3-[2,2-bis(2-cyanoethoxymethyl)-3-hydroxy-propoxy]propanenitrile | 159736-80-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 3-[2,2-bis(2-cyanoethoxymethyl)-3-hydroxy-propoxy]propanenitrile
• 英文别名: [hydroxymethyl-tris-(2-cyanoethoxymethyl)methane]；3-[2,2-Bis(2-cyanoethoxymethyl)-3-hydroxypropoxy]propanenitrile
• CAS: 159736-80-8
• 化学式: C₁₄H₂₁N₃O₄
• 分子量: 295.338
• InChiKey: RUQQPEBSTNFNEA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  566.1±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.151±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.7
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  13
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.79
• 拓扑面积：
  119
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-[2,2-bis(2-cyanoethoxymethyl)-3-hydroxy-propoxy]propanenitrile 在 吡啶 、 palladium on activated charcoal 、 氢气 、 triethylamine tris(hydrogen fluoride) 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  [EN] CONJUGATED ANTISENSE COMPOUNDS AND THEIR USE
  [FR] COMPOSÉS ANTISENS CONJUGUÉS ET LEUR UTILISATION

  摘要：

  本文提供了具有共轭基团的寡聚化合物。在某些实施例中，这些寡聚化合物与N-乙酰半乳糖结合。

  公开号：

  WO2014179620A1
• 作为产物：
  描述：

  2-(羟甲基)-2-(苯基甲氧基甲基)丙烷-1,3-二醇 在 palladium on activated charcoal 、 氢气 、 potassium hydroxide 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 48.0h， 生成 3-[2,2-bis(2-cyanoethoxymethyl)-3-hydroxy-propoxy]propanenitrile
  参考文献：
  名称：

  WO2019241789A5

  摘要：

  公开号：

  WO2019241789A5

文献信息

• [EN] TARGETED THERAPEUTIC NUCLEOSIDES AND THEIR USE<br/>[FR] NUCLÉOSIDES THÉRAPEUTIQUES CIBLÉES ET LEUR UTILISATION
  申请人：ISIS PHARMACEUTICALS INC

  公开号：WO2015042447A1

  公开（公告）日：2015-03-26

  Provided herein are compounds comprising one or more therapeutic nucleosides and one or more targeting groups. In certain embodiments, the compounds further comprise one or more oligonucleotides. In certain embodiments, a targeting group comprises one or more N-Acetylgalactosamine.

  本文提供的化合物包括一个或多个治疗性核苷和一个或多个靶向基团。在某些实施例中，这些化合物进一步包括一个或多个寡核苷酸。在某些实施例中，一个靶向基团包括一个或多个N-乙酰半乳糖胺。
• 新規オキセタン化合物及びそのポリマー
  申请人：国立大学法人山口大学

  公开号：JP2015205849A

  公开（公告）日：2015-11-19

  【課題】二次電池用の固体電解質として使用可能な伝導性の高いポリマー及びその原料のモノマーを提供すること。【解決手段】式（１）で表されるオキセタン化合物、及び該化合物を重合させたポリマーを含む固体電解質。［Ｒ１はＣ１〜６のアルキル基；Ｒ２はＣ１〜４のアルキレン基；Ｒ３〜Ｒ５は各々独立して、Ｈ、Ｃ１〜１０のアルキル基、又は式（２）で表される末端にニトリル基を有する基（Ｒ６は、エーテル（−Ｏ−）、スルフィド（−Ｓ−）及びアミン（−ＮＨ−）から選択される基を１又は２以上含んでもよいＣ１〜１０のアルキレン基、波線は炭素原子に対する共有結合）ただし、Ｒ３〜Ｒ５の少なくとも一つは式（２）で表される末端にニトリル基を有する基］【選択図】なし

  提供可用于固体电解质的高导电性聚合物及其单体的课题。固体电解质包括由式（1）表示的氧杂环化合物和由该化合物聚合而成的聚合物。[R1为C1-6的烷基；R2为C1-4的亚烷基；R3-R5分别独立地为H、C1-10的烷基，或具有末端具有腈基的基（R6为醚（-O-）、硫醚（-S-）和胺（-NH-）中选择的基，可以包含1个或2个以上的C1-10的亚烷基，波浪线表示与碳原子的共价键）但是，R3-R5中至少有一个基具有末端具有腈基的基，如式（2）所示]【无选图】
• Chemically-defined non-polymeric valency platform molecules and
  申请人：La Jolla Pharmaceutical Company

  公开号：US05552391A1

  公开（公告）日：1996-09-03

  Chemically-defined, non-polymeric valency platform molecules and conjugates comprising chemically-defined valency platform molecules and biological or chemical molecules including polynucleotide duplexes of at least 20 base pairs that have significant binding activity for human lupus anti-dsDNA autoantibodies.

  化学定义的、非聚合物的价平台分子和共轭物，包括化学定义的价平台分子和生物或化学分子，其中包括至少20个碱基对的多核苷酸双链，对人类红斑狼疮抗-dsDNA自身抗体具有显著结合活性。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。