Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
申请人:Agfa-Gevaert AG
公开号:EP0933682A2
公开(公告)日:1999-08-04
Die Erfindung betrifft Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid, ein positiv oder negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, das a) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und b) mindestens eine strahlungsempfindliche Verbindung enthält, wobei das Bindemittel ein Polymer mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid der Formel (I)
umfaßt. Die Erfindung betrifft ferner ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Schicht, wobei die Schicht aus dem genannten Gemisch besteht. Das Aufreichnungsmaterial ist besonders geeignet zur Herstellung von chemikalienbeständigen Reliefaufzeichnungen. Die aus dem Aufreichnungsmaterial hergestellten Flachdruckplatten lassen eine hohe Druckauflage zu und sind resistent gegen Verarbeitungschemikalien.
本发明涉及具有 N-取代马来酰亚胺单元的聚合物,一种正作或负作辐射敏感混合物,它包含 a) 不溶于水且可溶于碱性水溶液的聚合物粘合剂和 b) 至少一种辐射敏感化合物,粘合剂包括具有式 (I) N-取代马来酰亚胺单元的聚合物。
.本发明还涉及一种记录材料,它包括一个支撑层和一个辐射敏感层,其中辐射敏感层由上述混合物组成。该涂层材料特别适用于生产耐化学腐蚀的浮雕记录材料。用该涂层材料制作的平面印刷版可实现较高的印刷量,并且耐化学加工。