Ν,Ν,Ν',Ν'-tetraethylformamidinium chloride | 20177-54-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: Ν,Ν,Ν',Ν'-tetraethylformamidinium chloride
• 英文别名: N,N,N′,N′-tetraethylformamidiniumchloride；N.N.N'.N'-Tetraethyl-formamidinium-chlorid；Diethylaminomethylidene(diethyl)azanium;chloride；diethylaminomethylidene(diethyl)azanium;chloride
• CAS: 20177-54-2
• 化学式: C₉H₂₁N₂*Cl
• 分子量: 192.732
• InChiKey: QDLDLIRAAPKFKY-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  85-87 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.59
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  6.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Ν,Ν,Ν',Ν'-tetraethylformamidinium chloride 、 copper(l) chloride 、 lithium hexamethyldisilazane 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 19.0h， 以67%的产率得到N,N,N′,N′-tetraethylformamidinylidene copper hexamethyldisilazide
  参考文献：
  名称：

  N-杂环和无环二氨基碳烯负载的单体铜配合物的研究

  摘要：

  评估了一系列由N-杂环和无环二氨基碳烯负载的单体铜（I）六甲基二硅叠氮化物配合物的热性能，以研究N的影响-烷基取代基和骨架特性对酰胺铜的挥发性和热稳定性的影响。该系列络合物为液体或固体，熔点范围为45–184°C。通过逐步等温TGA实验测量汽化速率，发现汽化速率在110–170°C之间。汽化焓确定为63-90 kJ / mol。1 Torr蒸气压的温度估计为143–172°C，显示出对分子量的总体依赖性。咪唑基亚烷基配合物是热不稳定的，有说服力的证据表明不饱和主链是弱点。咪唑啉亚基配合物表现出优异的热稳定性，与甲酰胺基亚胺配合物的结果相当。卡宾的空间参数，％V Bur对于以单晶X射线衍射为特征的所有配合物，计算Δi。

  DOI：

  10.1021/acs.organomet.7b00292
• 作为产物：
  描述：

  N,N-二乙基甲酰胺 在 盐酸 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 生成 Ν,Ν,Ν',Ν'-tetraethylformamidinium chloride
  参考文献：
  名称：

  Bredereck,H. et al., Chemische Berichte, 1968, vol. 101, p. 1885 - 1888

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] PROCESS FOR THE GENERATION OF THIN INORGANIC FILMS<br/>[FR] PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION DE FILMS MINCES INORGANIQUES
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2017089230A1

  公开（公告）日：2017-06-01

  The present invention is in the field of processes for the generation of thin inorganic films on substrates, in particular atomic layer deposition processes. The present invention relates to a process comprising bringing a compound of general formula (I) into the gaseous or aerosol state and depositing the compound of general formula (I) from the gaseous or aerosol state onto a solid substrate, wherein R1, R2, R3, and R4 are independent of each other an alkyl group, an aryl group or a trialkylsilyl group, M is Mn, Ni or Co, X is a ligand which coordinates M, wherein at least one X is a neutrally charged ligand, m is 1, 2 or 3 and n is at least 1 wherein the molecular weight of the compound of general formula (I) is up to 1000 g/mol.

  本发明涉及在基板上生成薄无机膜的工艺领域，特别是原子层沉积工艺。本发明涉及一种工艺，包括将通式（I）的化合物带入气态或气溶胶状态，并将通式（I）的化合物从气态或气溶胶状态沉积到固体基板上，其中R1、R2、R3和R4彼此独立地为烷基、芳基或三烷基硅基，M为Mn、Ni或Co，X为配位于M的配体，其中至少一个X为中性带电的配体，m为1、2或3，n至少为1，通式（I）的化合物的分子量最多为1000克/摩尔。
• NEW PROCESSES
  申请人：Hook David

  公开号：US20110046397A1

  公开（公告）日：2011-02-24

  The invention relates to a new process for producing NEP inhibitors or prodrugs thereof, in particular NEP inhibitors comprising a γ-amino-δ-biphenyl-α-methylalkanoic acid, or acid ester, backbone. In detail, the new processes, according to the present invention, are ultimately related to the synthesis of intermediates to prepare the above NEP inhibitors, namely compounds according to formula (1), or salt thereof, wherein R1 and R2 are, independently of each other, hydrogen or a nitrogen protecting group, and R3 is a carboxyl group or an ester group, preferably carboxyl group or alkyl ester.

  本发明涉及一种生产NEP抑制剂或其前药的新工艺，特别是包括γ-氨基-δ-联苯基-α-甲基脂肪酸或酸酯骨架的NEP抑制剂。详细来说，根据本发明，新工艺最终与合成制备上述NEP抑制剂的中间体相关，即按照公式（1）或其盐制备的化合物，其中R1和R2独立地是氢或氮保护基，R3是羧基或酯基，优选是羧基或烷基酯。
• Processes
  申请人：Hook David

  公开号：US20140243546A1

  公开（公告）日：2014-08-28

  The invention relates to a new process for producing NEP inhibitors or prodrugs thereof, in particular NEP inhibitors comprising a γ-amino-δ-biphenyl-α-methylalkanoic acid, or acid ester, backbone. In detail, the new processes, according to the present invention, are ultimately related to the synthesis of intermediates to prepare the above NEP inhibitors, namely compounds according to formula (1), or salt thereof, wherein R1 and R2 are, independently of each other, hydrogen or a nitrogen protecting group, and R3 is a carboxyl group or an ester group, preferably carboxyl group or alkyl ester.

  本发明涉及一种生产NEP抑制剂或其前药的新工艺，特别是包括γ-氨基-δ-联苯基-α-甲基脂肪酸或酸酯骨架的NEP抑制剂。具体而言，根据本发明，新工艺最终与合成中间体有关，以制备上述NEP抑制剂，即化合物公式（1）或其盐，其中R1和R2独立地为氢或氮保护基，R3为羧基或酯基，优选为羧基或烷基酯。
• Process for the generation of thin inorganic films
  申请人：BASF SE

  公开号：US10801105B2

  公开（公告）日：2020-10-13

  The present invention is in the field of processes for the generation of thin inorganic films on substrates, in particular atomic layer deposition processes. The present invention relates to a process comprising bringing a compound of general formula (I) into the gaseous or aerosol state and depositing the compound of general formula (I) from the gaseous or aerosol state onto a solid substrate, wherein R1, R2, R3, and R4 are independent of each other an alkyl group, an aryl group or a trialkylsilyl group, M is Mn, Ni or Co, X is a ligand which coordinates M, wherein at least one X is a neutrally charged ligand, m is 1, 2 or 3 and n is at least 1 wherein the molecular weight of the compound of general formula (I) is up to 1000 g/mol.

  本发明属于在基底上生成无机薄膜的工艺领域，特别是原子层沉积工艺。本发明涉及一种工艺，包括将通式(I)化合物带入气态或气溶胶态，并将通式(I)化合物从气态或气溶胶态沉积到固体基底上，其中 R1、R2、R3 和 R4 相互独立地为烷基、M是Mn、Ni或Co，X是配位M的配体，其中至少有一个X是带中性电荷的配体，m是1、2或3，n至少是1，其中通式（I）化合物的分子量最高为1000克/摩尔。
• PROCESS AND INTERMEDIATES FOR THE PREPARATION OF 5-BIPHENYL-4-YL-2-METHYLPENTANOIC ACID DERIVATIVES
  申请人：Novartis AG

  公开号：EP2245009A2

  公开（公告）日：2010-11-03