PRINTING PLATE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20140130692A1

  公开（公告）日：2014-05-15

  To provide a composition for laser engraving that can give a relief printing plate having excellent ink laydown and that has excellent rinsing properties after laser engraving. A composition for laser engraving, the composition that comprises (Component A) an acrylate oligomer; (Component B) a thermopolymerization initiator; and (Component C) at least one of the compounds represented by Formula (1) to Formula (7); the composition not comprising or comprising at more than 0 mass % but less than 2 mass % relative to the total mass of the composition (Component D) a resin having a weight-average molecular weight of at least 10,000, wherein R 1 to R 18 independently denote a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a heterocyclic group, or a substituted heterocyclic group, L 2 denotes a divalent organic group, L 3 denotes a trivalent organic group, and L 4 denotes a tetravalent organic group.

  提供一种用于激光雕刻的组合物，可提供具有出色油墨覆盖和激光雕刻后具有出色冲洗性能的浮雕印刷版。该组合物包括（组分A）丙烯酸酯低聚物；（组分B）热聚合引发剂；以及（组分C）由式（1）至式（7）表示的至少一种化合物，该组合物不含有或相对于组合物的总质量含有不到2质量％但超过0质量％的树脂（组分D），其具有至少10,000的重均分子量，其中R1至R18独立地表示氢原子，烷基，取代烷基，芳基，取代芳基，杂环基或取代杂环基，L2表示二价有机基团，L3表示三价有机基团，L4表示四价有机基团。
• PYRAZOLO [1,5-a]PYRIMIDINE DERIVATIVE
  申请人：OTSUKA PHARMACEUTICAL FACTORY, INC.

  公开号：EP0714898A1

  公开（公告）日：1996-06-05

  The invention provides a pyrazolo[1,5-a]pyrimidine derivative of the following formula (1): wherein R¹ is hydrogen, lower alkyl which may have thienyl, lower alkoxy, lower alkylthio, oxo or hydroxyl as a substituent, cycloalkyl, thienyl, furyl, lower alkenyl, or phenyl which may have 1 to 3 substituents selected from the group consisting of lower alkyl, lower alkoxy, phenylthio and halogen; R² is naphthyl, cycloalkyl, furyl, thienyl, optionally halogen-substituted pyridyl, optionally halogen-substituted phenoxy, or phenyl which may have 1 to 3 substituents selected from the group consisting of lower alkyl, lower alkoxy, halogen, nitro, halogen-substituted lower alkyl, halogen-substituted lower alkoxy, lower alkoxycarbonyl, hydroxyl, phenyl(lower)alkoxy, amino, cyano, lower alkanoyloxy, phenyl and di(lower)alkoxyphosphoryl(lower)alkyl; R³ is hydrogen, phenyl or lower alkyl; R⁴ is hydrogen, lower alkyl, lower alkoxycarbonyl, phenyl(lower)alkyl, optionally phenylthio-substituted phenyl, or halogen; R⁵ is hydrogen or lower alkyl; R⁶ is hydrogen, lower alkyl, phenyl(lower)alkyl, or benzoyl having 1 to 3 substituents selected from the group consisting of lower alkoxy, halogen-substituted lower alkyl and halogen; R¹ and R⁵ may conjointly form lower alkylene; Q is carbonyl or sulfonyl; A is a single bond, lower alkylene or lower alkenylene; and n is 0 or 1. This derivative is useful as a potent analgesic.

  本发明提供了下式（1）的吡唑并[1,5-a]嘧啶衍生物： 其中 R¹ 是氢、可具有噻吩基、低级烷氧基、低级烷硫基、氧代或羟基作为取代基的低级烷基、环烷基、噻吩基、呋喃基、低级烯基或可具有 1 至 3 个选自低级烷基、低级烷氧基、苯硫基和卤素的取代基的苯基；R² 是萘基、环烷基、呋喃基、噻吩基、任选卤素取代的吡啶基、任选卤素取代的苯氧基或苯基，可具有 1 至 3 个取代基，这些取代基可从低级烷基、低级烷氧基、卤素、硝基和卤素组成的组中选出、低级烷氧基、卤素、硝基、卤素取代的低级烷基、卤素取代的低级烷氧基、低级烷氧基羰基、羟基、苯基（低级）烷氧基、氨基、氰基、低级烷酰氧基、苯基和二（低级）烷氧基磷酰（低级）烷基；R³ 是氢、苯基或低级烷基；R⁴ 是氢、低级烷基、低级烷氧基羰基、苯基（低级）烷基、任选的苯硫基取代苯基或卤素；R⁵ 是氢或低级烷基；R⁶ 是氢、低级烷基、苯基（低级）烷基或具有 1 至 3 个取代基的苯甲酰基，取代基可从低级烷氧基、卤素取代的低级烷基和卤素组成的组中选出；R¹ 和 R⁵ 可共同形成低级亚烷基；Q 是羰基或磺酰基；A 是单键、低级亚烷基或低级亚烯基；n 是 0 或 1。这种衍生物可用作强效镇痛剂。
• NAPHTHYRIDINE DERIVATIVES
  申请人：OTSUKA PHARMACEUTICAL FACTORY, INC.

  公开号：EP0997463A1

  公开（公告）日：2000-05-03

  The present invention provides a naphthyridine derivative represented by the formula (1) wherein A is lower alkylene; R1 is H or an electron pair "-"; R2 is optionally substituted phenyl; when R1 is an electron pair "-", R3 is a group represented by (wherein R4 and R5 each represent lower alkyl, etc.); when R1 is H, R3 is a group -S-R6 (wherein R6 is lower alkyl, etc.); and R7 is H or lower alkyl; and also provides an analgesic composition containing the above derivative as an active ingredient.

  本发明提供了一种由式（1）表示的萘啶衍生物 其中 A 是低级亚烷基；R1 是 H 或电子对"-"；R2 是任选取代的苯基； 当 R1 是电子对"-"时，R3 是由以下式表示的基团 (其中R4和R5各自代表低级烷基等）；当R1是H时，R3是一个基团-S-R6（其中R6是低级烷基等）；R7是H或低级烷基；还提供了一种含有上述衍生物作为活性成分的镇痛组合物。

表征谱图