2-(4'-hydroxyphenyl)-2-(4'-aminophenyl)-propane | 837-11-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-(4'-hydroxyphenyl)-2-(4'-aminophenyl)-propane
• 英文别名: 2-(4-aminophenyl)-2-(4’-hydroxyphenyl)propane；4-(1-(4-aminophenyl)-1-methylethyl)phenol；2-(4'-hydroxyphenyl)-2-(4''-aminophenyl)propane；2-(4-aminophenyl)-2-(4'-hydroxyphenyl)-propane；2-(4-aminophenyl)-2-(4'-hydroxyphenyl)propane；2-(4-hydroxyphenyl)-2-(4-aminophenyl)propane；Phenol, 4-[1-(4-aminophenyl)-1-methylethyl]-；4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]phenol
• CAS: 837-11-6
• 化学式: C₁₅H₁₇NO
• 分子量: 227.306
• InChiKey: NFGPNZVXBBBZNF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  191-192 °C(Solv: methanol (67-56-1))
• 沸点：
  403.1±33.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.117±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  46.2
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(4'-hydroxyphenyl)-2-(4'-aminophenyl)-propane 在 吡啶 、 sodium hydride 作用下， 以 二氯甲烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 [4-[2-[4-[acetyl(methyl)amino]phenyl]propan-2-yl]phenyl] N,N-diethylcarbamate
  参考文献：
  名称：

  3,3-Diphenylpentane skeleton as a steroid skeleton substitute: Novel inhibitors of human 5α-reductase 1

  摘要：

  We designed and synthesized novel type 1 5 alpha-reductase inhibitors by using 3,3-diphenylpentane skeleton as a substitute for the usual steroid skeleton. 4-(3-(4-(N-Methylacetamido)phenyl)pentan-3-yl)phenyl dibenzylcarbamate (11k) is a competitive 5 alpha-reductase inhibitor with the IC50 value of 0.84 mu M. (C) 2007 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2007.07.039
• 作为产物：
  描述：

  双酚A 在 苯胺 作用下， 以95%的产率得到2-(4'-hydroxyphenyl)-2-(4'-aminophenyl)-propane
  参考文献：
  名称：

  Process for preparing 2-(4'-hydroxyaryl)-2-(4'-aminoaryl)-propanes

  摘要：

  一种制备通式为##STR1##的2-(4'-羟基芳基)-2-(4'-氨基芳基)-丙烷的方法，其中R代表氢或卤素原子或烷基、芳基、硝基、腈基、酰基、酰氧基或氨基基团，R.sup.1代表具有1至4个碳原子的氢原子或烷基，R.sup.2和R.sup.3独立地表示氢或卤素原子、硝基或具有1至4个碳原子的烷基，所述方法包括在0.00001到0.008摩尔的酸催化剂存在下，将（A）至少一种选择自由基为##STR2##的异丙基酚衍生物和该异丙基酚衍生物的双-到十二烯体与（B）通式为##STR3##的芳香胺反应，其中R.sup.1，R.sup.2和R.sup.3如定义，在存在或缺乏酚类溶剂的情况下。

  公开号：

  US04374272A1

文献信息

• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS WITH THERMAL ACID GENERATORS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20190085173A1

  公开（公告）日：2019-03-21

  New methods and substrates are provided that include antireflective compositions that comprise one or more thermal acid generators.

  提供了包括一个或多个热酸发生剂的防反射组分的新方法和基板。
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER
  申请人：ASANO Yuusuke

  公开号：US20120156612A1

  公开（公告）日：2012-06-21

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer that includes a repeating unit having an acid-labile group and becomes alkali-soluble upon dissociation of the acid-labile group, and a radiation-sensitive acid-generating agent. The acid-labile group has a structure shown by a general formula (1). R 1 represents a methyl group or the like, R 2 represents a hydrocarbon group that forms a cyclic structure, R 3 represents a fluorine atom or the like, R 4 represents a carbon atom, and n 1 is an integer from 1 to 7.

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括具有酸敏感基团的重复单元，在酸敏感基团解离后变为碱溶解性，并且包括辐射敏感酸发生剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7之间的整数。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。