diisopropylethylamine hydrofluoride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: diisopropylethylamine hydrofluoride
• 英文别名: N-ethyl-N-propan-2-ylpropan-2-amine;hydrofluoride
• 化学式: C₈H₁₉N*FH
• 分子量: 149.252
• InChiKey: UQAWLANFHBJLBU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.28
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  3.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N,N-二异丙基乙胺 在 氢氟酸 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 生成 diisopropylethylamine hydrofluoride
  参考文献：
  名称：

  氟代醇的区域选择性形成及其向氟代烯烃的立体选择性转化

  摘要：

  当用叔丁醇钾在四氢呋喃中处理时，衍生自氟代醇的对甲苯磺酸盐可高收率地提供氟代烯烃（例如Z-或E-3）。氟代醇可容易地和立体选择性地通过将氟化氢反平面添加到环氧乙烷中而立体选择性地获得。如果在甲苯介质中使用氟化氢/吡啶混合物，则末端环氧化物优先生成2-氟-1-烷醇（例如4），而主要的1-氟-2-链烷醇（例如5）是由与“Hünig's氟化氢”的反应产生的”（即氟化氢与N的加合物-乙基二异丙基-胺）。用2-羟甲基取代的环氧乙烷，如果不是排他性的话，主要（如果不是排他的话）获得3-氟-1,2-链烷二醇（例如11）。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)86761-2
• 作为试剂：
  描述：

  烯丙基丙二酸二乙酯 在 四(三苯基膦)钯 sodium hydride 、 diisopropylethylamine hydrofluoride 、 三乙胺 、 三苯基膦 、 亚磷酸三乙酯 、 sodium 2-ethylhexanoic acid 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 、 乙酸乙酯 、 苯甲醚 、 xylene 为溶剂， 反应 28.0h， 生成 (2R,7S,8S)-9-oxo-8_t-[(R)-1-hydroxyethyl]-1-azatricyclo[5.2.0.0^2,4]nonane-2,6,6-tricarboxylic acid 6,6-diethyl ester
  参考文献：
  名称：

  经由分子内卡宾加成双键，合成（3,4）β-亚甲基cepham和（3,4）β-亚甲基-carbacepham。

  摘要：

  合成了一系列新的（3,4）β-亚甲基cepham和carbacepham类似物作为潜在的抗菌剂。合成的关键步骤包括通过草酸亚乙基三酯从草酰亚胺酰亚胺中生成卡宾物种，以及将其分子内加成至双键。通过NMR和X射线晶体学已经阐明了三环系统的立体化学。在初步筛选中，两种合成的化合物对多种细菌菌株均表现出适度的抗菌活性，浓度为1.5-2.0 mg / mL。

  DOI：

  10.1016/s0968-0896(03)00084-1

文献信息

• Method of preparing monofluoromethyl ethers
  申请人：Baxter International Inc.

  公开号：US05886239A1

  公开（公告）日：1999-03-23

  A method of preparing fluoromethyl 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl ether (sevoflurane) and structurally related monofluoromethyl ethers in which the monochloromethyl ether precursor thereof is reacted with a sterically hindered tertiary amine hydrofluoride salt.

  一种制备氟甲基2,2,2-三氟-1-(三氟甲基)乙醚（七氟醚）及结构相关的单氟甲基醚的方法，其中单氯甲基醚前体物与立体位阻的三级胺氢氟化物盐反应。
• [EN] METHOD OF PREPARING MONOFLUOROMETHYL ETHERS<br/>[FR] PROCEDE DE PREPARATION D'ETHERS DE MONOFLUOROMETHYLE
  申请人：BAXTER INTERNATIONAL INC.

  公开号：WO1999026910A1

  公开（公告）日：1999-06-03

  (EN) A method of preparing fluoromethyl 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl ether (sevoflurane) and structurally related monofluormethyl ethers in which the monochloromethyl ether precursor thereof is reacted with a sterically hindered tertiary amine hydrofluoride salt.(FR) On décrit un procédé de préparation d'éther de fluorométhyle 2,2,2-trifluoro-1-(trifluorométhyl)éthyle (sévoflurane) et d'éthers de fluorométhyle ayant une structure apparentée. Dans le procédé, on fait réagir le précurseur d'éther de monochlorométhyle avec un sel hydrofluorure d'amine tertiaire à empêchement stérique.

  一种制备氟甲基2,2,2-三氟-1-(三氟甲基)乙基醚（七氟醚）及其结构相关的单氟甲基醚的方法，其中其单氯甲基醚前体物与具有立体阻碍的三级胺氢氟化物盐反应。
• Removal of water from a mixture comprising hydrogen fluoride and water
  申请人：Halocarbon Products Corporation

  公开号：EP2272816A1

  公开（公告）日：2011-01-12

  A process for removing water from a mixture comprising hydrogen fluoride and water, said process comprising: a) providing a mixture comprising hydrogen fluoride and water; and b) removing water from the mixture as a constant boiling mixture with hydrogen fluoride.

  一种从由氟化氢和水组成的混合物中去除水的工艺，所述工艺包括 a) 提供由氟化氢和水组成的混合物；以及 b) 从混合物中除去作为氟化氢恒沸混合物的水。
• Semiconductor process residue removal composition and process
  申请人：——

  公开号：US20030228990A1

  公开（公告）日：2003-12-11

  A residue remover for removing polymeric material and etch residue includes 2-(2-aminoethylamino)-ethanol and optionally another two-carbon atom linkage alkanolamine compound, gallic acid or catechol, water, a polar organic solvent, and hydroxylamine. A process for removing photoresist or other residue from a substrate, such as an integrated circuit semiconductor wafer including titanium metallurgy, includes the steps of contacting the substrate with the above composition for a time and at a temperature sufficient to remove the photoresist or other residue from the substrate. Use of 2-(2-aminoethylamino)-ethanol in the composition and process provides superior residue removal without attacking titanium or other metallurgy on the substrate. The composition preferably has a flash point greater than about 130° C.

  一种用于去除聚合物材料和蚀刻残留物的残留物去除剂包括 2-(2-氨基乙基氨基)-乙醇和可选的另一种双碳原子连接的烷醇胺化合物、没食子酸或儿茶酚、水、极性有机溶剂和羟胺。从基底（如包括钛冶金的集成电路半导体晶片）上去除光阻或其他残留物的工艺包括以下步骤：在足以从基底上去除光阻或其他残留物的时间和温度下，将基底与上述组合物接触。在组合物和工艺中使用 2-（2-氨基乙基氨基）-乙醇，可以在不破坏基底上的钛或其他金属的情况下，出色地去除残留物。组合物的闪点最好高于约 130 摄氏度。
• Cleaning compositions containing hydroxylamine derivatives and processes using same for residue removal
  申请人：——

  公开号：US20040147420A1

  公开（公告）日：2004-07-29

  The present invention is directed to resist and etching residue removing compositions containing at least one nucleophilic amine compound possessing reduction and oxidation potentials, a two-carbon atom linkage alkanolamine compound, and optionally water and/or one or more corrosion inhibitors. The compositions may be substantially free of hydroxylamine, polar organic solvents, water, corrosion inhibitors, or a combination thereof. The compositions are useful in processes for removing resists and etching residue from metal or metal alloy substrates or substrate layers used in micro-circuitry fabrication.

  本发明涉及抗蚀剂和蚀刻残留物去除组合物，该组合物含有至少一种具有还原和氧化电位的亲核胺化合物、一种双碳原子链烷醇胺化合物，以及水和/或一种或多种腐蚀抑制剂。组合物可以基本上不含羟胺、极性有机溶剂、水、腐蚀抑制剂或它们的组合。这些组合物可用于去除微电路制造中使用的金属或金属合金基底或基底层上的抗蚀剂和蚀刻残留物。