1,3,5-tris-methanesulfonyloxy-benzene | 145106-51-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,3,5-tris-methanesulfonyloxy-benzene
• 英文别名: Tri-O-methansulfonyl-phloroglucin；1,3,5-Tris-methansulfonyloxy-benzol；methanesulfonic acid 3,5-bis-methanesulfonyloxy-phenyl ester；[3,5-bis(methylsulfonyloxy)phenyl] methanesulfonate
• CAS: 145106-51-0
• 化学式: C₉H₁₂O₉S₃
• 分子量: 360.387
• InChiKey: MLTZCFDJEBACHX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  149.5 °C(Solv: acetic acid (64-19-7))
• 沸点：
  596.3±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.604±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  155
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3,5-tris-methanesulfonyloxy-benzene 在 sodium azide 作用下， 以 异丁酰胺 为溶剂， 反应 16.5h， 生成 1,3,5-triazido-benzene
  参考文献：
  名称：

  WO2007/126262

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  间苯三酚 、 甲基磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 1,3,5-tris-methanesulfonyloxy-benzene
  参考文献：
  名称：

  WO2007/126262

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Polymer for photoresist, method of production thereof and photoresist composition containing polymer
  申请人：——

  公开号：US20020015906A1

  公开（公告）日：2002-02-07

  A polymer for a photoresist composition is given by the formula (I): 1 wherein R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is a C 1-12 linear or branched alkyl, haloalkyl or alkoxycarbonyl group, a C 5-12 cyclic alkyl, cyclic haloalkyl or cyclic alkoxycarbonyl group, a phenyl group or a naphthyl group, R 3 is a C 1-12 linear or branched alkyl or haloalkyl group, a C 5-12 cyclic alkyl or cyclic haloalkyl group, a phenyl group, or a naphthyl group, R 4 and R 5 are independently a hydrogen atom, a C 1-6 linear or branched alkyl, or a C 5-6 cyclic alkyl group, R′ and R″ are independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1-8 alkyl or alkoxy group, a hydroxy group, a carbonate group or a phenyl group, and m, n, p and q are independently an integer provided that m and q are not zero, at least one of n and p are not zero, 0.4≦m/(m+n+p+q)≦0.9, 0≦n/(m+n+p+q)≦0.5, 0≦p/(m+n+p+q)≦0.5, and 0.01≦q/(m+n+p+q)≦0.3.

  给出了一种用于光阻组合物的聚合物，其化学式为（I）：其中R1是氢原子或甲基基团，R2是C1-12线性或支链烷基，卤代烷基或烷氧羰基基团，C5-12环烷基，环卤代烷基或环烷氧羰基基团，苯基或萘基，R3是C1-12线性或支链烷基或卤代烷基，C5-12环烷基或环卤代烷基，苯基或萘基，R4和R5分别是氢原子，C1-6线性或支链烷基或C5-6环烷基基团，R'和R"分别是氢原子，卤素原子，C1-8烷基或烷氧基团，羟基，碳酸酯基或苯基，m，n，p和q是整数，其中m和q不为零，n和p中至少有一个不为零，0.4≤m/(m+n+p+q)≤0.9，0≤n/(m+n+p+q)≤0.5，0≤p/(m+n+p+q)≤0.5，0.01≤q/(m+n+p+q)≤0.3。
• Negative-working radiation-sensitive mixture, and radiation-sensitive
  申请人：Clariant GmbH

  公开号：US06063545A1

  公开（公告）日：2000-05-16

  A negative-working radiation-sensitive mixture containing a) a compound which generates a strong acid under the action of actinic radiation, b) a compound having at least two groups crosslinkable by means of acid and c) a polymeric binder which is insoluble in water and soluble or at least swellable in aqueous alkaline solutions, wherein the compound (a) comprises a di-, tri- or tetra-hydroxybenzene which may be further substituted, or a polymer containing a di-, tri-, or tetra- hydroxy phenyl radical, is esterified with respectively 2, 3 or 4 sulfonic acids of the formula R--SO.sub.3 H, and is distinguished by high resolution and high sensitivity over a wide spectral range. It also shows high thermal stability and does not form any corrosive photolysis products on exposure. A radiation-sensitive recording material produced with this mixture is suitable for the production of photoresists, electronic components, printing plates or for chemical milling.

  一种负性辐射敏感混合物，包含a）在光致辐射作用下生成强酸的化合物，b）至少具有两个能够通过酸交联的基团的化合物和c）聚合物粘合剂，其在水中不溶而在水性碱性溶液中可溶或至少可溶胀，其中化合物（a）包括可能进一步取代的二、三或四羟基苯，或含有二、三或四羟基苯基基团的聚合物，分别与2、3或4个磺酸（R-SO.sub.3 H）酯化，并具有高分辨率和高灵敏度，适用于广泛的光谱范围。它还表现出高热稳定性，并在曝光时不形成任何腐蚀性光解产物。使用此混合物制备的辐射敏感记录材料适用于生产光刻胶、电子元件、印刷版或化学铣削。
• Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0510446A1

  公开（公告）日：1992-10-28

  Die Erfindung betrifft ein negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit a) einer Verbindung, die unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine starke Säure bildet, b) einer Verbindung mit mindestens zwei durch Säure vernetzbaren Gruppen und c) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen oder zumindest quellbaren polymeren Bindemittel, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Verbindung (a) ein mit 2, 3 oder 4 Sulfonsäuren der allgemeinen Formel R-SO₃H verestertes Di-, Tri- bzw. Tetrahydroxybenzol, das ggf. noch mit einem Rest R' substituiert ist, darstellt, wobei R und R' gleiche oder verschiedene Bedeutung haben und R einen ggf. weiter substituierten (C₁-C₁₀)Alkyl-, (C₅-C₁₀)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₀)Aryl-, (C₆-C₁₀)Aryl-(C₁-C₁₀)alkyl- oder (C₃-C₉)Heteroarylrest und R' einen der für R genannten Reste, einen (C₁-C₁₀)Alkanoyl-, (C₁-C₁₆)Alkoxycarbonyl- oder einen (C₇-C₁₁)Aroylrest bezeichnet. Das erfindungsgemäße, strahlungsempfindliche Gemisch zeichnet sich durch eine hohe Auflösung und eine hohe Empfindlichkeit über einem weiten Spektralbereich aus. Es zeigt ebenso eine hohe thermische Stabilität und bildet bei Belichtung keine korrodierenden Photolyseprodukte. Die Erfindung betrifft weiterhin ein daraus hergestelltes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das zur Herstellung von Photoresists, elektronischen Bauteilen, Druckplatten oder zum Formteilätzen geeignet ist.

  本发明涉及一种消极工作的辐射敏感混合物，其中含有 a) 一种化合物，该化合物在受到辐照时会形成一种强酸、 b) 具有至少两个可交联酸性基团的化合物，以及 c) 不溶于水、可溶于或至少可溶于碱性水溶液的聚合物粘合剂、 其特征在于，化合物 (a) 是二羟基、三羟基或四羟基苯与通式为 R-SO₃H的 2、3 或 4 个磺酸酯化而成，可任选地被自由基 R'进一步取代，其中 R 和 R'具有相同或不同的含义，R 是任选被进一步取代的（C₃H）自由基。表示被进一步取代的(C₁-C₁₀)烷基、(C₅-C₁₀)环烷基、(C₆-C₁₀)芳基、(C₆-C₁₀)芳基-(C₁-C₁₀)烷基或(C₃-C₉)杂芳基，且 R' 是上述 R 的基团之一、表示(C₁-C₁₀)烷酰基、(C₁-C₁₆)烷氧羰基或(C₇-C₁₁)酰基。 本发明的辐射敏感混合物在宽光谱范围内具有高分辨率和高灵敏度的特点。它还具有高热稳定性，在光照下不会形成腐蚀性光解产物。本发明还涉及用其生产的辐射敏感记录材料，该材料适用于生产光刻胶、电子元件、印刷板或用于模制件蚀刻。
• Positive photoresist composition
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：EP0607899A2

  公开（公告）日：1994-07-27

  The present invention provides a positive photoresist composition comprising an alkali-soluble resin containing a copolymer of p-vinylphenol or a derivative thereof and styrene, a dissolution inhibitor and a photo-induced acid precursor. This positive photoresist composition exhibits excellent sensitivity and resolution while maintaining excellence in other properties such as heat resistance, film thickness retention, adhesion and profile, in the far ultraviolet ray lithography.

  本发明提供了一种正性光刻胶组合物，该组合物包含一种碱溶性树脂（含有对乙烯基苯酚或其衍生物与苯乙烯的共聚物）、一种溶解抑制剂和一种光诱导酸前体。这种正性光刻胶组合物在远紫外线光刻技术中表现出优异的灵敏度和分辨率，同时在其他性能（如耐热性、薄膜厚度保持力、附着力和轮廓）方面也保持优异。
• Method of making carbon nanotube patterned film or carbon nanotube composite material using a composition comprising carbon nanotubes surface-modified with polymerizable moieties
  申请人：Samsung Electronics Co., Ltd.

  公开号：EP1457821A1

  公开（公告）日：2004-09-15

  Disclosed herein are methods of making a negative pattern of carbon nanotubes or a polymerized carbon nanotube composite having interpenetrating polymer network(IPN) by modifying the surfaces of the carbon nanotubes with polymerizable functional groups such as oxirane and anhydride groups and subjecting the surface-modified carbon nanotubes either to a photolithography process or to a heatcuring process. By virtue of the present invention, desired patterns of carbon nanotubes can be easily made on the surfaces of various substrates, and polymerized carbon nanotube composites improved in hardening properties can be made without additional polymers.

  本发明公开了制作碳纳米管负图案或具有互穿聚合物网络（IPN）的聚合碳纳米管复合材料的方法，方法是用可聚合的官能团（如环氧乙烷基团和酸酐基团）修饰碳纳米管的表面，并将表面修饰的碳纳米管置于光刻工艺或热固化工艺中。通过本发明，可以很容易地在各种基底的表面上制作出所需的碳纳米管图案，并且无需额外的聚合物就可以制作出硬化性能更好的聚合碳纳米管复合材料。