nickel-tungsten | 51890-28-9

• 分子结构分类: 无机化合物 - 均相金属化合物 - 均相过渡金属化合物
• 英文名称: nickel-tungsten
• 英文别名: tungsten-nickel；nickel;tungsten
• CAS: 51890-28-9
• 化学式: NiW
• 分子量: 242.54
• InChiKey: MOWMLACGTDMJRV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.01
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  nickel-tungsten 、 phosphorous 以 melt 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  Dewalsky, Martin V.; Jeitschko, Wolfgang, Acta Chemica Scandinavica, 1991, vol. 45, # 8, p. 828 - 832

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  ammonium tungsten oxide pentahydrate 、 nickel(II) nitrate hexahydrate 在 ammonium hydroxide 作用下， 以 水 、 三乙二醇 为溶剂， 生成 nickel-tungsten
  参考文献：
  名称：

  揭示镍钨合金在碱性电解质中高效氢氧化催化的化学计量效应

  摘要：

  将镍与钨合金化可以调整催化表面以有利于羟基吸附，从而调整氢键网络的连接性。因此，最佳的Ni 17 W 3合金在碱中表现出优于最先进的铂催化剂的氢氧化催化活性，并且在10,000次循环后稳定运行且衰减可忽略不计。

  DOI：

  10.1002/anie.202407613
• 作为试剂：
  描述：

  四氢噻吩 在 aluminum oxide 、 nickel-tungsten 氢气 作用下， 生成 噻吩 、 丁烯 、 2-丁烯 、 丁烷
  参考文献：
  名称：

  Moravek, Vladimir; Kraus, Milos, Collection of Czechoslovak Chemical Communications, 1985, vol. 50, # 10, p. 2159 - 2169

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Development of a new electroplating process for Ni–W alloy deposits
  作者：Io Mizushima、Peter T. Tang、Hans N. Hansen、Marcel A.J. Somers

  DOI：10.1016/j.electacta.2005.04.050

  日期：2005.11

  In the present work, the effect of the complexing agents citrate, glycine and triethanolamine (TEA) on the electrodeposition of Ni–W layers from electrolytes based on NiSO4 and Na2WO4, is investigated. The investigations include measurement of the current efficiencies, determination of the tungsten content in the electrodeposits (by energy dispersive X-ray analysis), voltammetry studies and characterization

  在本工作中，研究了络合剂柠檬酸盐，甘氨酸和三乙醇胺（TEA）对基于NiSO 4和Na 2 WO 4的电解质电沉积Ni-W层的影响。研究包括电流效率的测量，电沉积中钨含量的测定（通过能量色散X射线分析），伏安法研究以及通过紫外光谱法表征复合物的形成。通过使用包含所有三种络合剂的电解质，可以实现高W含量和高电流效率。结果表明，柠檬酸盐-三乙醇胺基电解质中的少量甘氨酸对传质和沉积势均具有正面影响。
• Preparation and characterization of electroplated amorphous gold–nickel alloy film for electrical contact applications
  作者：Norihiro Togasaki、Yutaka Okinaka、Takayuki Homma、Tetsuya Osaka

  DOI：10.1016/j.electacta.2005.04.057

  日期：2005.11

  for electroplating amorphous gold–nickel alloy with the atomic ratio of unity was developed. The plating bath was prepared by adding potassium cyanoaurate(I) into a known plating bath which produces amorphous nickel-tungsten alloy. At a sufficiently high gold concentration, the alloy deposit did not contain any tungsten. The amorphous nature of the Au–Ni alloy produced in the new bath was confirmed by

  开发了一种原子比为1的无定形金镍合金的电镀方法。通过将氰基金酸钾（I）加入已知的产生无定形镍-钨合金的镀浴中来制备镀浴。在足够高的金浓度下，合金沉积物中不包含任何钨。通过使用TEM和THEED证实了新镀液中产生的Au-Ni合金的非晶态性质。确定了这种新合金的硬度，电阻率和接触电阻，并讨论了其作为电接触材料的应用结果。
• Solid state amorphisation in binary systems prepared by mechanical alloying
  作者：G. Gonzalez、A. Sagarzazu、D. Bonyuet、L. D’Angelo、R. Villalba

  DOI：10.1016/j.jallcom.2008.08.127

  日期：2009.8

  In the present work a detailed study of amorphisation in different systems prepared by mechanical alloying under the same experimental conditions was carried out, milling up to 50 and 100 h in some cases. The systems studied were: AlTi, AlNi, AlFe, FeNi, FeCo, NiMo, NiW, NiCo, MoW, CoMo. These systems were chosen to study the effect of Al-transition metal, transition metal–transition metal and also

  在目前的工作中，对在相同实验条件下通过机械合金化制备的不同系统中的非晶化进行了详细研究，在某些情况下铣削时间长达 50 和 100 小时。研究的系统是：AlTi、AlNi、AlFe、FeNi、FeCo、NiMo、NiW、NiCo、MoW、CoMo。选择这些系统来研究铝-过渡金属、过渡金属-过渡金属以及具有大小负混合热、不同和相似晶体结构、原子尺寸和扩散系数的系统的影响。对所有研究的合金进行了基于合金形成和非晶化的 Miedema 模型的计算。X 射线衍射和透射电子显微镜的实验结果表明，基于 Fe（FeNi、FeCo 和 FeAl）的体系即使在研磨 100 小时后也没有非晶化，并形成稳定的固溶体，纳米晶粒尺寸为 7 nm。NiMo、NiW、MoW 和 CoMo 系统（具有小的负混合热的系统）在研磨 50 小时后表现出非晶化。NiAl 和 TiAl 在研磨约 20 小时后形成中间非晶相，并通过进一步研磨重结晶成
• A simple MOD method to grow a single buffer layer of Ce0.8Gd0.2O1.9 (CGO) for coated conductors
  作者：Min Liu、Dongqi Shi、Hongli Suo、Shuai Ye、Yue Zhao、Yonghua Zhu、Qi Li、Lin Wang、Ahn Jihyun、Meiling Zhou

  DOI：10.1016/j.physc.2009.01.017

  日期：2009.3

  A single Ce0.8Gd0.2O1.9 (CGO) buffer layer was successfully grown on the home-made textured Ni-5 at.%W (Ni-5W) substrates for YBCO coated conductors by a simple metal-organic deposition (MOD) technique. The precursor solution was prepared using a newly developed process and only contained common metal-organic salts of both Ce and Gd dissolved into a propionic acid solvent. The precursor solution at 0.4 M concentration was spin coated on short samples of Ni-5W substrates and heat-treated at 1100 degrees C in a mixture gas of 5% H-2 in Ar for an hour. X-ray studies indicated that the CGO films had good out-of-plane and in-plane textures with full-width-half-maximum values of 4.18 degrees and 6.19 degrees, respectively. Atomic force microscope (AFM) investigations of the CGO films revealed that most of the grain boundary grooves on the Ni-5W surface were found to be well covered by CGO layers, which had a fairly dense and smooth microstructure without cracks and porosity. These results indicate that our MOD technique is very promising for further development of single buffer layer architecture for YBCO coated conductors, due to its low cost and simple process. (C) 2009 Elsevier B.V. All rights reserved.
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Ni: MVol.B3, 206, page 1227 - 1230
  作者：

  DOI：——

  日期：——